説明

Fターム[4F042DF01]の内容

Fターム[4F042DF01]の下位に属するFターム

Fターム[4F042DF01]に分類される特許

61 - 80 / 134


【課題】記録媒体の塗布領域境界部で生じる輝度ムラを良好に抑制する記録装置及びそれを用いた表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】記録装置10は、基板11を配置する処理ステーション16と、インクジェット方式で記録媒体を塗布する複数の記録素子18を備えた記録媒体塗布部13と、記録媒体の塗布雰囲気を制御する雰囲気制御ユニット14と、を備える。雰囲気制御ユニット14は、処理ステーション16を囲むように設けられた処理室20と、供給された主溶媒30を気化させる主溶媒気化部21と、処理室20と主溶媒気化部21との間で気化された主溶媒30を循環させる循環経路部22と、を備える。 (もっと読む)


【課題】プリント対象物に対して多くの処理工程を要する印刷作業を効率よく行うことができ、作業能率の向上を図れるとともに、印刷の態様を容易に変更することが可能な印刷装置を提供する。
【解決手段】印刷装置1は、印刷対象物5が載置されるパレット6と、パレット6を搬送する作業ステーションユニット2b〜2gにおける搬送ユニット10と、搬送ユニット10のパレット搬送方向に沿って配設された複数の作業ユニット3b〜3gとを有して構成され、印刷対象物5に複数の処理作業を順に行って所望の図柄等を印刷する印刷装置であって、搬送ユニット10が、各作業ユニット3b〜3gにおける作業位置にパレット6を順に搬送する上部搬送機構11と、上部搬送機構11に沿って下方に配設され、上部搬送機構11におけるパレット搬送方向に対して反対方向にパレット6を搬送する下部搬送機構12とを有して上下二段に構成される。 (もっと読む)


【課題】 本発明は炭素ナノチューブを合成する装置において触媒を基板上に均一に塗布する触媒塗布装置に関するものである。
【解決手段】 本発明の一実施形態による触媒塗布装置は基板に塗布する触媒を保存しつつ、下部にメッシュ(Mesh)網を具備したメッシュボード、メッシュボードまたは基板を移動させる移送部およびメッシュボードに振動を加え前記触媒を前記基板に塗布する振動機(Vibrator)を含む。 (もっと読む)


【課題】基板の大型化に伴って塗布装置を分割化する場合であっても不良基板が生産されるのを抑えることのできる塗布装置を提供する。
【解決手段】基板を載置するステージと、前記ステージに沿って特定方向に延びるレールと、前記レール上を走行しつつ塗布液を吐出することにより、前記ステージ上に載置された基板上に塗布液を塗布する塗布ユニットと、を備えており、前記ステージには、このステージを分割する分割部が形成されており、この分割部は、前記特定方向におけるステージの一方側端部から他方側端部に亘って延びるように形成される構成とする。 (もっと読む)


【課題】丸棒状部材の部材外周面に、ホットメルトが適切に塗布されるようにする。
【解決手段】ディッピングローラ60の外周付着面60Aに外周塗布面70Aが平行に臨むように配設した塗布ローラ70は、第2駆動手段74により回転駆動される。塗布ローラ70の外周塗布面70Aに部材外周面13を平行に臨ませる丸棒状部材11は、部材支持部82に支持された状態で第3駆動手段88により回転駆動される。丸棒状部材11の部材外周面13全周にホットメルトHMの塗布が完了したら、第2駆動手段74を制御して塗布ローラ70の回転を停止させると共に、第3駆動手段88を制御して丸棒状部材11の回転を塗布時よりも増速させる。そして丸棒状部材11を、増速回転した状態で塗布ローラ70から離間させる。 (もっと読む)


【課題】ペーストパターンの断面測定時に信頼性のある測定結果が得られ、工程時間を短縮して生産率を高められると共に、正確なる断面測定工程によって品質管理及び向上を図れるようにしたペースト塗布器及びその制御方法を提供する。
【解決手段】基板を着脱可能に搭載するステージと、ステージに搭載された基板の主面に対向するペースト吐出口を有し、ステージと相対的に移動しながら基板にペーストを吐き出すノズルと、ステージ、カラム、又はヘッドユニットのいずれかに固着された断面測定手段であって、基板と相対的に移動せず、停止状態で基板上に塗布されたペーストパターンの断面を測定する断面測定手段とを含んで構成され、塗布されたペーストパターンの断面管理地点を設定する段階と、設定された断面管理地点が断面測定手段に位置するように相対移動する段階と、基板と相対的に移動せず、直接的に断面を測定する段階とを含む。 (もっと読む)


【課題】搬送プログラムの作成を容易にしながら、スループットの向上を図ることができる技術を提供すること。
【解決手段】第1の処理ブロックと第2の処理ブロックとの間に受け渡しブロックを設け、キャリアブロックから第1の直通搬送手段により基板を受け渡しブロックに搬送し、ここから基板を第1の処理ブロックの塗布膜形成用の単位ブロックと第2の処理ブロックの塗布膜形成用の単位ブロックとに振り分けて受け渡す。次いで第1及び第2の処理ブロックにて夫々塗布膜が形成された基板を一旦受け渡しブロックに集め、ここから第2の直通搬送手段により基板をインターフェイスブロックに搬送する。処理ブロックが増加するので、スループットの向上を図ることができ、またキャリアブロックから第1の処理ブロックへの搬送経路と、第2の処理ブロックへの搬送経路とが同じになるので、搬送プログラムの作成が容易となる。 (もっと読む)


保護部材14及び該保護部材14を組み込むノズル組立体11が提供される。保護部材14は、材料の糸状体16を受ける糸状体案内通路18を有するノズル12と共に使用するためのものである。保護部材14は、ノズル12の糸状体案内通路18に受け入れられるように構成された本体60を備える。保護部材14の本体60は、糸状体16のための通路63を有し、糸状体案内通路18と、移動している糸状体16との間に配置される。保護部材14の本体60は、少なくともその一部が、案内されている糸状体16によって引き起こされる磨耗に耐えるのに十分な耐磨耗性を有する材料から成る。代替的には、本体60の一部を、糸状体16によって引き起こされる磨耗に耐えるのに十分な耐磨耗性を有する材料で被覆してもよい。
(もっと読む)


【課題】スリーブ本体の先端部と円筒容器の開口端部との干渉による削れカスが生じにくく、しかも、円筒容器の挿入に伴う出し入れ時に円筒容器に傷等のダメージを与えない円筒容器保持用マンドレルを安価に提供する。
【解決手段】底部を有する円筒容器Cの内側に挿入してその円筒容器を保持するマンドレルMであって、前記円筒容器に挿入されるスリーブ本体1と、該スリーブ本体の先端部に着脱可能に設けられた先端部材10とを備えるとともに、前記先端部材のうち、少なくとも前記スリーブ本体に挿入された円筒容器の底部の内面と当接する部分の表面に硬質被膜11が形成されている。 (もっと読む)


【課題】ワークの種類や大きさが異なる場合でも、基準マークの位置認識時間を短縮すること。
【解決手段】液滴吐出装置1は、一対の基準マークMの位置が異なる複数種のワークWに対し、インクジェット方式の機能液滴吐出ヘッド17を主走査方向に相対的に移動させて描画を行なう描画手段と、給材された各ワークWをプリアライメント状態にセットすると共に各ワークWに対しθ補正によるアライメント動作可能に構成されたワークステージ21と、副走査方向に延在する帯状の認識可能領域84を有し、一対の基準マークMを画像認識する画像認識手段80と、認識結果に基づいて、ワークステージ21をアライメント動作させるアライメント制御手段と、ワークステージ21に対し、各ワークWを除給材する除給材手段70と、を備え、除給材手段70は、主走査方向において、一対の基準マークMが認識可能領域84と合致する位置に各ワークWを給材する。 (もっと読む)


【課題】薄膜材料の使用量を抑制させて膜厚の均一性を向上させた液滴吐出装置および液
晶表示装置を提供する。
【解決手段】吐出ヘッド16が、ノズル列NRの副走査方向(+Y方向)であって、かつ
、ノズル列NRの主走査方向(+X方向)に、基板Sに向かって延びる板状の摺接部材2
0を有する。そして、ステージが基板Sを主走査するとき、摺接部材20が吐出ヘッド1
6とともに基板Sに対して相対的に移動し、先行する液状膜FLと後続する液状膜FLと
の重畳領域OAのみに摺接する。 (もっと読む)


【課題】処理雰囲気の制御を容易にすることができる成膜装置構成を提供する。
【解決手段】処理室内に配置された基板(100)上に塗布部(113)から液体を塗布することにより基板上に膜を形成する成膜装置を、処理室(107)を区画する壁(107a,107b,107d等)と、塗布部(113)を処理室に搬送する第1搬送部(105)と、基板の載置台(103)と、を有し、上記処理室(107)は、少なくとも上記壁、上記第1搬送部および上記載置台を有する部位により閉空間とされるよう構成する。かかる構成によれば、載置台と塗布部との距離を小さくすることができる。よって、処理室の容量を小さくすることができ、内部雰囲気の制御を容易にすることができる。例えば、その内部を不活性ガスでパージする際、パージに要する時間を低減でき、また、使用する不活性ガス量を少なくすることができる。 (もっと読む)


【課題】タクトタイムの短縮を図ることができる小型のテーブルコータシステム及び塗布方法を提供する。
【解決手段】テーブルコータ4及び前工程装置2c、後工程装置5との間で基板の搬送を行う搬送装置3が、ガイドレール11上をスライド可能な台車12上にガイドレール11の延在方向に沿って並べられて配置され、それぞれ、前工程装置2cとテーブルコータ4の間の基板の搬送を行う第1の搬送ロボット3aと、テーブルコータ4及び後工程装置5の間の基板の搬送を行う第2の搬送ロボット3bを備える。第1の搬送ロボット3a及び第2の搬送ロボット3bは、台車12のスライドによって、第1の搬送ロボット3aについての前工程装置2c及びテーブルコータ4に対応する位置への切換と、第2の搬送ロボット3bについてのテーブルコータ4及び後工程装置5に対応する位置への切換が同時になされる。 (もっと読む)


【課題】 ターンテーブル上のボンベの中心軸が傾いていても、これを垂直に補正して外周面の所定位置に印刷できるようにしたボンベ用プリンタを提供する。
【解決手段】 ボンベ用プリンだ10として、ターンテーブル13を上部ターンテーブル部13aと下部回転駆動部13bとに分割し、これらの間にバランス制御手段15を配設する。バランス制御手段15を、圧電センサを用いた3つの重量センサ16,16,16と、油圧シリンダを用いた3つの昇降手段17,17,17と、バランス制御回路18とで構成する。ボンベ25の外周筒と底板とが傾いて接合されていて、ボンベ25が上部ターンテーブル部13aに傾いて載置された場合に、バランス制御手段15が上部ターンテーブル部13aを傾斜させてボンベ25の中心軸CL2を垂直方向に補正し、さらに位置決め手段26がボンベ25の中心軸CL2をターンテーブル13の回転中心軸CL1に芯合せする。
(もっと読む)


【課題】最小単位の装置のブロック構成化を図ることにより装置の配置構成に自由度を向上させ、装置構成上の問題を伴うことなく装置全体の小型化が向上し装置全体のフットプリントを小さくすること。
【解決手段】被処理基板Gに対して所定の処理を施す処理部を一方向に複数配置して構成された処理部配置部21〜23と、この処理部配置部内に設けられ前記被処理基板を搬送する第1の搬送機構と、この処理部配置部外かつ前記一方のほぼ延長線上に固定してまたは前記一方向のほぼ延長線上に対して直交する方向に固定してまたは/及び前記一方向の延長線上と平行する線上を移動自在に設けられ前記第1の搬送機構に対して直接或いは間接的に前記被処理基板を受け渡し自在に構成された第2の搬送機構11〜15と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】性能の劣化を抑制しつつ、小型化を実現できる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】液滴吐出装置は、機能液の液滴を吐出する吐出口が形成された吐出面を有する吐出ヘッドと、吐出面と対向する第1位置を含む所定領域で吐出ヘッドに対して移動可能であり、所定軸に沿って配置された複数の移動体と、複数の移動体を所定軸に沿って移動させる駆動装置とを備えている。 (もっと読む)


【課題】多軸コントローラに内装されるマスターボードとスレーブボードを増減すること
によって容易に制御対象物の軸数を拡張又は減縮することができる多軸コントローラを提
供する。
【解決手段】本発明の多軸コントローラは、コントローラボックス1と拡張ボックス2か
ら構成されており、コントローラボックス1の第1のバックパネル基板3には、CPUボ
ード4とマスターボード5が第1のバックパネル基板3に着脱可能に嵌め込まれている。
また、拡張ボックス2の第2のバックパネル基板6には、スレーブボード7が第2のバックパネル基板6に着脱可能に嵌め込まれている。そして、マスターボード5と、拡張ボックス2と、スレーブボード7を増減することによって、制御される軸数を拡張又は減縮することができる。 (もっと読む)


【課題】製造及び取り付けの手間を省略化することができ、また、ノズルと基板との間隔のブレをなくし、レールの調整をなくすことができる塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布装置1は、上面6が中央部に設けられた基板保持領域11と前記基板保持領域11の幅方向外側から側縁10aまでの位置に設けられた平滑領域10を備える基板保持ステージ2と、基板保持ステージの幅方向に並んで配置されノズル5を保持する一対の保持部材4を有するスライダ3を備える。保持部材4は、それぞれ、その下端の前記基板保持ステージ側縁外側位置に前記基板保持ステージの側面方向に延在する係合部13として形成され、前記下端の前記基板保持ステージ側縁内側が前記平滑領域10に載置されるとともに、前記係合部が側面に沿って配置されることで、スライダ3の前記基板保持ステージ2の幅方向へのずれが防止される。 (もっと読む)


【課題】処理タクトタイムを短縮化しながら、所望の精度で被処理媒体に処理を施すことができる処理装置を提供する。
【解決手段】処理装置は制御部7とX軸エンコーダ6AとY軸エンコーダ6Bを備える。制御部7は、ずれ算出部75と範囲算出部74と整定判定部71と処理幅算出部107を備える。X軸エンコーダ6AとY軸エンコーダ6Bは基準点の位置を検出する。ずれ算出部75は目標位置と基準点との位置ずれ量を算出する。処理幅算出部107は液晶パネル上のセル内に、インクジェットヘッドが処理を施す処理領域の幅を算出する。範囲算出部74は、液晶パネル上のセル内にインクジェットヘッドが処理を施す処理領域が収まる、位置ずれ量の範囲(整定範囲)を算出する。整定判定部71は、検知手段の検知した位置ずれ量が整定範囲内に収束することで、振動が整定したと判定する。整定判定後、インクジェットヘッドから液晶パネルに処理を施す。 (もっと読む)


【課題】塗布膜形成用の単位ブロックに退避モジュールを設けることにより、インターフェイスアームの設置数を軽減して、製造コストの削減と装置のフットプリントの縮小化を図ること。
【解決手段】例えばCOT層B3に、塗布モジュールCOT1〜COT3の数よりも1枚多い枚数のウエハを退避することができる退避モジュールBF31〜34を設ける。COT層B3では、温調モジュールCPL3、COT1〜COT3、加熱冷却モジュールLHP3、BF31〜34の搬送経路でウエハを搬送し、露光装置の処理速度がCOT層B3の処理速度よりも小さいときに、前記CPL3の下流側のモジュールに置かれたウエハの総数が、前記CPL3の次のモジュールから退避モジュールの前のモジュールまでの前記搬送経路の総モジュール数よりも1枚多い数になるように、メインアームによりウエハを搬送する。 (もっと読む)


61 - 80 / 134