微細複製物品を作製する装置が開示されている。この装置は第１の直径を有する第１のパターン化ロール（４５０）と、第２の直径を有する第２のパターン化ロール（４７４）とを含む。駆動アセンブリが含まれており、駆動アセンブリは、第１および第２のロールが約１００マイクロメートル以内の連続位置合わせを維持するように、第１のパターン化ロール（４６０）と第２のパターン化ロール（４７４）とを回転させるように構成されている。第２の直径は第１の直径より０．０１〜１パーセント大きい。微細複製物品を作製する方法も開示されている。
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本発明は、スプレーノズル及び少なくとも一つの化学照射線出口を有する、コーティングを施与するためのスプレーガンにおいて、少なくとも一つの化学照射線出口が外部に配置されており、かつ該照射出口及びスプレーノズルが、コーティングされるべき基体に同時に向けることができることを特徴とするスプレーガン、及び化学照射線により少なくとも部分的に硬化可能であるところのコーティング組成物を施与する方法に関する。本発明に従うスプレーガンは、たとえ、化学照射線により開始と硬化反応の実際の開始との間の誘導期間がないとしても、化学照射線硬化性コーティング組成物の全てのタイプのために適している。施与直後のコーティング物質の流れと乾燥速度とのバランスが特に有利である。
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【課題】 洗浄液が揮発することによって発生するガスの乾燥装置の発熱による発火を規制する。
【解決手段】 各印刷ユニット３Ａないし３Ｄの圧胴９の近傍にＵＶランプを備えた乾燥装置３０が設けられ、ゴム胴８と圧胴９には洗浄装置１８が備えられている。各乾燥装置３０の近傍には、洗浄装置１８から供給された洗浄液の溶剤が揮発することにより発生するガスの濃度を検出するガス濃度検知センサ３５が設けられている。各ガス濃度検知センサ３５からの出力値と、予め設定された設定値とを比較して設定値よりも高いとき、乾燥装置３０のＵＶランプ３１の点灯を停止させる制御装置３６が設けられている。 （もっと読む）

【課題】基材から剥がれ難い塗膜を形成する。
【解決手段】塗液を滴下する滴下部と、基材を回転させる回転機構と、塗液に放射線を照射して硬化させる硬化処理部と、制御部とを備えて、塗液を展延して硬化させた塗膜を基材の一面に形成可能に構成され、制御部は、滴下部を制御して基材の中央部に塗液を滴下させる滴下処理と（時間ｔ０〜ｔ１）、回転機構を制御して基材の回転速度を上昇させて中央部に滴下させた塗液を展延する第１の回転速度上昇制御処理と（時間ｔ１〜ｔ２）、回転機構を制御して所定の回転速度まで基材の回転速度を低下させる回転速度低下制御処理とを実行した後に（時間ｔ２〜ｔ３）、回転機構を制御して基材の回転速度を上昇させて塗液をさらに展延する第２の回転速度上昇制御処理と（時間ｔ４〜ｔ５）、硬化処理部を制御して塗液に放射線を照射させて硬化させる硬化処理とを実行する。 （もっと読む）

本発明は、工業的もしくは医療的に適用可能なデバイスなどのデバイスを被覆する被覆装置および方法を提供する。上記装置は、光活性化可能な化合物および重合可能な化合物を用いて被覆を提供し得る。別の見地において上記装置および方法は、当該デバイスの表面が小さな空隙もしくは開孔を有するというデバイスを被覆するに有用である。上記装置は、被覆されるべき対象物と被覆溶液とを保持し得る各容器と、溶液に対して気体を供給する気体供給源と、被覆プロセスにおいて使用される光を提供する照射ステーションと、上記容器を上記照射ステーションに対し且つ該照射ステーションから導向するコンベア機構とを含む。
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【課題】 液状材料が膜パターン形成領域から流出したり、膜パターン形成領域外に濡れ広がったりすることを抑制して、所定のパターン形状及び厚さの膜パターンを形成することができる、膜パターン形成方法、膜パターン、レジスト膜、及び絶縁膜、並びに回路基板、半導体装置、表面弾性波デバイス、表面弾性波発振装置、電気光学装置、及び電子機器を実現する。
【解決手段】 液状材料の液滴４を吐出して、基板１の面上に着弾させ、レジスト膜９を形成する領域２の周縁部に配置し、固化させた周縁帯膜７ａに囲まれた領域内に液状材料を充填する。充填された液状材料を固化して中央膜８を形成し、周縁帯膜７ａと中央膜８とで、レジスト膜９を形成する。絶縁膜も同様にして形成され、回路基板、半導体装置、表面弾性波デバイスは、上記膜を備え、電気光学装置は当該半導体装置を備え、電子機器は上記電気光学装置、回路基板、表面弾性波発振装置を備える。 （もっと読む）

【課題】 インクジェット法を用いて、乾燥ムラおよび端部の盛り上がりのない機能性膜を形成すること。
【解決手段】 液滴吐出装置は、基体へ複数の液滴を吐出するヘッドと、吐出された前記複数の液滴のそれぞれの着弾時点から同じ時間長さだけ、前記基体上の前記複数の液滴のそれぞれに光を照射する光照射装置と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】コーティング溶液の硬化処理を短時間に行うことにより、生産性を向上させる光学レンズのコーティング装置を提供する。
【解決手段】光線照射装置１５１を、ＵＶランプ１５３と、それぞれ異なった特定範囲の波長を透過、遮断する第１、第２の光学フィルター１６４，１６５と、第１、第２の光学フィルター１６４，１６５をＵＶランプ１５３と光学レンズ２との間に選択的に介在させるフィルター切替機構１６２とで構成する。第１の光学フィルター１６４は、遮断波長が第２の光学フィルター１６５の遮断波長より相対的に長い。コーティング溶液の硬化開始から一定時間経過するまでは第１の光学フィルター１６４をＵＶランプ１５３と光学レンズ２との間に介在させ、一定時間経過後は第２の光学フィルター１６５をＵＶランプ１５３と光学レンズ２との間に介在させる。 （もっと読む）

本発明では液滴吐出装置から吐出された液滴が基板に着弾した後の位置制御を改善することが可能なパターンの作製方法を提供する。また着弾後の液滴位置精度を改善することが可能な液滴吐出装置を提供する。更には、本発明の液滴吐出装置を用いた半導体装置の製造方法を提供する。
本発明は、吐出部から吐出された液滴、又は液滴を着弾する基板にレーザ光を照射して、液滴の着弾位置を制御することを特徴とする。本発明によりフォトリソグラフィー工程を用いることなくパターンを形成することが可能である。
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【課題】基材に形成された画像をパターンを通して観察すると、立体視効果、モアレ効果等の特殊視覚効果を得ることのできるパターン形成方法、さらにはＣＣＤ撮像素子、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬ表示装置等にも応用可能なパターン形成方法、及びパターン形成装置を提供する。
【解決手段】基材１の表面に形成されたパターン形成用区画線間５に、このパターン形成用区画線を形成する樹脂に対して相溶性のないパターン形成用樹脂組成物６を、前記パターン形成用区画線が形成された基材の表面を下に向けた状態で塗工し、基材の下に向けられた表面にパターン形成用樹脂組成物が保持された状態に維持することによりパターン形成用区画線間にあるパターン形成用樹脂組成物を下に凸状の形状にし、硬化させることによりパターン３を形成するパターン形成方法、パターン形成装置である。 （もっと読む）

【課題】 積層体の塗工層を紫外線照射により硬化させる際に、作業速度の低下、塗工層の硬化ムラが発生せず、かつ基材と塗工層の密着性がよい積層体を製造するための塗工装置、製造方法ならびに該装置及び該製造方法により製造される積層体を提供する。
【解決手段】 積層体に紫外線を照射する紫外線照射装置を有する塗工装置において、該積層体の一方の面に紫外線を照射する第１の紫外線照射装置と、該積層体の他方の面に紫外線を照射する第２の紫外線照射装置、とからなる塗工装置。 （もっと読む）

【課題】高圧水銀灯、紫外線レーザー、または紫外線ＬＥＤの発光を硬化光源とする紫外線硬化型接着剤硬化装置において、放射される紫外線を直接可視発光して紫外線照射の有無が安全容易に目視確認できるようにするとともに、照射光量を管理して、高効率の接着装置とする。
【解決手段】紫外線照射を接着剤近傍で受光して蛍光発光する蛍光発光部材１１を設ける。具体的には、紫外線硬化型接着剤が塗布されたワークＷの接着剤が硬化完了するまで仮に接着部位を固定しておくための治具５・６に蛍光発光部材１１を組み込む。蛍光発光部材１１は蛍光ガラスである。蛍光発光部材１１が発光する蛍光スペクトルは400nm〜1100nmの範囲に設定されている。蛍光発光部材１１の発光の残光特性は、発光100%→1%となる残光時間が1/4秒以下である。蛍光発光部材１１の紫外線受光部とは異なる位置に蛍光発光が取り出せる開口窓１３を設ける。 （もっと読む）

反応を助長する流体フローに関連して、作業対象の表面または表面下での反応に関するシステムおよび方法を開示する。いくつかの実施形態では、反応の助長は、（１）表面を所定タイプの光に露光させている間に、表面上に不活性流体の流体フローを形成するステップ、（２）作業表面または作業表面下で所定の態様で別の種と反応する反応種を含む流体フローを形成するステップ、または（３）例えば所定タイプの光に露光させている間に、所定の態様で反応の触媒作用を行う触媒種を含む流体フローを形成するステップ、のうちの少なくともいずれかによって行われる。いくつかの実施形態では、光源は、複数の固体光源の密なアレイ等の固体光源を含むものを使用する。このような実施形態のうちの少なくとも１つの実施形態では、反応は光源に関連した光化学反応である。 （もっと読む）

【課題】 リールツーリール方式と液滴吐出方式とを用いたパターン形成技術を確立する。
【解決手段】 リールツーリール方式と液滴吐出方式により、帯状基板上にパターンを形成する。そして、液体材料を配置する空間に隣接する空間での所定処理の間、液体材料の配置を休止する。 （もっと読む）

【課題】インクがメディアに落下した後、紫外線が当たるまでの時間を制御できるようにして、インクのレベリング（平滑性）を制御し、インク滴の硬化状態を所望の状態に制御できるようにする。
【解決手段】インク吐出型の印字ヘッドを搭載したヘッド部１０と、該ヘッド部１０の横に配設された紫外線照射装置１６と、メディア８０を支持するためのテーブル３６と、印字制御信号を出力する制御回路部４０とを備え、ヘッド部１０をテーブル３６に対して１軸方向に相対移動し、該ヘッド部１０の印字ヘッド１０ａによってテーブル３６上のメディア８０に紫外線硬化型のインクを吐出し、該メディア８０に印字を行うとともに、印字直後のメディア８０上の印字部分に紫外線を照射しインクを硬化させる。制御回路部４０は、印字時の前記ヘッド部１０の前記テーブル３６に対する１軸方向の相対的移動速度を任意に変更する速度変更手段を構成する。 （もっと読む）

【課題】テーブル上のメディアを掴み易くしメディア交換にかかる時間を短縮して、製品の生産性の高い、メディア上に高精度に線を描くための描画装置を提供する
【解決手段】ヘッド部１０とテーブル３６とを備え、ヘッド部１０とテーブル３６の中、一方のみをＸＹ２軸の中の１軸方向に駆動する搬送機構に連係し、ヘッド部１０によってテーブル３６上のメディア８０に印字を行う描画装置であって、テーブル３６のメディア載置面に、テーブル３６上のメディア下面とは高さが違う場所を一部分に設ける。この高さが違う場所は、テーブル３６上にシート材８８を配置することで形成される。また、この高さが違う場所はテーブル３６に切り欠き９０を設けることで形成される。また、テーブル３６上のメディア８０を掴み易くするため、テーブル３６をメディア８０より小さくし、テーブル３６からメディア８０をはみ出させ、該メディア８０の下面の一部分を開放する。 （もっと読む）

【課題】印字スピードを上げても充分な紫外線照射量を確保することができる、製品の生産性の良い、メディア上に高精度に線を描くための描画装置を提供する。
【解決手段】描画装置は、ヘッド案内部材４に沿って１軸方向に移動可能なインク吐出型の印字ヘッド１０ａを搭載したヘッド部１０と、該ヘッド部１０の横に配設され一方向に長い開閉自在な照射口２４を有する紫外線照射装置１６と、メディアを支持するためのテーブル３６とを備え、ヘッド部１０の印字ヘッド１０ａによってテーブル３６上のメディア８０に紫外線硬化型のインクを吐出し該メディア８０に印字を行うとともに、メディア８０に紫外線を前記照射口２４から照射する。紫外線照射口２４は、ヘッド部１０のテーブル３６に対する相対的移動方向に対して平行に配置される。 （もっと読む）

【課題】外周縁部において上方に大きく突出する凸部の存在しない塗膜を製造コストを高騰させることなく形成し得る塗膜形成装置を提供する。
【解決手段】基材の一面側に樹脂材料Ｒを滴下する滴下部３１と、基材を回転させる回転部３２と、樹脂材料Ｒに紫外線を照射するエネルギー線照射部３４と、紫外線の照射を規制する照射規制部３３と、制御部３６とを備えて基材の一面側に塗膜を形成可能に構成され、制御部３６は、滴下部３１に対して樹脂材料Ｒを滴下させると共に回転部３２に対して基材を回転させることによって樹脂材料Ｒを展延させた後に、回転部３２に対して基材を所定の回転速度で回転させた状態でエネルギー線照射部３４に対して基板の一面側に向けて紫外線を照射させると共に照射規制部３３に対して基材の一面における外周縁部上の樹脂材料Ｒへの紫外線の照射を規制させる。 （もっと読む）

【課題】低酸素濃度の下で塗布膜を硬化させ、塗布層の品質（硬度、密着性、 等）を向上させるとともに、不活性ガスの使用量を抑えることができる塗布膜の硬化方法、装置及び光学フィルムを提供する。
【解決手段】走行する帯状の支持体１６の表面に形成された塗布膜に紫外線照射手段５０により紫外線を照射して塗布膜を硬化させる塗布膜の硬化方法。紫外線照射手段の照射面に対し、所定間隔をもって対向させて支持体の表面を配置するとともに、照射面の周縁より支持体に向かって張り出し部材５６Ａを延設し、張り出し部材により照射面と支持体との間に密閉空間を形成し、密閉空間内部に不活性ガスを供給しながら紫外線を照射する方法である。張り出し部材５６Ａの先端部を１５０°Ｃ以上の耐熱性を有する樹脂材又は１５０°Ｃ以上の耐熱性を有するゴム材で形成するとともに、張り出し部材の先端部と支持体の表面との間隔を５ｍｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】品質の安定した透明層を製造することが可能な光情報記録媒体用の透明層の製造装置を提供する。
【解決手段】基材フィルムとなるベースＢの原反１からベースＢを搬送させつつベースＢにハードコート層を形成して、光情報記録媒体用の透明層を製造する光情報記録媒体用の透明層の製造装置１０であって、ベースＢにハードコート層を形成するための塗布液を塗布する塗布部２と、ベースＢに塗布された塗布液を乾燥する乾燥部４と、乾燥部４で乾燥後の塗布液を硬化させるための紫外線を、ベースＢの塗布液が塗布された面に照射する紫外線照射部５とを備え、紫外線照射部５は、ベースＢの搬送速度の基準となる駆動ローラ１５を含み、駆動ローラ１５によってベースＢを搬送させながら光源１６により紫外線を照射する。 （もっと読む）