【課題】接着剤及びアンカーコート剤を使用することなくシーラント層が積層され、且つ積層体の反りやカールが少ない包装材料積層体の製造方法、包装材料積層体及びそれを用いて作製された包装体を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂フィルムからなる第１の基材３の両面に、第１の基材３と異なる種類の熱可塑性樹脂フィルムであってヒートシール性を有する第２の基材１，１を配設し、第１の基材３の貼合面と、第２の基材１の貼合面のいずれか一方には、大気圧プラズマ処理装置を用いた表面改質により熱接着性改質層を形成し、他方にはエアコロナ処理による表面改質層を形成し、第１の基材３及び第２の基材１の前記熱接着性改質層が形成された面と前記表面改質層が形成された面とを対向させ、接着剤及びアンカーコート剤を塗布することなく加熱圧着して貼合する。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィを用いたエッチング方法は、スパッタリングまたは蒸着などの方法により、クロム（Ｃｒ）および金（Ａｕ）などからなる膜を成膜し、レジストの塗布、硬化処理、露光、さらに現像およびレジスト膜の除去などの工程を必要とし、そして現像液や膜を除去するための溶液などを必要とし工程が複雑である。簡略なエッチング方法を実現する。
【解決手段】転写体１０は、基材１と、基材１上にパターン形成された剥離層２と、剥離層２上に形成された接合膜３とを備える。このような転写体１０を用いることで、フォトリソグラフィを用いることなく、被転写体２０の表面２５に、レジストからなるエッチングマスクを形成するので、従来のようにクロム（Ｃｒ）および金（Ａｕ）などからなる膜を成膜することなく、現像液などを用いることもなく、エッチングすることができ、被転写体２０の表面２５に、凹部２１を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐環境性、機械強度、絶縁性に優れる二軸配向ＰＰＳフィルムと芳香族重合体からなる繊維シートとの熱融着積層体（接着剤層を介していない）において、従来の課題である層間密着力の向上と耐熱クラスＨ種レベルの高耐熱性、耐環境性を両立させ、高絶縁性、加工性、ワニス含浸性を付与した高機能電気絶縁材を提供すること。
【解決手段】二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム層（Ａ層）の少なくとも片方の面に融点を有しない芳香族系重合体からなる繊維シート層（Ｂ層）が接着剤層を介することなく積層された積層体であって、Ａ層の厚さをａμｍ、Ｂ層の厚さをｂμｍとした時の該積層の構成厚さ比率（ａ／ｂ）が０．２５〜５．００であり、かつＡ層の広角Ｘ線回折法によって測定した相対結晶化指数５〜３０、EdgeおよびEndの２方向から各々測定した配向度が何れも０．１５〜０．６０である積層体。 （もっと読む）

ナノ粒子とポリマー材料との組み合わせをチャンバー内にある表面にイオン化又は活性化技術、特にプラズマ処理、を使って適用することを含む、基材上に撥液性表面を形成するための方法。 （もっと読む）

【課題】長期耐熱性、耐加水分解性に優れ、同時に電気絶縁性、加工特性を満たす信頼性の高い電気絶縁材料を提供する。
【解決手段】ポリフェニレンスルフィドフィルムの少なくとも片面に融点を有しない芳香族系重合体からなる繊維シートが接着剤を用いることなく接合された積層体において、ポリフェニレンスルフィドフィルムの厚みをａμｍ、繊維シートの厚みをｂμｍとしたときの該積層体の構成厚さ比率（ａ／ｂ）が０．２５以上、５．００以下であって、該積層体の長手方向の破断伸度と幅方向の破断伸度の少なくとも一方向の破断伸度が６５％以上である積層体。 （もっと読む）

本発明は、複合材料を生産する方法に関する。構造化されたゾル−ゲル層が、ガラス又はガラス−セラミック基板上へ付与される。続いて、更なる層が、ＰＶＤ法によって付与される。 （もっと読む）

【課題】過酷な環境下で保存されても密着性に優れ、かつ良好な透明性、ガスバリア耐性を備えた透明ガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】基材上に少なくとも低密度層及び高密度層から構成されるガスバリア層を有する透明ガスバリア性フィルムにおいて、該低密度層と該高密度層との間に、１層以上の中密度層を有することを特徴とする透明ガスバリア性フィルム。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、位相差特性、位相差安定性などの光学特性に優れた光学補償フィルムおよび偏光板を提供する。
【解決手段】 ヘーズが２％以下であるポリプロピレン系樹脂フィルムの少なくとも片面にマレイミド系樹脂をフィルム含むフィルムであって、波長５５０ｎｍで測定した面内位相差（Ｒｅ）が、０〜１５０ｎｍであり、波長５５０ｎｍで測定した面外位相差（Ｒｔｈ）が、５０〜３００ｎｍであることを特徴とする光学補償フィルム。 （もっと読む）

【課題】耐デスミア性に優れた多層プリント回路基板用フィルムを提供する。
【解決手段】フッ素原子を含有する芳香族ポリアミド樹脂からなる基材層と、基材層の少なくとも片面側に積層され、官能基を有する脂環式オレフィン重合体および硬化剤を含んでなる硬化性樹脂組成物からなる接着層とにより形成されてなる多層プリント回路基板用フィルム。 （もっと読む）

【課題】高寸法安定性で酸素や水蒸気を通過させにくく、そのため高温下においてもポリイミドフィルムと金属層との剥離強度の低下が小さく、高寸法精度を要求されるファインピッチ回路用基板に好適なガスバリアー性ポリイミドフィルムおよびこのポリイミドフィルムを用いた金属積層体を提供する。
【解決手段】弾性率が４ＧＰａ以上、５０〜２００℃の線膨張係数が０〜２２ｐｐｍ／℃、２００℃１時間の加熱収縮率が０．０５％以下であるポリイミドフィルムの片面に、ＳｉＯ_２層が形成されたガスバリアー性ポリイミドフィルムであって、酸素透過率が５．０×１０^−１５ｍｏｌ／ｍ^２・ｓ・Ｐａ以下であることを特徴とするガスバリアー性ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】水滴との接触角が１４０°を超える超撥水性を示す炭素材料および液滴との接触角が異なることにより液体を誘導する液体誘導炭素板を提供する。
【解決手段】炭素板の表面にレーザ処理により約３０μｍ間隔で窪みを形成し、その上をフッ素プラズマ処理することで水滴との接触角が１４０°を超える超撥水面が得られる。面Ａをフッ素プラズマ処理のみの撥水面とし、面Ｂを超撥水面として、面Ａに水滴を落とすと、水滴との接触角が異なる境界線に沿って水滴が誘導される。 （もっと読む）

【課題】簡便な製造プロセスにより、被転写体である水晶基板の特性に影響を与えることなく、電極となる導電性膜を水晶基板へ形成することが可能な転写体を提供する。
【解決手段】転写体１０は、基材１１と、基材１１の表面に形成され所定の形状にパターニング加工されて電極４となるべき導電性膜である金属膜１４と、少なくとも金属膜１４となる導電性膜の部分を覆うように形成されエネルギーを付与されると接着性を発現することが可能な接合膜３と、を備えている。このような構成の転写体１０は、導電性膜１４および接合膜３の形成された側が被転写体へ押し付けられると、接合膜３の膜面が被転写体へ接合する。そして、基材１１を被転写体から離反する方向へ引き離すと、接合膜３が被転写体と強固に接合しているため、導電性膜１４は、基材１１から剥離し、接合膜３を介して被転写体へ転写される。 （もっと読む）

【課題】耐摩擦性に優れた車両用窓ガラスを提供する。
【解決手段】真空槽２０内に有機ケイ素化合物の気体を導入しながら蒸着源２１からＳｉＯ₂の蒸気を放出させ、ＰＣ基板２５表面に炭素を含有するシリコン酸化物薄膜から成る保護膜を形成する。この保護膜は、耐摩耗性が高く、ヘーズの値が小さい。ＰＣ基板２５を保持する基板ホルダ２３に交流電圧を印加しながら保護膜を形成すると、耐摩耗性と密着性が高くなる。また、真空槽２０内に導入した炭化ケイ素化合物のガスをプラズマ化して保護膜を形成することもできる。 （もっと読む）

【課題】屈曲してもバリア性が低下し難く、導電性も低下し難い積層フィルムを製造しうる方法を提供する。
【解決手段】樹脂フィルム上にバリア膜及び透明導電膜を形成することにより、積層フィルムを製造する。バリア膜の形成は、ロール間放電プラズマＣＶＤ法により行う。透明導電膜の形成は、物理気相成長法により行うことが好ましい。樹脂フィルムとしては、ポリエステル樹脂フィルムやポリオレフィン樹脂フィルムを用いることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＯＣＨ組成を有し、特定の構造を有する炭化水素基置換ケイ素化合物を原料としてＣＶＤにより得られる炭素含有酸化ケイ素膜から成る封止膜及びその膜を含むガスバリア部材、ＦＰＤデバイス及び半導体デバイスの提供。
【解決手段】二級炭化水素基、三級炭化水素基、及び／又はビニル基がケイ素原子に直結した構造を有する有機ケイ素化合物、例えば下記式（１）を原料として用い、ＣＶＤにより形成した炭素含有酸化ケイ素からなる封止膜である。式中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３は炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。Ｒ^４は炭素数１〜１０の炭化水素基または水素原子を表す。ｍは１乃至３の整数、ｎは０乃至２の整数を表し、ｍ＋ｎは３以下の整数を表す。
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【課題】生産性に優れかつ高温高湿環境下においても光学特性の変化が起こり難い吸収型多層膜ＮＤフィルターとその製造方法を提供すること。
【解決手段】ＰＥＴ（ポリエステル）フィルム等のフレキシブル基板の少なくとも片面にＳｉＯｘ等から成る誘電体膜層と吸収膜層とを交互に積層させて成る吸収型多層膜を備える吸収型多層膜ＮＤフィルターであって、上記吸収膜層が金属膜（Ｎｉ-Ｔｉ合金膜）と、この金属膜の誘電体膜層と接する少なくとも一方の界面を窒化して形成された窒化金属膜とで構成されていることを特徴とする。このＮＤフィルターでは吸収膜層が金属膜で構成されるため生産性に優れ、かつ、金属膜の少なくとも片面に形成された窒化金属膜の作用により金属膜の酸化が抑制されるため高温高湿環境下においても光学特性の変化が起こり難い利点を有している。 （もっと読む）

【課題】赤外線領域での遮熱性能に優れ、色味調整が容易で、誘電体膜積層膜のクラック耐性、耐衝撃性に優れ、低ヘイズで、耐久性（耐光性）に優れた誘電体膜積層体と、その製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に、無機顔料を含有する層と、低屈折率誘電体膜と高屈折率誘電体膜とを交互に積層した誘電体膜ユニットとを有することを特徴とする誘電体膜積層体。 （もっと読む）

【課題】環境負荷の大きい有機溶剤を含有する接着剤や粘着剤を用いることなく、シクロオレフィン系ポリマーフィルムとケイ素又は二酸化ケイ素を含む基板とを大きな接着力で接着可能であり、もって環境に優しい積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素又は二酸化ケイ素を含む基板と、前記基板に密着積層したシクロオレィン系ポリマーフィルムとを有する積層体の製造方法であって、シクロオレフィン系ポリマーフィルムの一方の面に、酸素ガスの存在下でプラズマ処理を施す工程Ａと、前記シクロオレフィン系ポリマーフィルムのプラズマ処理面を、接着剤を介することなく、ケイ素又は二酸化ケイ素を含む基板に圧着する工程Ｂとを含むことを特徴とする、積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】生産性、フレキシビリティに優れ、かつ極めて高いガスバリア性能と高い耐久性を達成できるガスバリアフィルム及び該ガスバリアフィルムを用いた有機光電変換素子を提供することにある。
【解決手段】基材上に珪素化合物を含有するガスバリア層を少なくとも１層有するガスバリアフィルムであって、前記ガスバリア層が珪素化合物溶液を塗布乾燥して形成された層を改質処理することにより形成され、改質処理により珪素酸化物を含む層へ改質された層の膜厚が１０〜１００ｎｍであり、かつ前記改質された層の表面の最大高低差Ｒｐｖが３０ｎｍ以下であることを特徴とするガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】 屈曲しても優れたガスバリア性を維持することで長寿命を達成できる有機デバイスを提供すること。
【解決手段】 プラスチックフィルム基材上に、無機バリア層とポリマー層とが互いに隣接して配置された２層からなるユニットを１単位として、３〜５回繰り返し積層されてなるガスバリア性積層体を少なくとも１つ有するガスバリアフィルムにおいて、前記無機バリア層の少なくとも１層がＳｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、ＣｅおよびＴａから選択される酸化物の２種以上より構成され、前記２種以上の金属酸化物から構成される無機バリア層が、複数の金属ターゲットと酸素ガスを原料とし、プラズマを用いた反応性スパッタ方式で形成され、且つ前記ガスバリアフィルムの３８℃・相対湿度９０％における水蒸気透過率が０．００５ ｇ／ｍ²／ｄａｙ以下であり、かつ、２５℃でＩＰＣ規格での５０回繰り返し屈曲試験後のバリア性が０．００４ｇ／ｍ²ｄａｙ以下であることを特徴とするガスバリアフィルム。 （もっと読む）