【課題】 基板表面全体で均一な濡れ性を確保できる処理を基板に施す基板表面処理装置を提供する。
【解決手段】 基板表面処理ライン２は、機能液塗布装置４、紫外線照射装置６、乾燥装置８、ベルトコンベアＢＣ、駆動装置１２及び制御装置１０により構成されている。機能液塗布装置４においては、ベルトコンベアＢＣにより搬送された基板上に酸化チタンを含む機能液を塗布する。紫外線照射装置６においては、ベルトコンベアＢＣにより搬送された機能液が塗布された基板に紫外線を照射する。そして、乾燥装置８においては、ベルトコンベアＢＣにより搬送された基板に、例えば、熱風を吹き付けることにより基板上に塗布された機能液を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】医療装置を治療の時点でチャンバ内に設置することができる環境制御された装置コーティング・チャンバを備える医療装置を治療の時点でポリマーまたは治療薬で被覆するための装置を提供する。
【解決手段】環境制御されたチャンバは、ポリマーおよび治療薬を、塗布し、必要に応じて、制御され再現できる状態で他の形（被膜またはゲルになる液体など）に変換することができる滅菌エンクロージャを提供する。チャンバは、フィルム・ヒータが発生する熱のような内部のエネルギー源、およびエンクロージャを通過する紫外線またはマイクロウェーブのような外部エネルギー源の両方を提供する。このチャンバを使用すれば、ある気体の導入、および圧力または真空の導入のようなコーティングに影響を与える雰囲気内の変動があっても大丈夫である。 （もっと読む）

【課題】 スピンコート中に照射する紫外線等の放射線の照射領域をより正確に制御する。
【解決手段】 光記録媒体の回転径Ｄ０よりも大きい第１の開口部１１１ａが形成された下部カバー１１１及び回転径Ｄ０よりも小さい第２の開口部１１２ａが形成された上部カバー１１２を有するスピンカップ１１０と、光記録媒体１０を第１の開口部１１１ａからスピンカップ１１０内に供給するとともに、スピンカップ１１０内に供給された光記録媒体１０を回転させる駆動部１２０と、光記録媒体１０の表面に塗布された塗布液に第２の開口部１１２ａを介して放射線を照射する照射部１３０とを備える。これにより、スピンカップ１１０の上部カバー１１２が紫外線等の放射線マスクを兼ねることができることから、全体の機構を複雑化させることなく、放射線の照射領域を非常に正確に制御することが可能となる。 （もっと読む）

本発明は、高エネルギの放射線の照射によって不活性ガス雰囲気下で放射線硬化可能な材料を硬化させることにより基材上の成形材料および被覆体を製造するための装置および方法に関する。
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【課題】 作業環境内への不活性ガスの漏洩を極力抑制し、安全性の高い紫外線照射装置を提供するる。
【解決手段】 空気より重い不活性ガスを入れるための容器３を備え、この容器３内に被照射物５を入れて紫外線照射を行う紫外線照射装置１である。
容器３には、底壁部７と、この底壁部７から立設された筒状の内側壁部９と、この内側壁部９を外側から囲む筒状の外側壁部１１が備えられている。内側壁部９は、その上端よりも所定位置下がった位置に開口１５が形成され、内側壁部９と外側壁部１１との間の外側空間３１には排気手段としての排気ブロア２９が接続されている。 （もっと読む）

本発明は、インクもしくはワニスコーティングのようなコーティングを架橋する操作を、制御された残存酸素含有率を有するガス混合物の存在下に、紫外線または電子線により行う装置に関する。この装置は、前記架橋操作を行うために必要な１またはそれ以上のＵＶランプまたは加速電子線源を有するチャンバを備え、前記チャンバに隣接し、処理すべき走行する製品から連続的に見て、少なくとも次の３つの構成要素、すなわち迷路システム、ガスナイフを形成する不活性ガスを注入するための手段、およびチャンネルを備える入口デバイスを含むことを特徴とする。
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【課題】海洋物品に生物が付着するのを防止するコーティング、海洋物品（１２）にコーティングを適用する方法に係わる。
【解決手段】海洋の物品（１２）の表面に適用する海洋生物付着防止コーティング（１０）。コーティング（１０）は、自己平滑性、自己硬化性のエポキシ樹脂プライマー接着剤（１４）、接着性変性エポキシ樹脂バインダー接着剤（１６）及び細粒化された銅ニッケル合金（１８）から構成される。 （もっと読む）

マイクロエレクトロニックデバイスのような硬化性塗膜基板を効率的で高速に接触平坦化するための改良した装置（２０）および方法を提供し非常に高度な平坦化を達成する。装置（２０）は好ましくは光学的に平面である柔軟シート（８８）および支援の光学的平面体（８２）を持つ平坦化ユニット（２８）、および硬化アセンブリ（３０）を含む。操作においては、平坦化塗膜（７６）を持つ基板（７８）を真空チャンバー（２６）内のシート（８８）および平面体（８２）の下に置く。シート（８８）を隔てて圧力差を設けることによりシートをたわませ塗膜（７６）の中央領域Ｃと接触させ、それからすぐ塗膜（７６）はサポート（１１４）および真空チャック（１２０）を用いてシート（８８）および平面体（８２）と全平坦化接触させ、この時点で塗膜（７６）はアセンブリ（３０）を用いて硬化される。硬化後、シート（８８）を隔てて圧力差をつくり出し、シートを塗膜の周辺部Ｐから、そしてシート（８８）および塗膜（７６）を全面的に逐次分離する。 （もっと読む）