【課題】小面積の表示部でも明るく照光させることができると共に、外表面での光反射を抑制して意匠性を高めた表示体を提供する。
【解決手段】表示体としての操作ノブ１は、導光体３の先部３ａが樹脂ベース２を貫通して両者２，３が一体化されていると共に、樹脂ベース２の外面に被着されたインサートフィルム４の一部が導光体３の先端面を覆っており、フィルム４の第１および第２の表示部４ａ，４ｂが光源５，６の光で照光可能である。操作ノブ１を製造する際には、導光体３を装着した雄型７とインサートフィルム４を装着した雌型８とを型締めし、キャビティＣ内へ溶融樹脂１０を射出充填することにより樹脂ベース２を成形する。その際、インサートフィルム４の外表面には、第１の表示部４ａと対応する領域Ａ１に導光体３を介して型締め力が付与されたことによるシボ加工が施され、かつ残余の領域Ａ２，Ａ３に溶融樹脂１０の射出圧によるシボ加工が施される。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ用ビームを用いて、表面層に同心円状の溝を形成する方法であって、これにより上記のタイプの機械的緩みまたは遊びによって与えられる影響を減少させる方法の実現
【解決手段】リソグラフィ用ビーム２を照射することにより、軸５の周りに回転可能である本質的に平らな基板３の表面層４に所定の程度まで露光された材料の溝６を形成する方法は、リソグラフィ用ビーム２および軸５が、その軸周りの基板３の回転中に、溝６の部分がリソグラフィ用ビーム２による２回以上の照射を受け、溝６が前記２回以上の照射の合計として形成されるように互いに相対的に制御される。さらに、この方法による装置、および、このような装置を制御する命令を具備したコンピュータプログラムプロダクトが説明される。 （もっと読む）

【課題】バリ発生を抑制し、優れた転写性で射出光を均一にし、金型からの離型性も良好な、表面に凹凸パターンを有する薄肉大型の樹脂シート成形品を提供する。
【解決手段】対向する主面の少なくとも片面に凹凸パターンが設けられた一対の薄肉部材３ａ、３ｂと、該一対の薄肉部材３ａ、３ｂの一方を収納した樹脂シート保持枠６とによって形成された金型キャビティ内へ、該金型キャビティと略同一寸法に切削研磨加工した薄肉樹脂シート５を投入した後、該薄肉樹脂シート５を低い圧力で金型キャビティ内に固定しながら伝熱加熱し、熱膨張した前記薄肉樹脂シート５を樹脂が軟化する温度に達する直前に増圧して金型キャビティ内に圧縮し、前記薄肉樹脂シート５に、転写開始温度を超えるゴム状平坦領域の温度，かつ、バリ発生を抑制可能な圧力で凹凸パターンを転写形成する。 （もっと読む）

【課題】射出成形用金型を利用しつつ、極めて薄い製品ピースに対し、立体成形を行いつつ同時に転写シートから適切に絵柄を熱転写することが可能なプレス成形と同時に熱転写する方法を提供する。
【解決手段】金型８，１０を型締めした状態で、キャビティ１２内に加圧充填される加熱溶融状態の樹脂Ｐの圧力及び熱により、成形型１１に向けて熱間プレスするプレス装置７を用い、金型間に、熱可塑性樹脂製の製品ピース６及び絵柄層を有する転写シート１をインサートし、その後、型締めする第１工程と、キャビティ内に加熱溶融状態の樹脂を加圧充填し、成形型で製品ピースをプレス成形すると共に、転写シートの絵柄層を製品ピースに熱転写する第２工程と、型開きし、製品ピースを取り出すと共に、キャビティ内で固化した樹脂を回収する第３工程とを備えた。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、簡便に、金属加工品、微細部品を製造するための金属膜（金型）のパターンおよびその形成方法を提供することにある。
【解決手段】シード膜２が成膜された基板３上に塗布された硬化性樹脂組成物４と、所定パターンを有するモールド５とを相対移動させて、硬化性樹脂組成物４に所定パターンを転写した状態で、硬化性樹脂組成物４を硬化させることで転写されたパターン形状を有する硬化樹脂４´を得る。硬化樹脂４´よりモールド５を取り外し、金属膜を形成する領域の残渣の硬化樹脂４´´を除去後、電鋳処理を経て金属膜１１を形成し、その後不要となった硬化樹脂４´を除去する工程を経て形成される。この際、プラスチックモールドと特定の重量平均分子量以下である重合性化合物を配合した可視光硬化性樹脂を使用することにより、より簡便な金属膜のパターンの製造プロセスが提供される。 （もっと読む）

【課題】レンズアレイに成形される光硬化性の成形材料の各部を均一に硬化させる。
【解決手段】光硬化性の成形材料Ｍで複数のレンズ部６が配列されたレンズアレイ１０を形成するレンズアレイ用成形型２０であって、光を透過するガラス又は樹脂材料で形成されている。レンズアレイ１０は、光硬化性の成形材料Ｍに成形型２０を押し付けて成形型２０の形状を転写し、その状態で成形型２０を通して光Ｌを照射されて硬化され、製造される。 （もっと読む）

【課題】モールドをレジスト層から引き剥がす際にかかる応力を抑制することでレジスト層やモールドの損傷を抑制する剥離板、モールド構造体及びインプリント方法を提供。
【解決手段】本発明のインプリント方法は、加熱すると屈曲する剥離板を備えるモールド構造体を、加工対象物の基板上に形成されたインプリントレジスト組成物からなるレジスト層に押圧して前記モールド構造体に形成された凹凸パターンを転写する転写工程と、剥離板を加熱して第１の金属層を熱膨張させ、前記モールド構造体の端部を押圧方向と反対方向に屈曲させて前記レジスト層と前記モールド構造体とを剥離する工程と、を少なくとも含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レンズアレイ成形用型のレンズ成形面に空気が溜まるのを回避し、成形されるレンズアレイのレンズ部の精度を確保する。
【解決手段】成形材料を圧縮して複数のレンズ部が配列されたレンズアレイに成形するレンズアレイ用成形型は、前記レンズ部をそれぞれ成形する複数のレンズ成形面を含む転写面と、前記転写面と前記成形材料との間に介在する空気を抜く少なくとも一つのベントと、を備え、前記転写面に複数の凹部が配列され、前記レンズ成形面は、前記凹部の底面にそれぞれ形成されており、前記ベントは、前記レンズ成形面を除く前記凹部の内面に開口する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置等の製造に用いられるインプリントリソグラフィ方法において、パターン欠陥を低減することができるパターン形成方法を提供する。
【解決課題】パターンを有するテンプレートのパターンに選択的に硬化剤を供給し、硬化剤が供給されたテンプレートと被処理基板を接触させ、テンプレートと被処理基板を接触させた状態で光を硬化剤に照射することにより硬化剤を硬化し、硬化剤を硬化後、テンプレートを被処理基板から離して硬化剤パターンを被処理基板上に形成し、硬化剤パターンに基づき、被処理基板を加工することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】任意形状で且つ滑らかな曲面を容易に形成することが可能な曲面の形成方法を提供する。
【解決手段】ｐ形のシリコン基板からなる半導体基板１０（図１（ａ））の一部を除去して半導体レンズ１（図１（ｅ））の曲面２を形成する曲面２の形成方法であって、所望の曲面形状（曲面２の形状）に応じて半導体基板１０との接触パターンを設計した陽極１２（図１（ｃ））を半導体基板１０の一表面側にオーミック接触をなすように形成する陽極形成工程と、半導体基板１０の構成元素の酸化物を溶かす電解液中で半導体基板１０の他表面側に対向配置した陰極と陽極１２との間に通電して半導体基板１０の他表面側に除去部位となる多孔質シリコンからなる多孔質部１４（図１（ｄ））を形成する陽極酸化工程と、多孔質部１４を除去する多孔質部除去工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 主面上に凹凸形状を有するフィルムの製造に用いることができる転写原型及びフィルム成型用型を提供すること、並びに、これらの型を用いて得られるタッチパネル用光学フィルム、並びにタッチパネル用光学部材を提供すること。
【解決手段】 本発明の転写原型１０００は、凹凸表面を有し、該凹凸表面から所定の部材表面に凹凸形状を転写するための転写原型であって、基体１０１０と、該基体の表面にめっきにより固定された複数の粒子１０２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】微細構造の熱転写を行う熱式ナノインプリント装置である熱転写装置の加熱冷却機構を、作業性が良く、小形化が可能で、均一、且つ、急速な冷却を可能とする。
【解決手段】微細構造の熱転写を行う熱転写装置は、加圧部１と、受圧部２と、当該加圧部と受圧部との間に配置された加熱冷却能力を備えた転写部１０とを備え、転写部は、断熱層を形成する断熱部材の表面に加熱冷却部材を搭載して、加熱冷却部材には、加熱媒体を内部に挿入するための穴を加工すると共に、転写部を冷却のための冷却媒体を内部に通流するための複数の穴が並列に加工し、断熱部材の一部にも、加熱冷却部材に形成された穴に連通して上下に貫通穴が加工し、加圧部又は受圧部には、断熱部材を介して、加熱冷却部材に形成された穴に連通する複数の穴を加工し、転写部と加圧部又は受圧部との連結部には、Ｏリングから成るシール材を設ける。 （もっと読む）

【課題】 基板と金型の搬入と搬出とを自動的に実行することができ、効率的に基板の表面にパターンを形成することが可能なパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 パターン形成装置は、搬入搬出部１と、パターン形成部３と、これらの搬入搬出部１とパターン形成部３との間に配置された搬送部２と、第２搬送部５とを備える。パターン形成部３は、基板と金型とを位置決めして重ね合わせる位置決めユニット３１と、位置決めユニット３１において位置決め後の基板に対し位置決め後の金型を押し付けるパターン形成ユニット３３と、パターン形成ユニット３３においてパターンが形成された基板からパターン形成に使用された金型を剥離する剥離ユニット３２とを有する。 （もっと読む）

本発明は、一体の透明板（１）であって、その表面（３）の少なくとも一方に、表面（３）の一般平面（π）に対して持ち上がった幾何学的な複数のパターン（５）によって凹凸が付けられた少なくとも１つの部分を含み、各パターンが、一般平面に対して平行な断面を有し、その断面が、パターンのベースから頂点に向けて、表面（３）からの距離を次第に減少させる、一体の透明板に関する。本発明によれば、一般平面（π）に対する領域の傾斜角（α₈）が３０度よりも小さい凹凸部の領域（８）の面積（Ｓ₈）が、凹凸部の全面積（Ｓ_i）の３５％よりも小さい。
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【課題】生産性を向上させることができる基板処理方法及びインプリント装置を提供する。
【解決手段】第１のテンプレートに形成されたパターンを、半導体基板上に配置された流動性材料としてのレジスト１５０に転写する第１のインプリント処理と、第１のインプリント処理とは異なるインプリント処理対象の第２の半導体基板の検査処理、第２のテンプレートに形成されたパターンの表面への剥離材１４０の塗布処理、及び、第１のインプリント処理前に実施された第３のテンプレートに形成されたパターンを半導体基板上に配置されたレジスト１５０に転写するインプリント処理において用いられた前記第３のテンプレートの検査と第３のテンプレートの検査により再利用可能と判定された場合に行う第３のテンプレートの洗浄を実施する検査・洗浄処理、の少なくともいずれか一つの処理と、を同一の処理チャンバ内で並行して行う。 （もっと読む）

インプリントリソグラフィシステムにおいて、テンプレートチャック上の引っ込んだ支持体が、上部に配置されたテンプレートの形状を変化させ、ナノインプリントリソグラフィプロセスにおいてテンプレートの外縁が早期に下方偏向するのを最小限に抑え、及び／又はこれを排除することができる。 （もっと読む）

【課題】 繊維の微細な形状の表現を可能とする織物データ生成装置、織物データ生成方法、プログラム、織物布地調エンボス版製造装置、織物布地調エンボス版製造方法、及び織物布地調シートを提供する。
【解決手段】 織物データ生成装置１の制御部１０は、３次元空間内に所定長さの線分を設定し、所定分節数に区切った各ノードの端点を所定の揺らぎ幅内にランダムに揺らすことにより繊維データを定義する。また複数の繊維データを所定の円柱または円錐台内に略平行に配置し、各繊維データの各線分端点を所定角度だけ回転させて糸データを生成する。制御部１０は複数の糸データを織物のたて糸及びよこ糸として夫々所定間隔で配置し、各糸データの表裏配置に基づいて該たて糸及びよこ糸の形状を変形する。更に、生成された織物形状データを２次元のハイトフィールドに変換し織物データとして出力する。 （もっと読む）

【課題】転写精度を向上させることが可能な三次元構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】金型２０の母型３０に対するＸ軸方向の収縮率ｄＸと、Ｙ軸方向の収縮率ｄＹとを等しくする。収縮率ｄＸ，ｄＹを母型３０にフィードバックすることが可能となり、転写精度の向上が可能となる。金型２０を被転写体に対してＺ軸方向に移動させて転写することにより、ローラ転写で問題となる金型のパターン側壁と樹脂との干渉をなくすことが可能となる。被転写体をＹ軸方向に移動させて転写を繰り返すことにより、大面積の転写が可能となる。金型２０をＸ軸方向、Ｙ軸方向に複数配置することにより転写寸法を拡大したり、タクトタイムを短縮するようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】 製造コストの低廉化が図られた微細構造物の製造方法を提供する。
【解決手段】 微細構造物の製造方法は、薄膜を形成する工程と、薄膜をパターニングして第１薄膜パターンを形成する工程と、第１薄膜パターンを覆うように第２薄膜を形成する工程と、第１薄膜パターンの分布領域よりも広い領域に亘って形成され、複数の凸部を含む転写パターンが形成された型を準備する工程と、型を第２薄膜に押し当て、第２薄膜パターンを形成する工程と、第２薄膜パターンをマスクとして、第１薄膜パターンをパターニングする工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】優れた防眩性能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下を防止でき、高精細の画像表示装置に適用した場合においても、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現することができる防眩フィルムの製造方法、ならびに、当該製造方法において好適に用いられる金属金型の製造方法を提供する。
【解決手段】２種以上のセグメントからなるブロック共重合体をモデルとして、計算機シミュレーションによりブロック共重合体のミクロ相分離構造を計算する工程と、該ミクロ相分離構造に基づいて、エネルギースペクトルが空間周波数０．０２５〜０．１２５μｍ^-1の範囲内において極大値を示すミクロ相分離パターンを作成する工程と、該ミクロ相分離パターンを用いて、透明基材上に凹凸表面を形成する工程とを含む防眩フィルムの製造方法、および当該製造方法において好適に用いられる金属金型の製造方法を提供する。 （もっと読む）