【課題】アライメントマークが形成された台座付きの基板を作製するにあたって、アライメントマークと台座の相対的な位置ずれを低減する。
【解決手段】本発明の基板作製方法は、光透過性の基板１の第１の主面上に、この基板１に形成すべきアライメントマーク５と台座の位置に応じたハードマスク２ａを形成する工程と、そのハードマスク２ａを用いて基板１をエッチングすることにより、基板１の第１の主面にアライメントマーク５を形成する工程と、基板１の第１の主面上にハードマスク２ａを覆う状態でレジスト層６を形成した後、このレジスト層６に基板１の第２の主面側から露光用の光を照射することにより、レジスト層６を露光する工程と、そのレジスト層６の露光部分を現像により除去して得られるレジストパターン６ａをマスクに用いて基板１をエッチングすることにより、基板１の第１の主面側に台座を形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】微細凹凸パターンを転写する側のモールドと、転写される側の転写用基板とを剥離する際に、転写用基板のレジスト層に転写された微細凹凸パターンが損傷を受けることを効果的に防止できる。
【解決手段】基板上にレジスト層が形成された転写用基板１４のレジスト層１２に、モールド１０の微細凹凸パターン１０Ａを転写して硬化した後、転写用基板１４とモールド１０とを剥離する剥離工程を備えた微細凹凸パターンの形成方法において、剥離工程は、転写用基板１４の周縁部を固定した状態で転写用基板１４の基板裏面側を加圧して転写用基板１４を湾曲状に撓ませることにより、該撓みによって転写用基板１４とモールド１０との剥離を開始する第１の剥離工程と、基板裏面側を加圧した圧力を徐々に減少させて転写用基板１４に撓みの戻り力を作用させることにより、転写用基板１４の微細凹凸パターンのうちの第１の剥離工程で剥離されなかった微細凹凸パターン１２Ａを剥離する第２の剥離工程と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性に優れ、転写材樹脂との離型性に優れ、且つ樹脂モールド自体の耐久性に優れた、転写材樹脂への繰り返し転写に耐えうる樹脂モールドを提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂モールドは、表面に微細凹凸構造を有する樹脂モールドであって、樹脂モールド表面部のフッ素元素濃度（Ｅｓ）が、樹脂モールドを構成する樹脂中の平均フッ素元素濃度（Ｅｂ）以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】エッジライト型バックライト、あるいは直下型バックライトを用いた液晶表示装置において、光学シートの使用枚数の削減下でも、正面輝度が高く、輝度ムラが低減でき、高輝度視野角範囲が個別に調整可能な光学シートを効率よく得るための加工用成形ロール金型、光学シート、該シートの製造法、該シートを用いたバックライトおよび表示装置の提供。
【解決手段】シリンダ基材上に金属からなる加工層４を備え、該加工層４には互いに交差する2つ以上の方向に延在する畝状に反復配列した凹溝群を有し、うち１つの凹溝群の深さが他の凹溝群の深さよりも深く、しかもその延在方向が該シリンダの回転方向に対して−６０〜６０°の角度をなすプラスチックシート加工用成形ロール金型１、該ロール金型１を用いた光学シートの製造方法、該製造方法により得られる光学シート、該光学シートを用いた液晶表示装置用バックライト、および表示装置である。 （もっと読む）

【課題】インプリント装置の構成の複雑化を抑えながらインプリント処理のスループットおよび／または収率を向上させる。
【解決手段】インプリント装置は、基板に樹脂を塗布し該樹脂に型を押し付けた状態で該樹脂を硬化させる。前記型は、ポーラス層を有する。前記インプリント装置は、前記型を保持するチャックと、前記チャックによって保持された前記型の前記ポーラス層から気体が排出されるように前記ポーラス層に気体を供給する供給部とを備える。 （もっと読む）

【課題】反応性イオンエッチング法を用いたマスターモールドの製造において、広幅凹部および狭幅凹部を含む凹凸パターンの凹部の均一性の高いマスターモールドを製造することを可能とする。
【解決手段】反応性イオンエッチング法によって、幅が広い凹部Ｒ１および狭い凹部Ｒ２を含む凹凸パターンを表面に有するマスターモールド１０を製造する製造方法において、被加工層３と下地層２を備える原板１の下地層２をエッチストップ層として被加工層３に対しエッチングを行うメインエッチング工程と、メインエッチング工程を経て凹部（Ｒ１およびＲ２）の均一性が低い原板１に対し、凹部（Ｒ１およびＲ２）の均一性を向上させるように、堆積物を生成しかつ下地層２をエッチングすることが可能な第１ガスを含むエッチングガスを用い、１５Ｗ以下のバイアス電力の下でエッチングを行う追加エッチング工程とを実施する。 （もっと読む）

【課題】ナノサイズの微細構造を有する金型を効率的に製造することができる金型製造装置を提供する。
【解決手段】前記無機薄膜５上にアミノ基、メルカプト基、チオール基、ジスルフィド基、シアノ基、ハロゲン基、スルフォン酸基の１つ以上を含む官能基を有するシランカップリング剤を含有する自己組織化膜４０を形成する自己組織化膜形成部２と、前記自己組織化膜４０の表面を洗浄する洗浄部３と、前記自己組織化膜４０上に通電層４１を形成する通電層形成部４とを備え、前記自己組織化膜形成部２、洗浄部３、および通電層形成部４は不活性ガス雰囲気に保持されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】樹脂製のナノインプリント用の型であり、容易に離型可能でその表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が良好な樹脂型を提供する。
【解決手段】樹脂成分（ａ）を含む材料からなる樹脂型であって、樹脂成分（ａ）を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥などにより平滑面を有する樹脂層（Ａ）を形成した後、形成した樹脂層（Ａ）の平滑面上に３μＬの水を配置して、ＪＩＳＲ３２５７に準拠して測定される静的接触角（Ｘ１）が、下記条件（１）を満たす樹脂型。条件（１）：転写対象を構成する材料のうちの樹脂成分（ｂ）を、平滑面を有する基材の平滑面上に塗布して、乾燥などにより平滑面を有する樹脂層１１を形成した後、形成した樹脂層１１の平滑面上に３μＬの水１３を配置して、ＪＩＳＲ３２５７に準拠して測定される静的接触角（Ｙ１）と静的接触角（Ｘ１）との差の絶対値Θが２０°〜６０°である。 （もっと読む）

【課題】機械加工などによって微細な転写パターンを備えた安価な試作用のインプリント用スタンパを簡単に製作できるインプリント用スタンパの製作方法を提案すること。
【解決手段】インプリント用スタンパの製作方法は、シミュレーション工程（ＳＴ３）を行い、これによって求められたゲル素材の形状変化に基づき、液状のゲル素材を機械加工可能な硬度を備えた膨潤状態まで固めて膨潤型１Ａを成形する膨潤型成形工程（ＳＴ５）と、膨潤型１Ａの表面１ａに凹凸状の膨潤転写パターン（２Ａ）を形成する膨潤転写パターン形成工程（ＳＴ６）と、膨潤型１Ａを収縮硬化させて膨潤転写パターン２Ａを収縮させることにより、設定寸法の微細転写パターン２Ｂを備えたインプリント用スタンパ１Ｂを得る乾燥収縮工程（ＳＴ７）を行う。機械加工によってナノメートルオーダーの微細転写パターンを備えたインプリント用スタンパを簡単かつ安価に製作できる。 （もっと読む）

【課題】高精度のレジストパターンを得るとともに、レジストへの電子線の描画時間を短縮する。
【解決手段】ナノインプリントモールドの製造方法は、基材１０１上に、凹凸パターンが形成されるパターン領域１０１Ａと非パターン領域１０１Ｂとを設定し、少なくとも前記非パターン領域１０１Ｂ上にポジ型レジスト１０２からなるポジ型レジスト層を形成して、該ポジ型レジスト層に露光、現像を行いポジ型レジストパターン１０３を形成した後、前記パターン領域１０１Ａ上にネガ型レジスト１０４からなるネガ型レジスト層を形成して、該ネガ型レジスト層に電子線により露光、現像を行いネガ型レジストパターン１０５を形成し、前記ネガ型レジストパターン１０５及び前記ポジ型レジストパターン１０３をエッチングマスクとして、前記基材をエッチングして前記凹凸パターン１０８を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】結晶状態や表面形状が不均一である金属基体を用いても、陽極酸化法によって均一な微細孔が形成された反射防止フィルム製造用金型を作製することが可能な、反射防止フィルム製造用金型の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】アルミニウムを含有し、表面に結晶状態あるいは表面形状が不均一となっている不均一層を有する金属基体を用い、陽極酸化によって上記金属基体の表面に微細孔を形成する微細孔形成工程を有する、反射防止フィルム製造用金型の作製方法であって、上記微細孔形成工程が上記アルミナ膜の一部をエッチングするものであることを特徴とする、反射防止フィルム製造用金型の作製方法を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

高コントラスト材料の位置合わせマークを有するテンプレートを形成するためのシステム及び方法を説明する。高コントラスト材料は、位置合わせマークの凹部内に位置することができる。 （もっと読む）

燃料電池の発電効率を向上させるために、本発明は、以下の工程（Ａ）〜（Ｅ）を包含する、３μｍ以上１２μｍ以下の高さおよび０．４以上２．０以下のアスペクト比を有する複数の微細凸部の配列を有する表面を具備する高分子電解質膜を製造する方法を提供する：複数の微細凹部（１０３）の配列を有する表面を具備する鋳型を準備する工程（Ａ）、ここで、各微細凹部は底面および側壁を具備し、各底面および各側壁は親水性を有し、各側壁は平滑であり、各複数の微細凹部は３μｍ以上１２μｍ以下の深さおよび０．４以上２．０以下のアスペクト比を有し、前記表面に親水性の高分子電解質溶液を供給する工程（Ｂ）、前記高分子電解質溶液を固化して高分子電解質膜を形成する工程（Ｃ）、前記高分子電解質膜を親水性液体に浸漬する工程（Ｄ）、および前記親水性溶液中で前記鋳型から前記高分子電解質膜を剥離して、３μｍ以上１２μｍ以下の高さおよび０．４以上２．０以下のアスペクト比を有する複数の微細凸部を有する配列を具備する高分子電解質膜を形成する工程（Ｅ）。
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【課題】光学フィルムを製造するためのロール金型の洗浄方法であって、該ロール金型にダメージを与えることなく、その汚染された表面を良好に洗浄することができる洗浄方法を提供する。
【解決手段】光学フィルムの製造に使用され、金型汚染物質が付着したロール金型３を、ｐＨ１０以上の塩基性水溶液１中、３０〜７０℃で超音波処理することを特徴とする光学フィルム製造用ロール金型３の洗浄方法。本洗浄方法は、前記金型汚染物質が光硬化性樹脂である場合に好適に採用される。 （もっと読む）

成形による硬化性材料から構造体を作り出す方法が記述される。方法の第１のステップにおいて、成形型は表面上に配置される。その結果、成形型および表面の間の領域では、硬化性材料が、表面および表面に対向する成形型の成形する表面に接触する。それで、付加的な硬化性材料は、領域に流れ込み続けることが可能となる。第２のステップにおいて、硬化性材料が局所的に変わる異なる速度で硬化するように、局所的に変化する方法で硬化性材料の領域に光が照射される。その結果、硬化性材料の硬化の間に生じる収縮は、付加的な硬化性材料によって補償される。方法の第３のステップにおいて、一定圧力が付加的な硬化性材料に加えられる。さらに、光学部品のための成形型と同様に成型によって、硬化性材料から構造体を作り出すための第２の方法および装置が説明される。 （もっと読む）

【課題】光学フィルムを連続して製造するためのロール金型の洗浄方法であって、該ロール金型にダメージを与えることなく、その汚染された表面を効果的に洗浄することができる洗浄方法を提供する。
【解決手段】光学フィルム製造用ロール金型を、水および水溶性溶剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶剤を含有する洗浄剤中で超音波洗浄を行なう第１の洗浄工程と、該第１の洗浄工程の後に、該ロール金型を高圧水で噴射洗浄する第２の洗浄工程とを含む光学フィルム製造用ロール金型の洗浄方法である。洗浄剤はノニオン系界面活性剤またはアニオン系界面活性剤を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、複雑なエンボス構造を有するエンボス加工装置、その製造方法及び導光板のエンボス成形方法を提供することである。
【解決手段】本発明に係るエンボス加工装置は、ローラーと、前記ローラーの円周面に巻き取って接合され、且つ電鋳によって形成されるエンボス層と、を備える。前記エンボス層の外表面には、エンボス構造が形成されている。又、本発明は、エンボス加工装置の製造方法及び導光板のエンボス成形方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置等の製造における簡易なパターン形成方法を提供する。
【解決課題】基板上に、第一のセグメントと第二のセグメントを有する高分子共重合体を塗布する工程と、前記高分子共重合体に凹部を有するテンプレートを接触させ、前記テンプレートの凹部に前記高分子共重合体を充填する工程と、充填された前記高分子共重合体を第一のセグメントを有する相と第二のセグメントを有する相に相分離させる工程と、前記テンプレートを前記高分子共重合体から離型する工程と、前記高分子共重合体の第一のセグメントを有する相又は第二のセグメントを有する相を除去する工程と、を備えたことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】賦形型が樹脂で目詰まりせず、影も観察されず、且つ泡の巻き込みもない反射防止フィルムの製造に使用する成形用スタンパーを提供する。また、その成形用スタンパーを用いた反射防止フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】可視光領域の波長より小さい周期からなる突起を有し且つその突起の高さが１５０ｎｍ〜４５０ｎｍの反射防止層を形成するための賦形型２３が形成された賦形領域Ｒ１と、その賦形型２３が形成されていない非賦形領域Ｒ２とを有する四辺形のスタンパーであって、非賦形領域Ｒ２が、四辺形の一辺に沿って所定の幅Ｌ３で設けられ、賦形領域Ｒ１に引き延ばす硬化性樹脂１４を載せるために用いられる成形用スタンパー２により上記課題を解決する。さらに、この成形用スタンパー２を用いて反射防止フィルム１０を製造する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、大型サイズの円筒表面に、直接ナノメートル大きさのパターンを大面積で刻むための円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置に関する。
【解決手段】本発明は、磁気浮上原理で円筒を浮上し、非接触で回転及び軸方向に移送しながら円筒表面に直接ナノメートル大きさのパターンを刻むことができる新しい形態のステージと、円筒表面に光を照射する光源とを具現することにより、ナノメートル大きさの誤差で位置を能動制御できるなど、機械加工による誤差及び外乱を実時間的に補正することができて、結局、大型サイズの円筒表面にナノメートル大きさのパターンを効率的に加工できると共に、ステージと組み合わされ、光源と円筒表面との間を、部分的に真空環境が保持されるようにする差動真空手段を具現することにより、Ｘ線や電子ビーム、極紫外線(EUV)のような光源を適用することができる円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置を提供する。 （もっと読む）