【課題】
加工時や使用時の熱などに対する寸法安定性などの耐熱性が高く、水蒸気や酸素などのガスバリア性に超高度に優れ、かつ、光線透過率に優れたガスバリア性フィルム、並びにこれを用いたディスプレイ用基板及びディスプレイを提供する。
【解決手段】
荷重たわみ温度２００℃以上の樹脂、好ましくはイミド骨格を持つ全光線透過率が７０％以上のポリイミドである基材と、硬化型樹脂層を設けてなり、前記基材と前記硬化型樹脂の屈折率差ｎが０．０３≦ｎ≦０．１５であり、前記硬化型樹脂層の膜厚Ｄが０．５≦Ｄ≦１０μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

金属基体２と、その上にある、少なくとも１つの機能層および／または少なくとも１つの装飾層８より形成される被覆とを有する金属製品は、前記少なくとも１つの機能層および／または少なくとも１つの装飾層８の上に、厚さ１０ｎｍ〜１０μｍのクリアラッカー層９を備える。
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コーテッド超硬タップ（１０）は、コバルトを約１２乃至約１６重量％の範囲で含有し、結晶成長を抑制する目的で少量の遷移金属炭化物を含有し、更に加工中に捕捉されうる低次不純物を含有しうる焼結炭化タングステンを含む基体（１６）から製造される。基体（１６）は金属の窒化物、炭化物、炭窒化物、硼化物及び／又は酸化物の層でコーティングされ、金属はアルミニウム、ケイ素、元素周期表のＩＶａ、Ｖａ、ＶＩａの遷移金属のうちから１種以上が選択される。コーティングは一層（５６）及び／又は必要に応じて種々の化学組成を有する交互層からなってもよい。摩擦低減の目的で、二硫化モリブデン、二硫化モリブデンと遷移金属、又はそれらの任意の組合せ、炭素、炭素と遷移金属炭化物、又はそれらの任意の組合せ、及び／又は窒化炭素からなる最外層（５６）は、同時接着により一層を形成するか、接着により多層もしくは交互層を形成するよう接着されてもよい。本発明のコーテッド超硬タップ（１０）はタップのチッピングや欠損を起こすことなく従来のタップと比較して少なくとも三倍の切削速度で使用できる。
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【課題】 樹脂材の上に脆性材料層を安定に形成する複合構成物およびその作製方法を提供すること。
【解決手段】 樹脂基材表面に密着する粘着材料からなる下地層が形成され、この下地層の上全部または一部に多結晶の脆性材料層が形成されている樹脂材と脆性材料との複合構造物、及び樹脂基材表面に密着する粘着材表面に、この粘着材よりも高硬度の脆性材料微粒子を食い込ませて下地層を形成し、次いでこの下地層に前記脆性材料微粒子を高速で衝突させ、この衝突の衝撃によって前記脆性材料微粒子を変形または破砕し、この変形または破砕にて生じた活性な新生面を介して微粒子同士を再結合せしめることで、前記下地層の上に多結晶の脆性材料層を形成する樹脂材と脆性材料との複合構造物の作製方法。 （もっと読む）

【課題】量産性に優れた安価な金属基体を用いて、腐食環境でも長期間耐食性に優れ、かつ高い導電性を保持しうる導電用高耐食材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】安価な金属材料を基体として、基体表層にある酸化皮膜層を取り除いた後に、導電性を有する中間層を設け、その表面の上層にπ共役導電性高分子膜を形成する。前記中間層が、導電性フィラーを含んだ、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂からなる群から選ばれる少なくとも一つからなり、また、導電性フィラーが金属、金属間化合物、カーボン、金属炭化物、金属硫化物、金属酸化物から選ばれる少なくとも１種である。該中間層を形成した基体の上層に形成されるπ共役系導電性高分子が、電解重合法、または、化学重合後に電解重合法よって形成される。 （もっと読む）

【課題】 耐面圧性を含め密着性の高い硬質炭素膜を実現する。
【解決手段】 基材１０上に、当該基材１０と相性の良い中間層としての金属膜１２が、スパッタリング処理によって形成される。そして、この中間層１２上に、シリコンを含有する高濃度シリコン含有硬質炭素膜（高濃度層）１４が、プラズマＣＶＤ処理によって形成される。さらに、この高濃度層１４上に、当該高濃度層１４よりも少なめのシリコンを含有する低濃度シリコン含有硬質炭素膜（低濃度層と言う）１６が、同プラズマＣＶＤ処理により形成される。そして、高濃度層１４および低濃度層１６が、一連の硬質炭素膜１８を成す。このように硬質炭素膜１８に含まれるシリコンの量が基材１０から遠くなるに連れて減少することで、当該硬質炭素膜１８の耐面圧性を含めた密着性が向上する。 （もっと読む）

【課題】 軽量性等のカーボンロールの利点を維持しつつ、高い耐摩耗性や耐衝撃性を有し、しかもカーボンロール本体と被覆層との密着性に優れたカーボンロール及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 胴部がカーボンで形成されたロール外周面に、粗面形成剤を含む接着剤層が形成され、該接着剤層の表面にアルミニウム−亜鉛からなるアンダーコート層が被覆され、該アンダーコート層の表面にセラミックス、サーメット又は金属からなる被覆層が設けられていることを特徴とするカーボンロール及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】
液晶ガラス基板製造時に使用される各種ロールをはじめ、繊維強化プラスチック製各種部材の表面を金属化処理を施すことによって、金属質表面特性が求められるような特殊用途にもよく適合する技術を提案すること。
【解決手段】
繊維強化プラスチック基材の表面に、この基材構成成分である樹脂と同種の樹脂およびセラミック粒子との混合物の層からなる中間層を有し、この中間層の上に、金属及び合金からなる溶射被覆層からなるトップコートを有する繊維強化プラスチック基複合材料と、その製造方法。 （もっと読む）

【課題】
加工時や使用時の熱などに対し寸法安定性が高く、水蒸気や酸素などのガスバリア性に優れ、かつ、光学異方性が少なく、光線透過率に優れたガスバリア性フィルム、並びにこれを用いたディスプレイ用基板及びディスプレイを提供する。
【解決手段】
荷重たわみ温度１５０℃以上の基材の両面へ、線膨張係数が１００ｐｐｍ／Ｋ以下であり、かつ前記基材と前記硬化型樹脂の屈折率差ｎが０．０３≦ｎ≦０．１８である硬化型樹脂層を設けて、さらに、必要に応じて、少なくとも片側の面へ、１又は複数層のガスバリア層及び／又は平滑化層を設けてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
加工時や使用時の熱などで伸びやたわみが生じにくく寸法安定性が高く、かつ、加工時や使用時の薬品などで変質が生じにくく、安定した水蒸気や酸素などのガスバリア性に超高度に優れるガスバリア性フィルム、並びにこれを用いたカラーフィルタ及びディスプレイを提供する。
【解決手段】
基材が荷重たわみ温度１５０℃以上、好ましくは荷重たわみ温度１５５℃以上の炭酸エステル骨格を持つ線状高分子の芳香族ポリカーボネートであり、該基材の両面に設ける硬化型樹脂層の線膨張係数が１００ｐｐｍ／Ｋ以下であり、かつ前記基材と前記硬化型樹脂の屈折率差ｎが０．０３≦ｎ≦０．１８であることを特徴とする。また、少なくとも一方の面の硬化型樹脂層面へ、第１ガスバリア層、第１平滑化層、及び／又は第２ガスバリア層を設けてもよい。 （もっと読む）

【課題】 金属に対する接着性が優れた金属調を有する化粧シートを提供し、更に、打抜き、曲げ、深絞りなどの２次加工によっても剥離することが無く、その後の切断や打抜き加工時に、その切断面から樹脂の流れ出しやボタ落ちがなく、糊塗工むら模様のない外観上美麗な化粧金属板を提供する。
【解決手段】 不飽和カルボン酸若しくは不飽和カルボン酸誘導体で変性された、変性ポリプロピレン、変性ポリエチレン、又は変性エチレン−プロピレンラバーを主成分とし、５％伸張時の引張応力が１０〜５００ＭＰａである変性ポリオレフィン樹脂層と、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビーム蒸着法、又は電子ビーム蒸着法より選ばれた真空製膜法により形成された、厚さ５０〜５０００オングストロームの金属薄膜層若しくはセラミックス薄膜層と、透明フィルム層とがこの順に設けられた構成であることを特徴とする金属調化粧シート。 （もっと読む）

保護されたポリマーフィルムが、第１の主面、および第１の主面と反対側の第２の主面を有するポリマーフィルム基板と、少なくとも基板の第１の主面上に設けられた保護構造であって、酸化ホウ素の層および無機バリヤ層を含む保護構造とを含む。保護構造を、また、基板の第２の主面上に設けることができる。有機電子構成要素を、保護されたポリマーフィルム上に形成するか保護されたポリマーフィルムに付着することができる。
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【課題】 耐酸化性、耐久性、耐摩耗性、潤滑性に優れ、しかも低コストで製造可能な積層体、特にガラスレンズ用金型など、高温環境においても不活性な表面状態が維持されることが要求される分野に適した積層体を提供する。
【解決手段】 基材１上にＢ及びＮを含有する硬質皮膜２が形成された積層体であって，該硬質皮膜中のＢとＮの組成比が原子比で０．８≦Ｂ／Ｎ≦２の範囲にあり、さらに同硬質皮膜中にその原子濃度が１〜２５at％のＣを含有することを特徴とする潤滑性、耐摩耗性に優れた積層体。 （もっと読む）

【課題】
樹脂フィルムに薄膜を積層した積層体であって、酸素透過率が低い積層体を提供することにある。
【解決手段】
樹脂フィルムの少なくとも一方の面に３層以上の層を有してなり、該３層のそれぞれが樹脂フィルムに近い側から順に、無機層、数平均粒径が５μｍ以下でありアスペクト比が５０以上５０００以下の無機層状化合物を含有した樹脂からなる層、樹脂からなる層であることを特徴とする積層体。該無機層が金属、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物または金属酸窒化物からなる無機層である前記の積層体。前記いずれかに記載の積層体を有することを特徴とするディスプレイ用基板。 （もっと読む）

【課題】
巻取り加工が可能で、加工時や使用時の熱などで伸びやたわみが生じにくく寸法安定性が高く、かつ、加工時や使用時の薬品などで変質が生じにくく安定したガスバリア層が形成でき水蒸気や酸素などのガスバリア性に優れるガスバリア性フィルム、並びにこれを用いたディスプレイ用基板及びディスプレイを提供する
【解決手段】
荷重たわみ温度が１５０℃以上の基材フィルム１１と、該基材フィルム１１に、少なくともガスバリア層１３Ａと平滑化層１５Ａ、又は平滑化層１５Ａとガスバリア層１３Ａとが、この順に形成されてなり、好ましくは前記基材フィルム１１がポリエチレンナフタレートであり、前記ガスバリア層１３Ａが無機酸化物、無機酸化窒化物、無機酸化炭化物又は無機酸化窒化炭化物であり、前記平滑化層１５Ａがカルドポリマー、ゾル−ゲル、又はアクリル骨格を含有する材料であることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、殊に形態学的に定義されたポリマー表面の耐引掻性シーリングおよび装飾用金属塗装に適した多重層の層構造体、ならびに連続層を形成させるための真空技術的方法に関する。 （もっと読む）

【課題】加工時や使用時の熱などでも寸法安定性が高く、かつ、薬品などで変質が生じにくく、水蒸気や酸素などのガスバリア性に優れるガスバリア性フィルム、並びにこれを用いたディスプレイ用基板、カラーフィルタ、及び有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】荷重たわみ温度が１５０℃以上の基材フィルム１１と、該基材フィルム１１上に、少なくともガスバリア層１３と平滑化層１５又は平滑化層１５とガスバリア層１３とが、この順に形成されてなり、好ましくは前記基材フィルム１１がポリエチレンナフタレートであり、前記ガスバリア層１３が無機酸化物、無機酸化窒化物、無機酸化炭化物又は無機酸化窒化炭化物であり、前記平滑化層１５がカルドポリマー、ゾルゲル、又はアクリル骨格を含有する材料である、該ガスバリア性フィルムを用いたディスプレイ用基板、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子を特徴とする。 （もっと読む）

硬化したアクリル系高分子、硬化したアクリル系高分子中に分散している破裂した高分子微小中空球、および前記高分子微小中空球が硬化したアクリル系高分子中に分散した状態で破裂しながら形成された中空部を含む粘着シートおよびこれらの製造方法を提供する。 （もっと読む）