説明

Fターム[4F202AK03]の内容

プラスチック等の成形用の型 (108,678) | 加熱冷却手段の具体的な特徴 (980) | エネルギー線の特徴 (125)

Fターム[4F202AK03]に分類される特許

1 - 20 / 125


【課題】洗浄によるパターンの劣化を抑制することができるテンプレート処理方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート処理方法は、主面を有する基板と、前記主面上に形成され、凹部を含む第1のパターンと、前記第1のパターンとは異なる位置に前記主面上に形成され、凹部を含む第2のパターンとを具備し、かつ、前記第1のパターンは第1の材料を含み、前記第2のパターンは前記第1の材料とは異なる第2の材料を含むテンプレート1を処理する。実施形態のテンプレート処理方法は、前記第1および第2の材料とは異なる第3の材料を含む被覆部材11で前記第2のパターンを被覆する。次に、被覆部材11で前記第2のパターンを被覆した状態で、テンプレート1を洗浄する。次に、被覆部材11を除去して前記第2のパターンを露出させる。 (もっと読む)


【課題】光学素子の製造方法において、曲率を有する光学面を有する光学素子の光学面に複数の凹凸形状による微細構造を精度よく形成することができるようにする。
【解決手段】凸レンズ面1aに沿って配置された複数の凹凸形状による反射防止部を備える光学素子の製造方法であって、弾性体からなる基体部5Aの一表面に、反射防止部の凹凸形状を凸レンズ面1aの接線方向に沿って伸長または圧縮し反転させた形状からなる成形面部を形成して、微細構造形成用型5を製作する型製作工程と、微細構造用形成用型5を湾曲させて、一表面を凸レンズ面1aに実質的に沿う形状に変形させることにより、成形面部を反射防止部が反転した形状に変形させる型変形工程と、凸レンズ面1aを有するレンズ本体1の凸レンズ面1aに成形用樹脂を塗布し、型変形工程で変形された成形面部5c’を凸レンズ面1aに押圧し、成形用樹脂を硬化させる成形工程と、を備える方法とする。 (もっと読む)


【課題】耐久性が高く、かつ安価な複製モールドを提供する。
【解決手段】本発明に係る複製モールド1は、ナノインプリント用の複製モールド1であって、基体10と、基体10上に形成され、主成分が無機ナノ粒子と樹脂からなり、表面に凹凸が形成された複製モールド構造体20とを具備する。複製モールド構造体20は、押し込み弾性率が4000N/mm以上、74000N/mm以下であり、線熱膨脹係数が10×10−5−1未満であり、かつ、365nmにおける透過率が70%以上である。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、高屈折率材料の形成技術や加工技術を要することなく、凹凸構造のアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用テンプレート、インプリント用テンプレートの製造方法、およびインプリント方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 テンプレート基板に銀イオンを含有するイオン交換表面層を備えた高エネルギービーム感受性ガラス基板を用い、アライメントマークの凸部における可視光域の光に対する光学濃度を、前記アライメントマークの凹部における可視光域の光に対する光学濃度よりも高くすることにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】光学シートを形成するロール金型を製造するに際し、溝の切削開始部と溝の切削終了部とで、溝形状が変化してしまうことを抑制できるロール金型の製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸形状を有する光学シート10の凹凸部分を成型するための環状突起22と溝23とを交互に有するロール金型20を製造する方法であって、表面に被加工層が形成されたロール基体21を回転させ、切削工具30により光学シートの凸部13に対応する溝を被加工層に形成する切削工程を含み、該切削工程は、溝が完成後の開口部形状を有するように溝の開口部側の一部を切削する第1切削工程と、該第1切削工程によって開口部側の一部が切削された溝であって、該溝の両側の溝に対しても第1切削工程が行われているについて、目的の深さまで切削する、第2切削工程とを含んでいることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】テンプレートの洗浄時間を短縮できるテンプレート洗浄装置を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート洗浄装置は、表面に凹凸パターンおよび溝部が形成されているインプリント用のテンプレートの前記溝部のイメージを取得するためのイメージ取得手段10を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記イメージ取得手段10により取得された前記溝部のイメージと、予め取得しておいた基準イメージとを比較して、前記テンプレートの洗浄時間を決定する機能を含む洗浄時間決定手段12を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記洗浄時間決定手段12により決定された洗浄時間に基づいて、前記テンプレートを洗浄するための洗浄手段13を具備する。 (もっと読む)


【課題】 光硬化性ナノインプリント用組成物を用いて、金型パターンよりも微細なパターンを基板上に形成するパターンの製造方法を提供する。
【解決手段】 アルコキシシラン類の加水分解物を含有する光硬化性ナノインプリント用組成物を基板上に塗布し塗膜を形成し、金型と前記塗膜とを接触させ、金型のパターンを転写し、光照射して塗膜を硬化させた後に、120℃〜250℃で熱処理をすることで金型のパターンよりも微細なパターンを基板上に形成する。 (もっと読む)


【課題】半導体装置等の製造に用いられるインプリント方法において、製造するデバイス
特性の悪化又は微細パターンの加工不良を防止することができるテンプレート及びパター
ン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
凹部及び凸部を有するパターンが形成された透光性基板と、凹部の底面及び凸部の上面に
形成された金属を含有する遮光膜と、遮光膜上に形成された金属拡散防止保護膜と、を備
えたことを特徴とするテンプレートを用いて、パターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】ロール金型表面の全周において光学フィルムの品質上問題となるような不連続部分のないシームレスな微細パターンを形成することができるロール金型の製造方法を提供する。
【解決手段】円環基板の外周面上にマスター原版型のパターンの反転形状を繰り返し転写して円環マスターを作製し(ステップS2)、その円環マスターを用いて、円環状の内周面にパターンが転写された電鋳マスターを作製し(ステップS3)、その電鋳マスターの内周面に電気メッキによって金属層を析出させることにより、円環状の外周面にパターンを有するロール金型を作製する(ステップS4)。 (もっと読む)


【課題】金型の成形面に付着する汚れ、その中でも酸化膜を還元処理し、本来の金型素材面を露出させることによって成形品の不良発生を低減できる金型の処理方法と処理装置を提供する。
【解決手段】第1モールドベースと第2モールドベースを対向配置させ、パーティングライン面を介して内部にキャビティーを形成し、前記キャビティー内に成形材料を注入し、固化させて成形体を得る金型であって、前記第1モールドベースは前記キャビティーの一方の成形面となる第1成形面を備え、前記第2モールドベースは前記キャビティーの他の一方の成形面となる第2成形面を備え、前記成形体の成形工程前に、少なくとも前記第1成形面と前記第2成形面とを低酸素分圧雰囲気として、前記第1成形面と前記第2成形面とを加熱する金型表面処理方法。 (もっと読む)


【課題】小型で高品質のレンズや当該レンズを成形可能なレプリカ型等を、高精度に成形することが可能となる金型の製造方法、及びその金型を提供すること。
【解決手段】本技術に係る金型製造方法は、ベースに孔を形成することを含む。前記ベースの孔に、第1の部材が有する孔が所定の位置となるように、前記第1の部材が所定の回転位置で挿入される。前記第1の部材の孔に、第2の部材が有する成形領域が所定の位置となるように、前記第2の部材が所定の回転位置で挿入される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、液晶表示装置などのディスプレイの光源からの照明光路制御用光学レンズシートに関するものであって、その表面を形成している単位となる光学レンズが規則的に配置されている場合、液晶パネルの画素と光学レンズが干渉してモアレを生じ易いという問題と、その単位となる光学レンズの表面形状によっては、耐擦傷性や輝度の低下を生じるという問題があり、それらの解決を課題とする。
【解決手段】単位となる光学レンズの表面に、その単位寸法より微細な寸法の微細凹凸部を、3箇所以上で前記表面に沿って、前記表面を覆うように設けることにより、前記課題を解決するものである。 (もっと読む)


【課題】生産性の高いパターン形成方法を実現するテンプレート、テンプレートの表面処理方法、テンプレートの表面処理装置及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、凹凸パターンが設けられた転写面を有し、前記凹凸パターンの凹部に、光によって硬化する前の状態の光硬化性樹脂液を充填し、前記光によって前記光硬化性樹脂液を硬化させて形成される樹脂の表面に前記凹凸パターンを反映した形状を形成するためのテンプレートが提供される。前記テンプレートは、基材と、表面層と、を備える。前記基材は、凹凸が設けられた主面を有し、前記光硬化性樹脂液が硬化する光に対して透過性である。前記表面層は、前記基材の前記凹凸を覆い、前記凹凸の形状を反映した前記凹凸パターンを形成する。前記表面層の、前記光によって硬化する前の状態の前記光硬化性樹脂液に対する接触角は30度以下である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、基本微細構造体同士を可能な限り近接させて、しかもこの基本微細構造体を高精度に位置決めした微細構造体の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、表面に微細な凹凸パターンを形成した基本微細構造体3が基材2上で複数隣接して並ぶように配置した微細構造体1の製造方法において、前記凹凸パターンの反転凹凸パターン4bが形成された金型11上で前記凹凸パターンを有する硬化樹脂からなる前記基本微細構造体3を成形する基本成形工程と、この基本成形工程で得られた前記基本微細構造体3を前記基材2に移動する移動工程と、を有し、前記基本成形工程と前記移動工程とを2回以上繰り返すことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】所定の微細な凹凸パターンを表面に有するモールドを用いたナノインプリントにおいて、基板上の硬化性樹脂にモールドを押し付け、その後これらを剥離する際に、硬化性樹脂パターンのそれぞれの凸部の端部が倒れることを抑制する。
【解決手段】ライン状の複数の凸部14および複数の凹部15から構成される微細な凹凸パターン13を表面に有するナノインプリント用のモールド1において、凹凸パターン13が、所定形状の端部15aを有する凹部15を少なくとも1つ含むものであり、所定形状が、上記端部15aを有する凹部15における当該端部15以外の部分であって当該端部15aに接続している接続部分15bの断面のアスペクト比よりも小さいアスペクト比の断面を当該端部15aが有するような形状であるものとする。 (もっと読む)


【課題】高い精度で安定したパターン形成が可能であり、取扱い性にも優れたモールドと、その製造方法を提供する。
【解決手段】モールド1の一方の面をパターン形成用の凹凸構造領域2を有するパターン形成面1Aとし、他方の面をベース面1Bとし、少なくともパターン形成面1Aおよびベース面1Bにポリジメチルシロキサン層を備えたものとし、パターン形成面1Aに位置するポリジメチルシロキサン層3を、低分子量シロキサンを[−Si(CH32O−]k(kは3〜20の整数)で表される環状構造としたときに、低分子量シロキサンの含有量が2000ppm以上である高含有率ポリジメチルシロキサンからなるもの、ベース面1Bに位置するポリジメチルシロキサン層4を、上記の低分子量シロキサンの含有量が1000ppm以下である低含有率ポリジメチルシロキサンからなるものとした。 (もっと読む)


【課題】光の反射防止性能、光の透過性能、ヘイズ等の光学特性に優れ、うねりや点欠陥の極めて少ないナノ構造体を作製するための型体の製造方法を提供すること。
【解決手段】アルミニウム材料の表面を、電解研摩により加工した後、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化皮膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を形成させる、ナノ構造体を作製するための型体の製造方法であって、
該電解研摩の電解液が、濃リン酸40体積部以上75体積部以下、及び、濃硫酸10体積部以上55体積部以下、及び、配合する水5体積部以上25体積部以下を配合し、かつ、該濃硫酸の体積が該配合する水の体積より多くなるように配合してなるものであることを特徴とする型体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】所定の組成を有するレジスト層を用いて、所望の解像度を示すレジストパターンを形成する際の必要露光量の低減。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Aと、酢酸−n−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Bとを含むレジスト現像剤。 (もっと読む)


【課題】テンプレートに付けたパターンを印写可能媒体に印写することによってパターンを基板に転写する印写リソグラフィで、この印写可能媒体として熱可塑性または熱硬化性樹脂を使うとき、それだけを必要な温度に迅速に加熱する装置・方法を提供する。
【解決手段】テンプレート30の転写すべきパターンの上に薄い金属層35が設けてあり、このテンプレート30を印写可能媒体34に接触させ、それとそれを保持するホルダ31を通してレーザ36のビーム37で照射する。このビーム37を金属層35が効率的に吸収し、この金属層からの熱を印写可能媒体34へ効率的に伝達するので、印写可能媒体34の加熱が迅速であり、熱が基板32に入って基板を歪めることがない。 (もっと読む)


【課題】型を複数回繰り返して使用することにより、平板状の基板の面に硬化した成型材料で構成された複数の凸部を設けてマスター型を製造するマスター型製造装置において、マスター型での不良の発生を防止する。
【解決手段】型M1を複数回繰り返して使用することにより、平板状の基板W1の面に硬化した成型材料で構成された複数の凸部W2を設けて、マスター型M2を製造するマスター型製造装置1において、凸部W2を形成するための型M1の凹部M3に供給された硬化前の成型材料を観察する硬化前観察カメラ17を有する。 (もっと読む)


1 - 20 / 125