【課題】熱に対する収縮性が改善されると同時に接着性が向上したポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】本発明のポリイミドフィルムは、（１）１，４−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテルおよびピロメリット酸二無水物から得られるポリイミドと、（２）粒子径が０．０１〜１．５μｍの範囲内にあり、かつ、平均粒子径が０．０５〜０．７μｍである無機粒子を、ポリアミド酸の重量に対して０．１〜０．９重量％からなるポリイミドフィルムである。ポリイミドフィルムは、放電処理と、フィルムの長さ方向の張力を一定に保ちながらの加熱処理とが順次施され、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギー８０ｍＮ／ｍ以上、および２００℃、１時間での加熱収縮率０．１０％以下を有する。 （もっと読む）

【課題】熱に対する収縮性が改善されると同時に接着性が向上したポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】本発明のポリイミドフィルムは、（１）１，４−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、ピロメリット酸二無水物および３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物から得られるポリイミドと、（２）粒子径が０．０１〜１．５μｍの範囲内にあり、かつ、平均粒子径が０．０５〜０．７μｍである無機粒子をを、ポリアミド酸の重量に対して０．１〜０．９重量％からなるポリイミドフィルムである。ポリイミドフィルムは、放電処理と、フィルムの長さ方向の張力を一定に保ちながらの加熱処理とが順次施され、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギー８０ｍＮ／ｍ以上、および２００℃、１時間での加熱収縮率０．１０％以下を有する。 （もっと読む）

【課題】熱に対する収縮性が改善されると同時に接着性が向上したポリイミドフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】（１）１，４−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテルおよびピロメリット酸二無水物から得られるポリイミドと、（２）粒子径が０．０１〜１．５μｍの範囲内にあり、かつ、平均粒子径が０．０５〜０．７μｍである無機粒子が、ポリアミド酸の重量に対して０．１〜０．９重量％からなるポリイミドフィルムであって、フィルムの長さ方向の張力を一定に保ちながらの加熱処理と、放電処理とが順次施され、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギー８０ｍＮ／ｍ以上、および２００℃、１時間での加熱収縮率０．１０％以下を有するポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】熱に対する収縮性が改善され、接着性が向上したポリイミドフィルムおよびその製造方法の提供。
【解決手段】ポリイミドフィルムは、（１）４，４’−ジアミノジフェニルエーテルおよびピロメリット酸二無水物から得られるポリイミドと、（２）粒子径０．０１〜１．５μｍ、平均粒子径０．０５〜０．７μｍである無機粒子を、ポリアミド酸の重量に対して０．１〜０．９重量％からなる。ポリイミドフィルムは、フィルムの長さ方向の張力を一定に保ちながらの加熱処理と、放電処理とが順次施され、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギー８０ｍＮ／ｍ以上、２００℃、１時間での加熱収縮率０．１０％以下を有する。本発明はこのポリイミドフィルムの製造方法も包含する。 （もっと読む）

【課題】接着性が向上したポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】本発明のポリイミドフィルムは、（１）１，４−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、ピロメリット酸二無水物および３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物から得られるポリイミド、および（２）粒子径が０．０１〜１．５μｍの範囲内にあり、かつ、平均粒子径が０．０５〜０．７μｍである無機粒子を、ポリアミド酸の重量に対して０．１〜０．９重量％からなり、前記粉体はポリイミドフィルム内に均一に分散されており、前記ポリイミドフィルムに、放電処理を施すことで、ポリイミドフィルムは、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギー８０ｍＮ／ｍ以上を有する。本発明は、このポリイミドフィルムの製造方法を包含する。 （もっと読む）

【課題】低含水率で高プロトン伝導性、低メタノール透過性、高耐酸化性、及び優れた機械的特性を有する架橋芳香族高分子電解質膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】芳香族高分子フィルム基材、またはこれにモノマーをグラフト鎖として導入したグラフト芳香族高分子フィルム基材に、電離性放射線照射により架橋構造を付与する。架橋構造を付与した芳香族高分子フィルム基材、及びグラフト芳香族高分子フィルム基材はスルホン化溶液に不溶であるため、これらのフィルム基材を直接スルホン化することで架橋芳香族高分子電解質膜を得ることが可能となる。また、モノマーをグラフト鎖として導入することで、電解質膜の架橋構造およびプロトン伝導性領域のミクロ相分離構造の制御ができるため、低含水率で高プロトン伝導性、低メタノール透過性、高耐酸化性、優れた機械的特性を有する架橋芳香族高分子電解質膜の作製が可能となる。 （もっと読む）

【課題】耐汚れ性に優れた選択的分離膜を提供する。
【解決手段】本発明による選択的分離膜は、親水性コーティングが分離膜のポリアミド層に施されたポリアミド逆浸透複合膜である。前記親水性コーティングは、親水性化合物をポリアミド分離膜の残余の酸塩化物に共有結合させて施され、前記親水性化合物は、（ｉ）前記ポリアミド層に直接的に共有結合される少なくとも一つの反応性基であり、前記少なくとも一つの反応性基が少なくとも一つの１級アミンまたは２級アミンであり、（ii）少なくとも一つの親水性基であり、前記少なくとも一つの親水性基がヒドロキシ基、カルボニル基、トリアルコキシシラン基、アニオン基、３級アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも一つの親水性基であり、（iii）前記親水性化合物がポリアルキレンオキシド基を含んでいないものよりなる。 （もっと読む）

【課題】平滑な絶縁樹脂上に金属皮膜を形成する際に、簡便な方法で金属皮膜と絶縁樹脂との密着性を高めることのできる方法を提供すること。
【解決手段】絶縁樹脂を親水化処理した後に、１級アミンもしくは２級アミンまたはその両方を側鎖に有するポリマーを含有する溶液で処理することを特徴とする絶縁樹脂のコンディショニング方法およびこの方法を利用した絶縁樹脂の金属化方法。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、水濡れ性、水溶出性、外観品質に優れた成形板を製造できる表面改質方法を提供することにある。
【解決手段】
本願発明は、樹脂を構成成分として含む樹脂組成物を成形して得られる樹脂成形板と、三酸化硫黄ガスを接触させ、該成形板表面を改質する方法において、工程１、工程２、工程３及び工程４を順次実施することを特徴とする三酸化硫黄ガスによる樹脂成形板の表面改質方法を提供するものである。（１）工程１；成形板のマスキング工程、（２）工程２；成形板を、三酸化硫黄ガスと接触させるための加温された処理容器内に挿入、固定した後、該容器内の水分除去工程、（３）工程３；成形板を、三酸化硫黄ガスと乾燥不活性ガスとの混合ガスに接触させる工程、（４）工程４；次いで、該樹脂成形板を洗浄する工程。 （もっと読む）

【課題】本発明は、触媒被毒等の触媒に対する悪影響を及ぼすことが少なく、燃料電池の発電性能の向上に寄与する炭化水素系固体電解質膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、イオン交換基を含有する炭化水素系電解質および前記炭化水素系電解質の電位窓の範囲内の電圧で分解される有機溶媒を含有する炭化水素系電解質フィルム形成用塗工液を用いて、成型および乾燥を行うことにより、炭化水素系電解質フィルムを形成する炭化水素系電解質フィルム形成工程と、水の存在下、前記炭化水素系電解質フィルムを触媒金属からなる触媒電極に接触させて前記炭化水素系固体電解質の電位窓の範囲内の電圧を印加することにより、前記炭化水素系電解質フィルム内に残留する前記有機溶媒を分解除去する有機溶媒除去工程とを有することを特徴とする炭化水素系固体電解質膜の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】しぼ加工等の凹凸加工に合わせて樹脂材料の選択や成形条件を制限する必要がない成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】表面が平坦で所定の外形を有する樹脂成形品７の上に、表面に凹凸形状を備えた凹凸膜７ａを成膜する工程と、凹凸膜７ａの上にその凹凸形状に沿って装飾膜５を成膜する工程とを有する製造方法である。この製造方法では、樹脂成形品７の表面を直接凹凸加工する必要がないため、樹脂成形品７を表面が平坦な金型１０１，１０２等で容易に成型でき、樹脂選択や成型条件を凹凸加工に合わせて制限する必要がない。装飾膜６は、金属膜、および、樹脂成形品の材料とは屈折率の異なる誘電体膜の少なくとも一方を含む構成にすることができる。 （もっと読む）

本発明は、イオン電荷、並びに前記イオン電荷の可溶化のための液体を含有する自立型ポリマーマトリクスを含む、可変の光学／エネルギー特性を有する電気制御デバイス用電解質材料であって、液体は前記自立型ポリマーマトリクスを可溶化せず、マトリクスは前記イオン電荷の浸透経路を供給するように選択されることを特徴とする、電気制御デバイス用電解質材料に関する。本発明は、可変の光学／エネルギー特性を有し、前記電解質材料を含む電気調整デバイス、並びにカレンダー加工または積層並びに任意選択により加熱下により種々の層を構築することを含むことを特徴とする、電気調整デバイスを製造する方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】ポリマー中に金属微粒子が基板と平行方向に一定間隔で層状に配列された、金属粒子配列膜の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】反射基板上に金属成分を含有するポリマー膜を製膜する工程（Ａ）と、前記ポリマー膜に、特定の波長の光を照射する工程（Ｂ）とを有することを特徴とする金属微粒子配列膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】銅箔との接着性が向上し、易滑性、寸法安定性、水濡れ性にも優れた高接着性共重合ポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、およびピロメリット酸二無水物から形成されたポリイミドフィルムに、サンドマット処理を施した後、リラックス処理を施し、次いでプラズマ処理を施してなるポリイミドフィルムであって、２００℃加熱収縮率がフィルムの機械搬送方向（ＭＤ）と幅方向（ＴＤ）で共に０．０５％以下であり、フィルム表面の、触針式表面粗さ計で測定した表面粗さＲａが０．０６５μｍ以上、Rmaxが１．０μｍ以上、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギーが８０ｍＮ／ｍ以上である高接着性ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】銅箔との接着性が向上し、易滑性、寸法安定性、水濡れ性にも優れた高接着性共重合ポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】パラフェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、ピロメリット酸二無水物および３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物から形成され、かつ無機粒子を含有するポリイミドフィルムに、サンドマット処理を施した後、リラックス処理を施し、次いでプラズマ処理を施してなるポリイミドフィルムであって、２００℃加熱収縮率がフィルムの機械搬送方向（ＭＤ）と幅方向（ＴＤ）で共に０．０５％以下であり、フィルム表面の触針式表面粗さ計で測定した表面粗さＲａが０．０６５μｍ以上、Rmaxが１．０μｍ以上、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギーが８０ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とする高接着性共重合ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】銅箔との接着性が向上し、寸法安定性、水濡れ性にも優れた高接着性共重合ポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】パラフェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、およびピロメリット酸二無水物から形成されたポリイミドフィルムに、サンドマット処理を施した後、リラックス処理を施し、次いでプラズマ処理を施してなるポリイミドフィルムであって、２００℃加熱収縮率がフィルムの機械搬送方向（ＭＤ）と幅方向（ＴＤ）で共に０．０５％以下であり、フィルム表面の、触針式表面粗さ計で測定した表面粗さＲａが０．０６５μｍ以上、Rmaxが１．０μｍ以上、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギーが８０ｍＮ／ｍ以上である高接着性共重合ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】銅箔との接着性が向上し、易滑性、寸法安定性、水濡れ性にも優れたポリイミドフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】パラフェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテルおよびピロメリット酸二無水物から形成され、かつ無機粒子を含有するポリイミドフィルムであって、２００℃加熱収縮率がフィルムの機械搬送方向（ＭＤ）と幅方向（ＴＤ）で共に０．０５％以下、フィルム表面の、触針式表面粗さ計で測定した表面粗さＲａが０．０６５μｍ以上、Rmaxが１．０μｍ以上、静摩擦係数が１．０以下、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギ−が８０ｍＮ／ｍ以上である高接着性ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】紫外線吸収剤を液晶に添加することなく耐光性を向上させる。
【解決手段】液晶分子の配向方向を規制する有機性配向膜１６，２２が形成された一対の基板１０，２０と、上記一対の基板１０，２０間に狭持して配置されるとともに上記有機性配向膜１６，２２によって液晶分子の配向方向が規制される液晶５０とを備える液晶装置であって、上記有機性配向膜１６，２２は、少なくとも表層部がフッ化されている。 （もっと読む）

【課題】銅箔との接着性が向上し、易滑性、寸法安定性、水濡れ性にも優れたポリイミドフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、ピロメリット酸二無水物から形成され、かつ無機粒子を含有するポリイミドフィルムであって、２００℃加熱収縮率がフィルムの機械搬送方向（ＭＤ）と幅方向（ＴＤ）で共に０．０５％以下、フィルム表面の、触針式表面粗さ計で測定した表面粗さＲａが０．０６５μｍ以上、Rmaxが１．０μｍ以上、静摩擦係数が１．０以下、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギ−が８０ｍＮ／ｍ以上である高接着性ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

プラズマエッチングプロセスによりプラスチックからの基板（１）の表面にナノ構造（６）を作製する本発明による方法の場合、薄膜（２）がプラスチック基板（１）上に施与され、引き続きプラズマエッチングプロセスが実施される。本方法により作製されるナノ構造（６）によって、殊にプラスチック基板（１）の表面の反射が低減させられる。
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