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Fターム[4F202CB29]の内容

プラスチック等の成形用の型 (108,678) | 型全般の区分 (13,372) | 表面凹凸化成形 (425)

Fターム[4F202CB29]に分類される特許

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【課題】 金属表面に形成された凹状又は凸状のパターンを有する印刷版面を短時間で、かつ、高精度に再現できるパターン形成体を提供する。
【解決手段】 第一の金属原版の凹状又は凸状パターンを転写するためのパターン形成体において、金属板上に形成される光硬化性のパターン形成材料と光硬化性のパターン形成材料中に埋没させるパターン形成材料を補強し、光硬化効率を高めるための光透過性の補強板と、光硬化性パターン形成材料の中に光透過性の補強板が第一の金属原版に接触しないように配置された支持体から成るパターン形成体及び複製方法である。 (もっと読む)


【課題】 製品の外観上を美しく保ち、かつ、内部に配置された光源からの意図しない光の漏洩を防止することができる導光型装飾樹脂成型品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 導光型装飾樹脂成型品1は、1次側樹脂層として透光性を有する板状に形成された透光性樹脂層4と、2次側樹脂層としてその透光性樹脂層4の裏面側に一体的に形成され、光が透光性樹脂層4の裏面側へ漏洩することを防止する不透光性を有する不透光性樹脂層5と、透光性樹脂の外面を、光を漏洩させる領域を除いて被覆するように形成されて装飾意匠面を構成し、その光を漏洩させる領域以外の領域からの光の漏洩を防止する不透光性のものとされ、かつ先端部6が不透光性樹脂層5の側へ回り込むように位置する不透光性のシート材3と、を備える。不透光性のシート材3は、その先端部6が不透光性樹脂層5とオーバーラップする形態で、その不透光性樹脂層5と共に透光性樹脂層4を外側から囲い込む。 (もっと読む)


【課題】基材との密着性に優れ、転写材樹脂との離型性に優れ、繰り返しの使用に耐えうる樹脂モールドの提供。
【解決手段】第一面と該第一面と反対側に第二面を有すフィルム基材の該第一面上に微細凹凸構造を有すナノインプリント用の樹脂モールドであって、該樹脂モールドを構成する樹脂が光重合性化合物の硬化物から構成され、かつ、該光重合性化合物が、(メタ)アクリレート、フッ素化されたハイパーブランチポリマー、及び光重合開始剤を含むことを特徴とする前記樹脂モールド。 (もっと読む)


【課題】模型の抜き取り時に凹凸模様形成部材が模型の表面から剥がれることがない成形用金型の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、模型30の表面31の全面又は所定範囲に凹凸模様形成部材40を貼り付け、該模型30から反転型50、該反転型50から成形用金型10,20を製造するにあたり、凹凸模様形成部材40として、凹凸模様を有する原版(例えば、金網)Dの上に敷かれた合成樹脂シート40’を平滑な表面を有するプレス板Bを用いてプレスしたものを用い、該凹凸模様形成部材40を凹凸模様が転写された凹凸面41と反対の平滑面44側で模型30の表面31に貼り付けるようにする。 (もっと読む)


【課題】テンプレート上への処理液の供給量を抑えつつ、当該テンプレートのパターン領域に処理液を適切に供給する。
【解決手段】処理液塗布治具110の塗布面111がテンプレートTのパターン領域Dを覆い、且つ塗布面111とパターン領域Dとの間の隙間116の距離が離型剤Sの毛細管現象を発生させる距離となるように、処理液塗布治具110をテンプレートTに対向して配置する(図12(a))。その後、処理液供給部120から隙間116に離型剤Sを供給し、当該離型剤Sを毛細管現象によってパターン領域D上にのみ拡散させる(図12(b)〜(d))。その後、エアノズル150から離型剤Sに空気を吹き付けて、当該離型剤Sを乾燥させる(図12(e))。 (もっと読む)


【課題】流路に深いところと浅いところがあり、流路の側面や段差面に傾斜面を形成することができるマイクロチップ構成体およびマイクロチップ製造用金型を製造すること。
【解決手段】支持基板T上に第1のレジストR1を塗布した被照射物Wを、露光光の入射方向に対して傾斜して配置し、該被照射物Wを回転させ、第1のマスクパターンMP1を形成したマスクM1を介して露光光を照射する。ついで、露光後の第1のレジストR1上に第2のレジストR2を塗布し、必要に応じて、第1のマスクパターンMP1とは異なる第2のマスクパターンMP2を形成したマスクM2とのアライメントを行い、このマスクM2を介して露光光を照射する。そして、現像により第1のレジストR1,R2の露光光照射領域もしくは露光光未照射領域を除去してマイクロチップ構成体を作製する。また、上記現像した部材に電鋳処理を施してマイクロチップ製造用金型を作製する。 (もっと読む)


【課題】車両用樹脂パネルのクラックを防止するとともに熱伸びを抑制する。
【解決手段】板状基材5の裏面に補強リブ15が一体に突設されたボンネットフード1において、基材5の裏面における補強リブ15非突設箇所、及び補強リブ15の基端側側面に、基材5成形時に不織布19に溶融樹脂Rを含浸させてなる補強布17を設ける。 (もっと読む)


【課題】インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができ、しかも基板をエッチング加工するために形成した薄膜パターンを最終的にモールドパターンにダメージを与えないように除去できるインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板1上に、ハフニウムおよびジルコニウムのうちの少なくとも一方の元素を含有する材料で形成された下層3と、該下層の酸化を抑制する材料で形成された上層4の積層膜からなる薄膜を有するマスクブランクを用いて、前記薄膜をエッチング加工して薄膜のパターンを形成する工程と、該薄膜のパターンをマスクとして透光性基板1をエッチング加工してモールドパターンを形成する工程と、該モールドパターンを形成した後、薄膜の下層を、塩素、臭素、ヨウ素、およびキセノンのうちいずれかの元素とフッ素との化合物を含む非励起状態の物質に接触させて除去する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】型取りする際の凹凸壁面に対する離型性が良好であり、凹凸壁面の意匠再現性が優れた凹凸壁面見本板を作製可能な凹凸壁面複製用部材、その凹凸壁面複製用部材を用いた複製板の作製方法、及び複製板、並びにその複製板より得られる凹凸壁面見本板を提供すること。
【解決手段】硬化前のゴム硬度が10〜50度、加熱残分が25〜70質量%以上、かつ、600℃、1時間燃焼させた際の灰分が燃焼前の乾燥質量に対して30〜90質量%である、硬化性形成材からなる、凹凸壁面複製用部材。 (もっと読む)


【課題】テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜しつつ、テンプレート処理のスループットを向上させる。
【解決手段】テンプレートの表面に離型剤を成膜するテンプレート処理では、先ず、塗布ユニットにおいて、テンプレートの表面に紫外線を照射し、当該テンプレートの表面を洗浄する(工程A2)。続いて、塗布ユニットにおいて、テンプレートの表面にテンプレートの表面に紫外線を照射しながら、当該テンプレートの表面に離型剤を塗布する(工程A3)。その後、リンスユニットにおいて、離型剤をリンスして、当該離型剤の未反応部を除去する(工程A4)。こうしてテンプレートの表面に離型剤が所定の膜厚で成膜される。 (もっと読む)


【課題】微細な凹凸パターンを用いたナノインプリント方法においても、インプリント後のレジスト膜の厚みムラを解消することを可能とする。
【解決手段】基板の表面に微細な凹凸パターンを形成することにより製造されたナノインプリントモールド10において、上記基板として、離型処理が施された後かつ凹凸パターンが形成される前の上記表面の表面形状であって、高低差分布に関する3σ値が1〜3nmである表面形状を有する基板12を用いて製造する。 (もっと読む)


【課題】目標とする形状に変形させるのに有利な原版を提供する。
【解決手段】転写されるパターンを有する原版であって、この原版は、負の実効ポアソン比を有する。又は、この原版は、石英板の実効ポアソン比より小さい実効ポアソン比を有する。 (もっと読む)


【課題】被成形対象に押し当てることによって前記被成形対象に微細なパターンを転写する転写用の型であって、製造が容易である転写用の型を提供する。
【解決手段】被成形対象13に押し当てることによって被成形対象13に微細なパターンを転写する転写用の型41において、転写を行うための転写装置1に着脱自在であると共に、転写装置1に取り付けられた状態で受ける力、転写装置1に取り付けられ押し当てがされたときに受ける力に対して、剛性を備えたベース部材103と、微細な転写パターンが形成されベース部材103に一体的に貼り付けられている剛性の小さい型部材104とを有する。 (もっと読む)


【課題】
工業的な規模で、表面にシームレスの凹凸模様を有するロールを安価に簡便に製造することを課題とする。
【解決手段】
円柱支持体に連続繊維を隙間なくスパイラル巻きにし、固定した後に、該スパイラル巻きした表面形状を内面に転写したシームレス凹凸模様を有する中空鋳型を作成し、該中空鋳型の内面形状を表面に転写することを特徴とするシームレス凹凸模様付きロールの製造方法。連続繊維は撚糸またはモノフィラメントのいずれでも良い。 (もっと読む)


【課題】モールドのパターン内部への樹脂充填性と、樹脂層に対するモールドの離型性を確保したパターン形成方法と、このパターン形成方法を利用したナノインプリント転写に使用するナノインプリントモールドとナノインプリント用転写基材とを提供する。
【解決手段】ナノインプリントモールド1を、基体2と、この基体2の一方の面2aに位置する転写形状部3と、少なくとも転写形状部3上に位置する濡れ性変化層4とを備えたものとし、濡れ性変化層4は第1の波長の光を照射することによる水に対する接触角の減少と、第2の波長の光を照射することによる水に対する接触角の増加が可逆的に起こるものとする。 (もっと読む)


【課題】高い表面品質を必要とする意匠面を有した表側の表面部と、さほど表面品質の良否が問題とならない裏側の表面部とを有する薄物の成形品を成形する成形用金型であって、熱効率が高く、急速加熱、急速冷却を可能とし、前記意匠面に対して高い表面品質を確保することができる成形用金型を提供する。
【解決手段】対向して配設される上型2と下型3を備え、上型2と下型3は、相対的に近接離間方向に移動可能であり、上型2のプレス面21には成形品100の意匠面100aを形成する形成面21aが設けられるとともに、形成面21aの表面部は磁性体材料によって形成され、下型3のプレス面31には成形品100の裏側の表面部100bを形成する形成面31aが設けられるとともに、下型3は絶縁体材料によって形成され、下型3にの形成面31aの近傍には高周波加熱コイル33が、形成面21aに沿って埋設される。 (もっと読む)


【課題】微細パターンを形成する際に生じるバリの高さを抑制することと、樹脂にパターン面を押し付ける際にモールドの基体部が樹脂に接触することを抑制することを両立することが可能なナノインプリント用モールドを提供する。
【解決手段】モールド1aは、モールド基体部3とモールド本体部5とを備える。モールド本体部5の表面5Sは、ナノインプリント用のパターン5Pが形成されたパターン面5S1と、パターン面5S1の外縁5S1X、5S1Yに沿って設けられた副表面5S2とを有する。表面3Sと垂直な方向における副表面5S2からモールド基体部3の表面3Sまでの最長距離H5S2は、モールド基体部3の表面3Sと垂直な方向におけるパターン面5S1からモールド基体部3の表面3Sまでの距離H5S1よりも短く、これらの差D5Sは、ナノインプリント用のパターン5Pの深さよりも大きい。 (もっと読む)


【課題】本発明は、反射防止層における微細凹凸パターンの凸部先端の割れ等に対する機械強度、スティッキング耐性および型抜き性に優れた反射防止フィルムを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、光透過性基板と、上記光透過性基板上に形成され、表面に可視光領域の波長以下の周期で形成された凹凸形状を有する反射防止層とを有する反射防止フィルムであって、上記反射防止層が、上記光透過性基板上に形成された基底部と、上記基底部上に形成され、上記凹凸形状からなる微細凹凸とを有し、かつ上記微細凹凸における凸部が、上記光透過性基板に対してテーパー状に立ち上がる錐台形状の本体部と、上記本体部の頂面を覆うように形成された曲面構造を有する先端部とから構成されてなることを特徴とする反射防止フィルムを提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】微細構造が転写成形された被成形体を付着基体から剥離する際に、剥離の部分や順序を制御し、転写成形された微細構造に損傷を与えることなく迅速に被成形体を付着基体から剥離することができる剥離治具本体、剥離治具及び剥離方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る剥離治具本体は、プレス式の微細構造転写成形装置により、前記微細構造が転写成形された被成形体をこれが付着したスタンパ、上金型又は下金型から剥離する剥離治具本体であって、前記被成形体の開放面側の縁部を保持固定する保持手段と、前記保持手段の前記被成形体を保持固定する保持部15を前記スタンパ、上金型又は下金型に対して垂直方向に上下動させるアクチュエータ20と、前記被成形体の縁部に空気を吹き付ける空気噴射手段と、前記保持手段、アクチュエータ20及び空気噴射手段の作動を制御する制御手段と、を有してなる。 (もっと読む)


【課題】多段構造の寸法精度を向上したインプリントモールドの製造方法およびインプリントモールドを提供することを課題とする。
【解決手段】3次元の多段構造パターンを有するインプリントモールドの製造方法において、基板11に酸化膜12を形成する第1の工程と、第1の工程後に、感光性樹脂14を基板11に形成し、感光性樹脂14は酸化膜12を被覆する第2の工程と、感光性樹脂14をマスクにして基板11を選択的に除去して、基板11に第1凹部パターン15を形成する第3の工程と、感光性樹脂を除去した後、酸化膜12をマスクにして基板11を選択的に除去して、基板11に第2凹部パターン16を形成する第4の工程とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


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