【課題】基板の乾燥後にリフトピンに処理液が残ることを防止することができ、かつ、基板の下面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置は、基板（Ｗ）の周縁を保持する保持プレート（３０）と、基板を下方から支持するリフトピン（２２）を有するリフトピンプレート（２０）と、保持プレートを回転させる回転駆動部（３９）と、保持プレートおよびリフトピンプレートの貫通穴を通る処理流体供給管（４０）と、基板の下面に処理流体を吐出するノズル（６０）と、処理流体供給管、ノズルおよびリフトピンプレートを連動させて昇降させる昇降機構（４４，４６，５０，５２）を備える。ノズルは、基板の中央部に対向する位置から基板の周縁部に対向する位置の間に配列されている複数の吐出口（６１）を有する。 （もっと読む）

【課題】処理カップ内の気流制御により、ミスト再付着防止および膜厚均一性向上を図る。
【解決手段】処理カップ（３３Ａ）は、第１のカップ部材（４０Ａ）と、第２のカップ部材（６０）と、前記第１のカップ部材と前記第２のカップ部材との間に設けられた第３のカップ部材（７０）とを有する。第１のカップ部材（４０Ａ）は、環状の内側傾斜面（４３）と、概ね水平な環状の頂面（４３ｂ）と、環状の外側傾斜面（４１）とを有している。第３のカップ部材（７０）は、スピンチャック（３１）により保持された基板の周縁（Ｗｅ）より高くかつ外側の位置に位置するように設けられた内側端縁（７０ｅ）を有している。頂面（４３ｂ）は、平面視において、基板の周縁（Ｗｅ）と第３のカップ部材の内側端縁（７０ｅ）とを包含するように設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板に薬液を滴下し、基板を回転することによって基板を処理する基板処理装置であって、当該基板処理装置内の環境を大きく乱すことなく浮遊ミストを低減することが可能な基板処理装置およびこれを備える塗布現像システムを提供する。
【解決手段】基板に薬液を滴下し、基板を回転して基板を処理する基板処理装置が開示される。この基板処理装置は、基板の裏面を保持する基板保持部と、基板保持部を回転する基板回転部と、基板保持部に保持される基板に薬液を滴下する薬液滴下部と、凹形状を有し、基板保持部に保持される基板を囲むように設けられるカップ部と、基板保持部に保持される基板とカップ部の内周面との間に配置される吸気ポートと、基板回転部により駆動されるとともに、吸気ポートと連通して吸気ポートより吸引される気体を基板保持部の下方の空間に吐出する気体吐出部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】排気路の排気流量を安定して測定することができる流量測定装置及び流量測定方法を提供する。
【解決手段】
排気路の排気流量を測定する流量測定装置８において、ミスト供給部８１は排気路７中にミストを供給し、撮像部８２はこのミスト供給部８１よりも下流側の排気路７を撮像する一方、推定部２００はミスト供給部８１から供給されたミストを前記撮像部８２により撮像した撮像結果に基づいて排気流量を推定する。 （もっと読む）

【課題】基板乾燥時間を短縮することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置において、基板Ｗを保持する保持テーブル４と、その保持テーブル４を回転させるテーブル回転機構と、基板Ｗの表面に対向して離間する位置からその表面を覆うように設けられ、基板Ｗ側の表面Ｍ２に複数の窪み８ａを有する平板８とを備える。 （もっと読む）

【課題】ＰＶＡスポンジ等親水性部材を容易に効率良く液飛散防止カップ本体の内面に装着できる基板処理装置の液飛散防止カップ、該液飛散防止カップを備えた基板処理装置、及びその方法を提供すること。
【解決手段】基板を保持し回転させる基板回転機構、該基板回転機構に保持された基板の外周を囲むように配置され、該回転する基板から離脱する液の飛散を防止する液飛散防止カップを備えた基板処理装置の液飛散防止カップであって、液飛散防止カップ本体１１の内周面全面又は該内周面の所定部分に表面に親水性材層１２を設けた液飛散防止シート１６ａを該親水性材層１２がカップの内側を向くように装着手段で装着した。 （もっと読む）

【課題】環状のフレームに粘着テープを介して一体化されたワークの表面にスピンコートで液状樹脂を被覆する際、フレームの吸着パッドが吸着する部分への飛散樹脂の付着を防いで、フレームを介してのワークの搬送を円滑にする。
【解決手段】スピンナテーブル３０における搬送機構１０の吸着パッド１３に対応する複数箇所に振り子体５０を配設する。振り子体５０は、錘部５３と、吸着パッド１３がフレーム２に吸着する部分（吸着パッド作用部２ａ）を被覆可能な爪部５２と、錘部５３と爪部５２とを連結する連結部５４と、軸部５５とを備える。振り子体５０は、スピンナテーブル３０の静止時には開放位置にあり、スピンコート時にスピンナテーブル３０が回転すると、遠心力により軸部５５を支点として被覆位置まで揺動し、爪部５２がフレーム２の上面を覆ってフレーム２の上面の吸着パッド作用部２ａへの飛散樹脂の付着を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】基板に塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布装置において、基板の裏面を洗浄するための溶剤の使用量を抑えること。
【解決手段】回転する基板の周縁部の上下のぶれを抑えるために、基板の裏面において前記液膜が形成される周縁部よりも内側の領域にガスを吐出する吐出孔が当該基板の回転方向に沿って設けられた、前記基板保持部を囲む姿勢制御部と、前記基板の裏面側に当該基板の周縁部に対向するように形成された対向面部と、その対向面部に処理液を供給し、その表面と回転する基板の裏面の周縁部とに前記処理液をその表面張力により吸着させる液膜形成部とを備えるように塗布装置を構成し、基板に展伸された前記塗布液から飛散したミストが前記基板の裏面の周縁部に付着することを防ぐための液膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】基板を回転させた状態で塗布液を塗布する際に、１種類の塗布液で、風切りマークの発生を抑えながら、塗布膜の膜厚の調整範囲を大きくすること。
【解決手段】塗布ユニットは、カバー部材４の上部板３１を、前記スピンチャック２に載置されたウエハＷの表面に接近させて、前記スピンチャック２とカバー部材４とを同じ方向に回転させることにより、前記ウエハＷ表面の中心部に供給された塗布液を遠心力により伸展させて塗布膜の膜厚を調整し、次いで前記スピンチャック２及びカバー部材４を、前記塗布膜の膜厚を調整するときよりも低い回転数で回転させながら、前記カバー部材４を上昇させて前記塗布膜中の溶剤を揮発させるように構成される。 （もっと読む）

【課題】
レジスト液をスピンコーティングにより塗布する工程において、回転している基板の遠心力により飛散したレジストミストを排気流から効率良く分離し、レジストミストが排気路側へ回り込むことを抑えること。
【解決手段】
基板の回転による遠心力よりレジスト液が飛散する前に、カップ内部表面にカップ内部の表面を濡らすためのミストを吹き付ける。この工程によりカップの内部表面に液膜（親水性）をつくり、この液膜にレジストミストが接触し当該レジストミストは吸着される。
そして、基板の回転による遠心力によりレジストミストが飛散しているときにミスト供給ノズルより捕捉用のミストをカップ内部へ供給し、当該捕捉用のミストがレジストミストを捕捉する。その結果、レジストミストの質量が増加しレジストミストは廃液路へ落ちていくとともにウエハの回転により生じた気流は排気路へ流れていく。この結果、効率的な気液分離が可能となる。 （もっと読む）

【課題】流体吐出装置のスループットを低下させることなく、受け部材が受けた流体を適切に除去する。
【解決手段】流体を媒体に吐出するためのノズルと、該媒体を保持するための保持領域と非保持領域とを周面に備え、該周面を前記ノズルに対向させながら回転する回転体であって、前記非保持領域が前記ノズルに対向した際にフラッシングのために該ノズルから吐出される流体、を受けるための受け部材と、該受け部材が受けた流体を該受け部材から除去するための除去部材と、を備えた回転体と、を有する流体吐出装置。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単で、フォトレジストの厚みムラの少ないスピンコータを提供する。
【解決手段】角形基板や半導体ウエハーなどの基板Ｋを回転させてその表面に薄膜を形成し、乾燥するスピンコータ１において、前記基板Ｋ等の外周側に円板２を配置し、前記基板Ｋ等の端面と前記円板２との間に全周に亘って吸引スリット３を形成し、この吸引スリット３に減圧させて前記基板Ｋ等の端面より吸引排気することによって前記基板Ｋ等の表面に形成された薄膜の周囲の部分を吸引排出する。 （もっと読む）

【課題】装置の省スペースを実現しつつ、基板の端面の汚染に起因した問題（欠陥の発生、トラックや露光装置へのクロスコンタミネーション等）を回避できる基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板の端面を洗浄する端面洗浄処理ユニットＥＣを備える洗浄処理部９３を、インデクサブロック９に配置する。インデクサブロック９に設けられたインデクサロボットＩＲは、カセットＣから取り出した未処理基板Ｗを、処理部である反射防止膜用処理ブロック１０に搬送する前に洗浄処理部９３に搬送する。洗浄処理部９３においては、基板Ｗの端面および裏面を洗浄する。すなわち、端面および裏面が汚れた基板Ｗが処理部に搬入されることがないので、基板の端面や裏面の汚染に起因した問題を回避できる。 （もっと読む）

【課題】静電気が帯電せず、しかも耐衝撃性に優れた樹脂製のコータカップを採用して、基板に対する静電気の誘導を防止すると共に、基板が衝突した際の損傷を最小限にする。
【解決手段】ステージ１４ａ上に載置された基板１を回転させるスピン部１０と、基板１上にレジスト液を滴下するレジストノズル２１と、上部が開口した容器状をなしステージ１４ａ上に載置された基板の周囲を囲繞するように配設されて、基板１上から周囲へ飛散するレジスト液を受けるコータカップ３０とを備え、コータカップ３０をフッ素系樹脂とし、このコータカップ３０に導電性を有する構造材（横骨）５１ａ、５１ｂ、５１ｃをインサートすると共に、構造材をアース接続する。 （もっと読む）

【課題】基板へのダメージを抑制しつつ、処理液による処理時間を短縮することができる二流体ノズル、ならびにそれを用いた基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】二流体ノズル３は、外筒２３、内筒２４および中間筒２５を含む。内筒２４の内部空間は、ＤＩＷが流通する直線状の第１処理液流路２６となっている。内筒２４と中間筒２５との間には、窒素ガスが流通する円筒状の気体流路２７が形成されおり、中間筒２５と外筒２３との間には、ＤＩＷが流通する円筒状の第２処理液流路２８が形成されている。第１処理液流路２６の下端は、ＤＩＷを吐出する円状の第１処理液吐出口３０となっており、気体流路２７の下端は、第１処理液吐出口３０を取り囲み窒素ガスを吐出する円環状の気体吐出口３１となっている。また、第２処理液流路２８の下端は、気体吐出口３１を取り囲みＤＩＷを吐出する円環状の第２処理液吐出口３４となっている。 （もっと読む）

【課題】レジストミストなどを効率よく回転テーブル外、さらには塗布容器外に排出する塗布装置を提供すること
【解決手段】本発明にかかる塗布装置は、基板１を載置する回転テーブル２と、回転テーブル２の上に配設された回転キャップ３と、回転キャップ３の下側に設けられ、基板１と対向する対向板４とが一体的に回転するもので、基板１の外側に配置され、対向板４から下側に突出したスプラッシュガード５が複数設けられ、スプラッシュガード５の外側において回転テーブル２、回転キャップ３、及び対向板４で形成される空間を有し、隣り合うスプラッシュガード５の隣接する端部のうち回転時に先行する側の端部の外側における空間が、回転時に後行する側の端部の外側における空間よりも小さくなっている。 （もっと読む）

【課題】基板を回転しつつ基板に処理液を供給して基板に液処理を行う液処理装置であって、基板に対する処理液のミストの再付着を抑制することができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷを水平に保持し、ウエハＷとともに回転可能なウエハ保持部１と、ウエハ保持部１に保持されたウエハＷを囲繞し、ウエハＷとともに回転可能な回転カップ３と、ウエハＷの表面に処理液を供給する表面処理液供給ノズル４と、回転カップ３の排気および排液を行う排気・排液部６とを具備し、回転カップ３は、ウエハ保持部１に保持されたウエハＷに外側から内側に流れる気流をトラップ可能な気体溜まり部３２ａを有する。 （もっと読む）

【課題】液滴ミストを主液滴と分離して回収するとともに液滴ミストが記録媒体に付着するのを確実に防止する。しかも、記録媒体がノズル面に接触するのを防止する。
【解決手段】液滴噴出記録装置１のノズル面２に、スペーサ４を介して、ノズル面と左右の長さおよび前後の幅が略等しい仕切り板３をこのノズル面と平行に配置する。仕切り板の、ノズル面のノズル７と対向した位置にノズル７から噴出するインク等の液滴を通過させる通過孔８を設ける。液滴噴出記録装置の、記録媒体６の搬送方向下流側に向いた側面に、ノズル面と仕切り板とに挟まれた空間の空気を吸い込む吸引口１０を設け、ノズルの並びの方向と直交する方向に気流を発生させる吸引手段１１を取付ける。吸引手段にノズルからの液滴の噴出時に発生する液滴ミストを吸収するミスト吸収体１５を取付ける。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ中心と外周にて働く遠心力の差を無くすことで、ウェーハ中央部における膜の盛り上がりや、残渣の発生が防止できるスピンコータ装置及び回転処理方法並びにカラーフイルタの製造方法を提供する。
【解決手段】被処理材となる基材Ｗを保持して回転するターンテーブル１を備えたスピンコータ装置１００であって、ターンテーブル１を回転駆動する回転駆動手段４と、基材Ｗの中心位置Ｐを回転の中心位置Ｏから、この中心位置Ｏから離れた偏心位置まで移動させる偏心スライド機構３とを備え、中心位置Ｏと偏心位置との間の複数の位置を中心として基材Ｗを回転駆動するように構成した。 （もっと読む）

【課題】工程単価の増加を防ぎ、且つ塗布不良発生を減らすことが可能な半導体装置製造装置を提供する。
【解決手段】塗布薬液を吐出する薬液ノズル１０と、塗布薬液を貯蔵し、薬液ノズル１０に塗布薬液を供給する薬液貯蔵部２０と、薬液貯蔵部２０で塗布薬液を貯蔵している時間及び最後に塗布薬液を吐出してからの時間を測定する時間測定装置３２と、時間測定装置３２から測定結果からダミーディスペンスの間隔と吐出量を制御する制御コンピュータ３０と、制御コンピュータ３０からダミーディスペンスの間隔と吐出量を受信し、塗布薬液の吐出を制御する薬液吐出制御バルブ２３を備える。 （もっと読む）