【課題】ウエハ表面の段差にかかる研削応力を分散させ、ウエハにおけるディンプルやクラックの発生を抑制することができる粘着シートの基材フィルムを提供する。
【解決手段】（Ａ）厚みが１００〜４００μｍであり、２３℃における貯蔵弾性率が０．２〜６．０ＭＰａである段差吸収層と、（Ｂ）熱可塑性樹脂からなる層とから構成された基材フィルム２２であって、複数のデバイスがストリートによって区画されて形成されたデバイス領域と、該デバイス領域を囲繞する外周余剰領域とが表面に形成された該ウエハの表面側を研削装置の保持テーブルにて保持し、該ウエハの裏面のうち該デバイス領域に相当する領域１６を研削して凹部を形成し、該凹部の外周側にリング状補強部１７を形成する裏面研削工程で、該ウエハ表面に貼付される粘着シートに用いられる。 （もっと読む）

【課題】優れた鏡面性と耐傷性とを備える化粧シート及び化粧板を与える転写シートを提供する。
【解決手段】表面保護層及び転写用フィルム層を有する転写シートであって、該表面保護層が電離放射線硬化性樹脂組成物層の硬化物層であり、（ａ）所定の測定法により測定される該表面保護層の塗膜伸び率が５％以上２０％未満であること、（ｂ）前記転写用フィルム層の平滑性は、ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４に準拠して測定される表面の算術平均粗さＲａが２μｍ以下であること、及び（ｃ）ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６：１９９９に規定されたクロスカット法に基づく付着性試験により、該表面保護層が転写用フィルム層より剥離されること、を特徴とする転写シートである。 （もっと読む）

【課題】反射防止フィルムを偏光板化する際、保護フィルムを装着していない状態で反射防止フィルムをアルカリ溶液に浸漬させてケン化処理をおこなっても反射防止性能が変化しない、ケン化耐性に優れた反射防止フィルムを提供することにある。
【解決手段】透明基材の一方の面にハードコート層と、低屈折率層を積層した反射防止フィルムにおいて、前記ハードコート層が、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体から形成され、かつ、前記低屈折率層が、少なくとも紫外線硬化型材料と低屈折率粒子を含有してなる低屈折率コーティング剤から形成され、且つ、前記低屈折率層が、紫外線硬化型材料と、紫外線硬化型材料１重量部に対して、０．４重量部以上０．６重量部未満の範囲内である低屈折率ナノ微粒子、を含有してなる低屈折率コーティング剤から製造されている。 （もっと読む）

【課題】反りの発生を抑制することができるシートの製造方法を提供する。
【解決手段】帯状のシート５３’がコイル状に巻回されたシートコイル５３から該帯状のシートを巻き出し、該帯状のシートから矩形のシート１０を切り出す工程を含むシートの製造方法であって、前記矩形を構成する辺のうち向かい合う一対の辺の中点同士を結ぶ線と、帯状のシートの長手方向とが、直交又は平行とならないように、帯状のシートから矩形のシートを切り出すことを特徴とする、シートの製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】ポリエステル系フィルム基材と透明導電層との密着性及び耐久性を向上させた透明導電性フィルム及び該透明導電性フィルムを備えたタッチパネルを提供する。
【解決手段】ポリエステル系フィルム基材上に、金属酸化物からなる透明導電層を少なくとも備えた透明導電性フィルムであり、該ポリエステル系フィルム基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層が形成されており、該透明導電層が積層される前のハードコート層が形成されたポリエステル系フィルム基材の、１５０℃の環境下で１時間放置後のフィルム縦方向の熱収縮率が、０．５％以下であることを特徴とする、透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】加飾樹脂成形品に意匠性を付与するための射出成形同時転写加飾法に用いられる三次元成形加飾フィルムであって、プライマー印刷面の状態が良好であり、乾燥性に優れ、装飾層の転移性を悪化させず、成形性（形状追従性）が良好であり、かつ、装飾層と保護層との初期密着性及び耐熱試験後の密着性を良好な三次元成形加飾フィルムの提供。
【解決手段】基材１１上に、離型層１２、保護層１３、プライマー層１４、及び装飾層１５をこの順で積層してなる三次元成形加飾フィルムであって、該保護層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であり、また、該プライマー層がポリオール及びイソシアネートを含有するプライマー組成物の硬化物であり、さらに、該ポリオールのガラス転移温度Ｔｇが５５℃以上であり、かつ、水酸基価が３０〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇであることを特徴とする三次元成形加飾フィルム及びそれを用いた加飾成形品、並びにそれらの製造方法。 （もっと読む）

【課題】輝度、隠蔽力、視野角などの点で良好な光学特性を有する光拡散シートを提供する。
【解決手段】１００重量部のバインダー樹脂および７０〜１３０重量部の球状有機ポリマービーズを含む被覆層１２０で第１の基体１１０の一方の面をコーティングし、次いで乾燥させて、エンボス面を有する転写膜を製造する工程と、紫外線硬化性（ＵＶ−硬化性）樹脂で第２の基体の一方の面をコーティングし、前記転写膜を前記第２の基体に積層して、前記転写膜の前記エンボス面が前記第２の基体の前記ＵＶ−硬化性樹脂被膜と接触している積層物を提供する工程と、前記第２の基体が１．４１〜１．５９の屈折率を有するエンボス拡散層を有するように、積層物を硬化させ、前記積層物から前記転写膜を取り外す工程、を含み、前記転写膜の前記エンボス面が１３０〜１５０°のセグメント角θを有する光学シートを製造する方法。 （もっと読む）

【課題】耐磨耗性および耐薬品性に優れ、成形品曲面部においてクラックを発生させず、しかも被転写物品に対する接着性がよいハードコート層を形成することができる、ハードコート樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（メタ）アクリル当量１００〜３００ｇ／ｅｑ及び重量平均分子量５０００〜５００００を有するポリマーと（メタ）アクリロイル基６個以下及び重量平均分子量１０００〜１００００を有するオリゴマーとを、７０／３０〜９５／５の重量比で含有する活性エネルギー線硬化型ハードコート樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】二軸配向ポリエステルフィルム上に易接着層を介しハードコート層を設けたハードコートフィルムであって、特に耐湿熱条件下での密着性にも優れるハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】本発明は、二軸配向ポリエステルフィルム１の少なくとも片面に設けられた易接着層２を介してハードコート層３が設けられたハードコートフィルム１０である。前記易接着層２は、ガラス転移点５０〜１０５℃であり、且つ重量平均分子量が３０〜５５万のアクリル変性物からなる。前記ハードコート層３は、電離放射線硬化型樹脂組成物を含有する。 （もっと読む）

【課題】加飾樹脂成形品に意匠性を付与するための射出成形同時転写加飾法に用いられる三次元成形加飾フィルムであって、加飾樹脂成形品の最表面の層として転写される保護層が、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であり、プライマー印刷面の状態が良好であり、乾燥性に優れ、装飾層の転移性を良好なものとする三次元成形加飾フィルム及びそれを用いた加飾成形品、並びにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に、離型層、保護層、プライマー層、及び装飾層をこの順で積層してなる三次元成形加飾フィルムであって、該保護層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であり、また、該プライマー層がポリオール及びイソシアネートを含有するプライマー組成物の硬化物であり、さらに、該ポリオールのガラス転移温度Ｔｇが５５℃以上であり、かつ、標準ポリスチレンで換算された重量平均分子量が１，０００〜１００，０００であることを特徴とする三次元成形加飾フィルム及びそれを用いた加飾成形品、並びにそれらの製造方法。 （もっと読む）

【課題】印刷方式によりカラーフィルタを形成可能なフレキシブルカラーフィルタ基板、並びに画素パターン形状及び寸法安定性に優れたカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】無機膜からなるバリア層が両面に設けられたフィルム基板のいずれか一方の面に、印刷方式でカラーフィルタを製造するためのアンカー層が形成され、前記アンカー層が、光硬化型ポリマー、（メタ）アクリルモノマー、シランカップリング剤及び光開始剤を含む塗布剤からなることを特徴とするフレキシブルカラーフィルタ基板、並びに該フレキシブルカラーフィルタ基板を備えたカラーフィルタ及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた成形加工性を有し、成形加工後に層間での剥離が生じないで、かつ高輝度意匠性に優れる真空成形用化粧シートを提供すること。
【解決手段】基材上に装飾層、接着層、及び透明樹脂層をこの順に有する真空成形用化粧シートであって、該基材がポリオレフィンフィルムからなり、該透明樹脂層がポリエステルフィルムからなり、かつ該装飾層に含まれるパール顔料の体積基準平均粒径が２０μｍ以下であることを特徴とする真空成形用化粧シート及びそれを基体に貼付した化粧板である。 （もっと読む）

【課題】パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルム、モスアイ方式による反射防止フィルム等の光学フィルムに関して、従来に比して一段と長期の安定性を確保する。
【解決手段】透明フィルムによる基材２と、電離放射線硬化性樹脂による賦型樹脂層４との間に、少なくとも基材２の１成分と電離放射線硬化性樹脂とを含んでいる緩衝層３を配置する。 （もっと読む）

【課題】良好な透明性を示すガスバリア性フィルム、その製造方法及びガスバリア層、並びにガスバリア性フィルム又はガスバリア層を用いた装置を提供することを課題とする。
【解決手段】プラスチック基材１と、プラスチック基材１上に接して設けられた有機層２と、有機層２上に接して設けられた無機層３とを有し、無機層３の屈折率から有機層２の屈折率を差し引いた屈折率差を０．１５以下であるガスバリア性フィルムとすることにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】その表面の凹凸形状により高級感のある意匠性と、加工適性及び使用適性とを有する化粧シートを安価にかつ容易に製造できる製造方法、化粧シート及びこれを用いた化粧板を提供する。
【解決手段】硬化させた凹凸賦型層を有する賦型シートと、未硬化の樹脂組成物層を有する積層体Ｉとを、該凹凸賦型層と樹脂組成物層とが対面するようにラミネートさせた後、電離放射線を照射して未硬化の樹脂組成物層を硬化させて凹凸層を形成することを特徴とする化粧シートの製造方法、ならびに基材シートＢ、凹凸層、凹凸賦型層、凹凸付与層、及び基材シートＡを順に有し、凹凸付与層、凹凸賦型層及び凹凸層が所定の関係を有する化粧シートである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、指紋跡などの汚染物質が付着した場合でも、汚染物質が視認されにくく、かつ汚染物質が拭き取られやすい光学部材を提供する。
【解決手段】本発明に係る光学部材３は、透明な基材１と、前記基材１を覆う保護層２とを備える。前記保護層２が、アクリル樹脂の硬化物と、前記硬化物中に分散している平均粒径５０〜５００ｎｍのＳｉＯ₂粒子とを含む。前記保護層２に対する前記ＳｉＯ₂粒子の割合が５〜５０質量％の範囲である。前記保護層２の膜厚が０．５μｍ以上である。前記保護層２の表面のオレイン酸に対する接触角が２０°以下である。前記保護層２の表面粗さＲａが２０〜１００ｎｍの範囲である。光学部材３のヘイズが、１．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】高強度かつ環境配慮型である上、反りの発生が少なく、耐薬品性、耐汚染性、及び高平滑性を有する化粧板を提供する。
【解決手段】基材の一方の面に、接着剤層、原紙、及び表面保護層を順に有し、該表面保護層が、電離放射線硬化型樹脂（Ａ）及び熱硬化型樹脂（Ｂ）を含有する樹脂組成物の硬化物層であり、該樹脂組成物中の（Ｂ）の含有量が、（Ａ）及び（Ｂ）の合計量に対し２〜４０質量％であることを特徴とする化粧板である。 （もっと読む）

【課題】高硬度かつ環境配慮型である上、耐薬品性、耐汚染性、及び高平滑性を有する化粧板の製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）基材１／接着剤層２／原紙３／印刷層４からなる積層体を形成する工程、（ｂ）印刷層上に電離放射線硬化性樹脂組成物層を設け、該樹脂組成物層と賦型シート５とを対面させて、又は賦型シート上に電離放射線硬化性樹脂組成物層６を設け、印刷層と該樹脂組成物層とを対面させて、積層体と賦型シートとをラミネートする工程、及び（ｃ）電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂組成物層を硬化させ、印刷層上に保護層７を形成させる工程を順に有し、基材／接着剤層／原紙／印刷層／保護層／賦型シートからなり、該原紙の坪量が７０ｇ／ｍ²以下であり、原紙／印刷層からなる積層体の透気度が５００秒以下であり、かつ該原紙中への電離放射線硬化性樹脂組成物の含浸率が１５％以上１００％未満である。 （もっと読む）

【課題】
透明導電膜パターンの視認（骨見え）が十分に抑制された透明導電性フィルムおよびそれを備えたタッチパネルを提供すること。
【解決手段】
屈折率が１．６１〜１．７０の基材フィルムの片面もしくは両面に、屈折率が１．５０〜１．６０で基材フィルム片面当たりの光学厚みが（１／４）λである第１層、屈折率が１．６１〜１．８０である第２層、屈折率が１．５０以下である第３層、および屈折率が１．８１以上でありパターン化された透明導電膜をこの順に有し、基材フィルム片面当たりの前記第１層の光学厚みと前記第２層の光学厚みの合計が（１／４）λである（但し、λは３８０〜７８０ｎｍの範囲）、透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】膜厚分布が均一であり、色むら、はじき、点欠点が少ない高品質な反射防止フィルムの製造方法であって、特に、点欠点の少ない反射防止フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性支持体上に反射防止層を有する反射防止フィルムを製造する方法であって、反射防止層形成用塗工液を前記光透過性支持体の少なくとも一方の面に塗工して塗膜を形成する塗布工程と、前記塗膜を乾燥させる乾燥工程とを含み、前記乾燥工程が、第一乾燥工程と第二乾燥工程とを含み、前記第一乾燥工程は、前記塗膜の膜厚残存率が８０％〜３５％の範囲内となるまで行われ、前記第一乾燥工程において、前記塗膜の乾燥による膜厚減少速度を、０．２μｍ／ｓｅｃ以下とし、前記第二乾燥工程において、前記塗膜の乾燥による膜厚減少速度を、０．３μｍ／ｓｅｃ以上とする。 （もっと読む）