【課題】光源の特徴に対応して、光源の機能を好適に維持することができるように、光源の温度を調整することができる照射装置を提供する。
【解決手段】照射装置は、光源管の内面の一部分に配置されたアマルガム合金体を備える光源と、光源が内部に配置されているチャンバーと、を備え、チャンバーは、チャンバー本体と、チャンバー本体に形成された第１気体流入口及び第１気体流出口と、記第１気体流入口からチャンバー本体内に流入する気体を、前記光源管における前記アマルガム合金体が配設された部分の外面に当たる方向に導く第１導流体と、を備える。また、光源は、放電電極を備えており、チャンバーは、チャンバー本体に形成された第２気体流入口及び第２気体流出口と、第２気体流入口からチャンバー本体内に流入する気体を、前記光源管における前記放電電極が配設された部分の外面に当たる方向に導く第２導流体と、をさらに備える。 （もっと読む）

【課題】塗装するユニットと、乾燥・硬化させるユニットとを一体化し、これら２つの工程をワンステップで実施できる床面用紫外線硬化型塗料施工装置を提供する。
【解決手段】ＵＶ塗料施工装置１００は、自装置を支持し、記床面の上を移動する移動部１１０と、ＵＶ塗料を収容する容器ＴＮＫを支持する容器支持部１２０と、容器から供給されたＵＶ塗料を床面に塗布する塗布部１３０と、移動部による進行方向において、塗布部よりも後ろ側に配置され、床面に塗布されたＵＶ塗料に、紫外線を照射して硬化させる紫外線照射部１４０とを有する。 （もっと読む）

【課題】設計の高い自由度を持ちながら効率的に流動性材料を所望温度に維持できる吐出装置（ディスペンサバルブ）を提供すること。
【解決手段】本発明の流動性材料を吐出する吐出装置１は、流動性材料を吐出させるノズル４と、ノズルに連通しノズルに流動性材料を送る流路６と、ノズルから流動性材料を吐出させる吐出機構と、加熱流体を循環させることによって流路の周囲を加熱する加熱手段１０と、を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＵＶ硬化に際して酸素による硬化阻害を抑制するため、不活性ガスを光源を経由させて硬化部に直接吹き付けることにより、高精度・低濃度の濃度管理を可能とし、かつ光源を効率的に冷却し得る紫外線照射ユニットを提供する。
【解決手段】不活性ガス供給口９および不活性ガス排出口１０および不活性ガスを充填する空間部１１を有する筐体８を備え、紫外線(ＵＶ)を照射する紫外線光源１が回路基板４に固定され、不活性ガス排出口の近傍に配置され、紫外線光源に電力を供給するように構成された電源を備えた、紫外線照射ユニット。 （もっと読む）

【課題】光源と紫外線硬化剤との間の距離を短くして紫外線硬化剤を効率良く硬化させることができる紫外線照射硬化装置を提供する。
【解決手段】透明導電性ガラス基板４（第１部材）及び非透明ガラス板６（第２部材）の間に介在されたシール剤８（紫外線硬化剤）を硬化させる紫外線を照射するための面状光源（複数本の直管蛍光放電管１２）と、面状光源を点灯するための電源とを備え、透明導電性ガラス基板４が面状光源の上側に載置され、面状光源からの紫外線が下方から透明導電性ガラス基板４を透過してシール剤８に照射される。このような構成よって、面状光源とシール剤８との間隔が短くなり、シール剤８を短時間に効果的に硬化させることができ、照射硬化装置の被照射体を収容するための収容容積を小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】高精度で均一な塗布が可能な薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】塗布対象物１００を吸着保持する吸着テーブル９と、吸着テーブル９に吸着保持された塗布対象物１００の表面にインクジェット式ノズルから塗布材を吐出しながら薄膜形成を行う複数の塗布ヘッド４と、塗布ヘッド４を塗布対象物１００の上方位置で移動させるガントリ３と、を備える薄膜形成装置１であって、ガントリ３に、塗布対象物１００の表面を加熱する熱源装置３１を更に備える。 （もっと読む）

【課題】耐熱性の低いワークに対して、紫外線を照射して硬化させる場合に、従来無駄となっていた赤外線等のエネルギーを有効に利用して工程全体の消費エネルギーを低減できるとともに、ワークに対するダメージが生じるのを防ぐことができる紫外線照射装置及び紫外線照射方法を提供する。
【解決手段】少なくとも紫外線を含む光を射出する光源３１と、前記光源３１から射出された紫外線を前記ワークＷ側へと反射して、当該ワークＷ上に第１照射領域を形成するとともに、紫外線よりも長波長の光を透過する第１の反射部材３１と、前記第１の反射部材３１を透過した紫外線よりも長波長の光を前記ワーク側へと反射して、当該ワーク上に第２照射領域を形成する第２の反射部材３２と、を備え、前記第２照射領域が、前記第１照射領域よりも前記所定方向Ｄに対して上流に離間して形成した。 （もっと読む）

【課題】紫外線ランプの寿命末期まで出射部から出射する紫外線の紫外線強度を一定にすることが可能な紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】紫外線ランプ１と、紫外線ランプ１からの紫外線を出射する出射部２と、紫外線ランプ１と出射部２との間の光路に配置され出射部２から出射する紫外線の紫外線量を調整可能な第１シャッター４と、紫外線ランプ１と第１シャッター４との間に配置され紫外線ランプ１から放射された紫外線の紫外線強度を検出する紫外線センサ６と、紫外線ランプ１と紫外線センサ６との間で紫外線ランプ１と第１シャッター４との間の光路に配置され紫外線ランプ１から出射部２へ向う紫外線の紫外線量を調整し紫外線の紫外線強度を変更可能な第２シャッター９と、紫外線センサ６で検出された紫外線の紫外線強度に基づいて紫外線ランプ１から出射部２へ向う紫外線の紫外線強度が一定になるように第２シャッター９を制御する制御部７とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布膜を効率よく形成し、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】ウェハ処理装置において、ウェハＷの表面Ｗ_１に紫外線を照射し、当該表面Ｗ_１を洗浄する（図１８（ａ））。その後、ウェハＷの表面Ｗ_１全面に密着剤Ｂを塗布し（図１８（ｂ））、当該密着剤Ｂを焼成した後（図１８（ｃ））、密着剤Ｂをリンスして、ウェハＷ上に密着膜Ｂ_Ｆを成膜する（図１８（ｄ））。その後、ウェハＷの密着膜Ｂ_Ｆ上に光重合開始剤を有するレジスト液Ｒを塗布する（図１８（ｅ））。その後、ウェハＷ上のレジスト液Ｒに所定の光量の紫外線を照射し、当該レジスト液Ｒを、ウェハＷ上で拡散せず、且つ凝集しないような流動性を有する半硬化状態にする。そして、ウェハＷ上に半硬化状態のレジスト膜Ｒ_Ｆを成膜する（図１８（ｆ））。 （もっと読む）

【課題】液状体が配置された被描画媒体の適切な位置に適切な量の硬化光を照射できるインクジェット描画装置、及びインクジェット描画装置の制御方法を提供する。
【解決手段】インクジェット描画装置は、光硬化型の液状体を、媒体保持手段に保持された被描画媒体に向けて吐出する吐出ヘッドと、液状体の硬化光を被描画媒体に向けて射出する硬化光射出手段と、吐出ヘッド及び硬化光射出手段を保持するヘッド保持手段と、被描画媒体と吐出ヘッドとを相対移動させるとともに、吐出ヘッドから液状体を吐出して被描画媒体に着弾させる吐出走査における吐出走査方向にヘッド保持手段と媒体保持手段とを相対移動させる相対走査手段と、相対走査手段の駆動源の出力を検出する駆動出力検出手段と、硬化光射出手段を制御する硬化光射出制御手段と、を備え、硬化光射出制御手段は、駆動出力検出手段の検出結果に基づいて、硬化光射出手段を制御する。 （もっと読む）

【課題】液状体が配置された被描画媒体の適切な位置に適切な量の硬化光を照射できるインクジェット描画装置、及びインクジェット描画装置の制御方法を提供する。
【解決手段】インクジェット描画装置は、媒体保持手段に保持された被描画媒体に向けて、液状体を吐出する吐出ヘッドと、液状体の硬化光を被描画媒体に照射する硬化光照射手段と、吐出ヘッドと硬化光照射手段とを保持するヘッド保持手段と、被描画媒体と吐出ヘッドとを相対移動させるとともに、吐出ヘッドから液状体を吐出して被描画媒体に着弾させる吐出走査における吐出走査方向に、ヘッド保持手段と媒体保持手段とを相対移動させる相対走査手段と、相対走査手段を制御する相対走査制御手段と、硬化光照射手段を制御する硬化光照射制御手段と、を備え、硬化光照射制御手段は、相対走査制御手段が発信する走査制御信号に基づいて、硬化光照射手段を制御する。 （もっと読む）

【課題】
使用により紫外線照射装置から熱が発生した場合でも、紫外線照射モジュールの反りを抑制し、紫外線照射領域の縮小や紫外線の焦点のずれ等が少ない光照射モジュールを提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明の光照射装置は、複数の光照射デバイスと、放熱部材とを備えており、該放熱部材は、前記複数の光照射デバイスのそれぞれに対応した、該光照射デバイスに固定された複数の第１の放熱部材と、該複数の第１の放熱部材を共通に支持する第２の放熱部材とを有するため、紫外線照射モジュールの反りを比較的小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】前処理時に媒体にダメージを与えることを防止するとともに良好な印刷品質が得られる印刷方法及び印刷装置を提供する。
【解決手段】樹脂でモールドされた半導体装置３に対し、低圧水銀ランプの光を照射して表面処理を行う表面処理部９と、半導体装置３の表面に活性光線で硬化する液体の液滴を吐出するノズルを有する吐出ヘッドと、半導体装置３上の液滴に活性光線を照射する照射部と、を備える印刷装置に関する。 （もっと読む）

【課題】過酷な環境下に置かれる電子部品にも適用することが可能なマーキングを提供する。
【解決手段】電子部品の製造方法は、光硬化性を有しＮ−ビニルカプロラクタムを５質量％以上２０質量％以下の範囲で含有するインク４５を、電子部品である半導体チップ１２へ塗布してマーキングを行なう塗布ステップ（ステップＳ４、Ｓ９）と、塗布されたインク４５へ、積算光量２００ｍＪ／ｃｍ²以上の光を照射する照射ステップ（Ｓ３〜Ｓ６、Ｓ８〜Ｓ１１）と、照射ステップの後、インク４５を１５０℃以上２００℃以下の温度で加熱する加熱ステップ（ステップＳ１５）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ＵＶ照射手段が点灯し続けることで生じる不具合を回避できる印刷装置を提供する。
【解決手段】基材１に対して相対移動して、活性光線で硬化する液体の液滴を吐出する吐出ヘッド４９と、吐出ヘッド４９に対して相対移動方向後方側に設けられ基材１上の液滴に活性光線を照射する照射部４８と、照明部４８が点灯を開始して所定時間が経過した後、照明部４８を消灯させるように制御する制御部１４と、を備える印刷装置に関する。 （もっと読む）

【課題】ステージに載置する基材のいずれの面にアライメントマークが設けられる場合であっても、１つのカメラで撮像可能な印刷装置を提供する。
【解決手段】吐出ヘッドのノズルから液体の液滴が吐出される基材１を載置するステージ３７Ａと、基材１の一方面側或いは他方面側のいずれかに設けられたアライメントマークＭを撮像するカメラ６１と、一方面側からアライメントマークＭを撮像する第１の状態と、他方面側からアライメントマークＭを撮像する第２の状態とを切り替え可能とするようにカメラ６１の位置を制御するカメラ位置制御機構６５と、を備える印刷装置に関する。 （もっと読む）

【課題】効率的な前処理が可能であり、タクトタイムを短縮できる印刷装置を提供する。
【解決手段】吐出ヘッドと、吐出ヘッドの液滴吐出動作に先立ち、基材１の表面に紫外線を照射して基材の表面を改質する表面改質処理を行う処理部９と、を備えた印刷装置に関する。処理部９は、複数の照射部３２ａと、照射部が紫外線を照射するタイミングで複数の照射部３２ａを挟持するように基材を保持する基材保持機構２７ｂ，２８ｂと、を備える。 （もっと読む）

【課題】光硬化型の機能液を硬化させるための硬化光が照射されることによって被描画媒体の温度が上昇することを抑制することができる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】液滴吐出装置は、光硬化型の液状体を配置して描画する対象物の被描画媒体を保持する媒体保持手段と、媒体保持手段に保持された被描画媒体に向けて液状体を吐出する吐出ヘッドと、液状体の硬化光を媒体保持手段に保持された被描画媒体に向けて射出する硬化光射出手段と、吐出ヘッドと、硬化光射出手段と、を保持するキャリッジと、被描画媒体に対して吐出ヘッドを移動させるとともに、吐出ヘッドから液状体を吐出して被描画媒体に着弾させる吐出走査における吐出ヘッドの吐出走査方向にキャリッジを走査させるヘッド走査手段と、キャリッジと一体に移動可能に配設されており、発生させた気流を媒体保持手段に保持された被描画媒体に向けて噴出する気流発生手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】液状体の液面が波立つことで、中継タンク内の液状体と、吐出ヘッドの吐出口に位置する液状体との水頭差が適切に維持できなくなることを抑制することができる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】液滴吐出装置は、液状体を吐出する吐出ヘッドと、吐出ヘッドに液状体を供給する供給路に配設されており、吐出ヘッドに連通している中継タンクと、液状体を配置して描画する対象物である被描画媒体に対して吐出ヘッドを移動させるとともに、吐出ヘッドから液状体を選択的に吐出させる吐出走査における吐出走査方向に、吐出ヘッドと中継タンクとを移動させるヘッド走査手段と、中継タンク内の液状体の液面に波が発生することを抑制する波立抑制手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】自在な描画表現を可能とすべく、描画内容等に応じて部分的に濡れ性の調整を可能とする描画装置等を提供する。
【解決手段】ワークＷに対し、複数の単位吐出部を有する液滴吐出手段を相対的に走査しながら、複数の吐出ノズル２１から描画用インク材を選択的に吐出させて、ワークＷに描画処理を実施するインクジェットヘッド１８と、ワークＷに対し、複数のＬＥＤ３３を有する処理用光照射手段３１を相対的に走査しながら、複数のＬＥＤ３３から紫外線を選択的に照射させて、ワークＷに濡れ性に関する表面改質処理を実施する紫外線照射装置と、インクジェットヘッド１８および紫外線照射装置を制御する制御装置と、を備え、制御装置は、描画データに基づいて描画処理を実施すると共に、描画処理に先行し、描画データに基づいて表面改質処理を実施する。 （もっと読む）