【課題】様々な光線の入射角度に対して光線の反射が少なく、フレア等の光学的問題の発生しにくい、光線反射防止用シボの形成方法を提供する。
【解決手段】成形に用いられる金型の表面に光線反射防止用のシボを形成する方法を提供する。シボの形成方法は、前記金型の表面に第１のシボを形成する第１の工程と、前記第１のシボが形成された前記金型の表面に、前記第１のシボよりも細かい第２のシボをさらに形成する第２の工程とを包含する。 （もっと読む）

【課題】光学フィルム製造用ロールに直接的に線形又は非線形レンズ形状を形成することができ、レンズの模様を多様化することができ、また、レンズ形状の曲率を任意に調節でき、曲率を半球以上に深く形成できる光学フィルム製造用ロールのレンズ形状の製造方法及びそれによりレンズ形状の形成された光学フィルム製造用ロールを提供する。
【解決手段】光学フィルム製造用ロールのレンズ形状の製造方法は、銅（Ｃｕ）又はニッケル（Ｎｉ）で表面メッキされたメッキ層を含む円筒形ロールに樹脂塗膜を形成する第１工程と、前記円筒形ロールの前記樹脂塗膜の表面をのみ（chisel）で打撃して、予備レンズ形状を形成する第２工程と、前記予備レンズ形状の形成された前記円筒形ロールをエッチング液でエッチングする第３工程と、前記樹脂塗膜を除去する第４工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】射出成形用の金型およびその製造方法を提供する。
【解決手段】射出成形用の金型を製造する方法であって、次のような工程を備える。少なくとも一つの温度制御要素を設ける。温度制御要素を第１の材料で覆う。第１の材料を、型穴を有する金型の本体を形成するよう機械的に加工する。また、射出成形用の金型は、金型本体と、温度制御要素と、断熱層とを備える。 （もっと読む）

【課題】複数のテンプレートに対して離型剤を連続的に成膜する。
【解決手段】テンプレート処理装置１は、テンプレート搬入出ステーション２と処理ステーション３とを一体に接続した構成を有している。テンプレート搬入出ステーション２は、複数のテンプレートＴを保有可能で、且つ処理ステーション３に対してテンプレートＴを搬入出する。処理ステーション３は、搬送ユニット２０を有し、処理ブロックＧ１〜Ｇ４内に配置されている各種処理ユニットにテンプレートＴを搬送する。処理ブロックＧ１、Ｇ２は、テンプレートＴに離型剤を塗布する塗布ユニットと、テンプレートＴ上の離型剤をリンスするリンスユニットとをそれぞれ有している。処理ブロックＧ３、Ｇ４は、テンプレートＴの表面を洗浄する洗浄ユニットと、テンプレートＴの温度を調節する温度調節ユニットと、テンプレートＴを焼成する加熱ユニットとを有している。 （もっと読む）

【課題】複数のテンプレートに対して離型剤を連続的に成膜する。
【解決手段】テンプレート処理装置１は、テンプレート搬入出ステーション２と処理ステーション３とを一体に接続した構成を有している。テンプレート搬入出ステーション２は、複数のテンプレートＴを保有可能で、且つ処理ステーション３に対してテンプレートＴを搬入出する。処理ステーション３は、搬送ラインＡに沿ってテンプレートＴを搬送する複数の搬送ローラを備えている。搬送ラインＡには、搬送中のテンプレートＴに対して所定の処理を行う、洗浄ユニット２１、塗布ユニット２２、加熱ユニット２３、温度調節ユニット２４、リンスユニット２５がテンプレートＴの搬送方向に順に配置されている。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの表面に離型剤を適切に形成する。
【解決手段】テンプレート処理装置１は、テンプレート搬入出ステーション２と処理ステーション３とを一体に接続した構成を有している。テンプレート搬入出ステーション２は、複数のテンプレートＴを保有可能で、且つ処理ステーション３に対してテンプレートＴを搬入出する。処理ステーション３は、搬送ユニット２０を有し、処理ブロックＧ１〜Ｇ４内に配置されている各種処理ユニットにテンプレートＴを搬送する。処理ブロックＧ１〜Ｇ４は、テンプレートＴの表面に離型剤を成膜する。処理ブロックＧ１、Ｇ２は、テンプレートＴの外側領域の離型剤に紫外線を照射して、当該紫外線の離型効果を弱める離型剤改質ユニットをそれぞれ有している。 （もっと読む）

【課題】ステンレス鋼板からなる鋳型と分子中に少なくとも２個の(メタ)アクロイルオキシ基を有する単量体の硬化被膜との剥離性が良好で、かつ安全で、特定部の選択的処理が可能で、硝酸溶液の使用量も少ない板状成形物の製造方法を提供する。
【解決手段】１〜５０質量％濃度の硝酸溶液を含有する基材物質をステンレス鋼板に接触させて該硝酸溶液で処理する工程、前記処理後のステンレス鋼板からなる鋳型の表面に、分子中に少なくとも２個の(メタ)アクロイルオキシ基を有する単量体を含有する塗膜層を形成した後に塗膜層を硬化させて硬化被膜を形成する工程、硬化被膜の表面にビニル単量体層を形成した後にビニル単量体層を重合してビニル重合体層を形成する工程、及び鋳型の表面から硬化被膜が積層されたビニル重合体層を剥離する工程を有する板状成形物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の主な課題は、側壁に勾配を形成するのが困難なマイクロ・ナノパターンに対して、レジストパターンの側壁に任意の角度で傾斜面を付与できる紫外線露光方法、紫外線露光装置を提供することである。
【解決手段】紫外線の集点と基板上に形成された紫外線感光性材料の相対位置を変化させて紫外線感光性材料をフォトマスクのパターンに露光するステップと紫外線感光性材料を現像するステップとを含み、側壁に上記相対位置に応じた傾斜面を有する紫外線感光性材料のパターンを形成することを特徴とする紫外線露光方法及び紫外線露光装置。 （もっと読む）

【課題】優れた防眩性能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下を防止でき、高精細の画像表示装置に適用した場合においても、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現することができる防眩フィルムの製造方法、ならびに、当該製造方法において好適に用いられる金属金型の製造方法を提供する。
【解決手段】２種以上のセグメントからなるブロック共重合体をモデルとして、計算機シミュレーションによりブロック共重合体のミクロ相分離構造を計算する工程と、該ミクロ相分離構造に基づいて、エネルギースペクトルが空間周波数０．０２５〜０．１２５μｍ^-1の範囲内において極大値を示すミクロ相分離パターンを作成する工程と、該ミクロ相分離パターンを用いて、透明基材上に凹凸表面を形成する工程とを含む防眩フィルムの製造方法、および当該製造方法において好適に用いられる金属金型の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】化学的、熱的および機械的なストレスに対して高い耐久性を有し、熱ＮＩＬおよび光ＮＩＬを含む種々のナノリソグラフィー技術に好適に用いることができるレプリカモールドおよび、簡便かつ安価にレプリカモールドを作製する方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）：


（式中、Ｘは−Ｙ−Ａで示され、複数のＸが存在する場合、Ｘは同一または異なっていてもよく、Ａはラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する基またはエポキシ基であり、Ｙは、主鎖が炭素、酸素およびケイ素よりなる群から選択される３〜１０個の元素からなる連結基である）で示されるＴ単位が複数個組み合わさって構成された重合性シルセスキオキサンを含む樹脂組成物を用いて、レプリカモールドを作製する。 （もっと読む）

【課題】描画時間を短縮することが可能な描画方法を提供する。
【解決手段】第１照射条件を用いて、第１エネルギから計算される第１照射量で基板上のレジスト膜に荷電粒子線を照射して、第１描画データのパターンを描画するステップと、第１照射条件より高速に同一面積を描画できる第２照射条件を用いて、レジスト膜の現像による残膜率が変化を開始するエネルギより小さな第２エネルギから計算される第２照射量でレジスト膜に荷電粒子線を照射して、第１描画データのパターンを含む第２描画データのパターンを描画し、レジスト膜の第１描画データのパターン部を選択的に溶解可能とするステップとを含む。第１エネルギと第２エネルギの和は、残膜率の変化が完了するエネルギよりも大きい。 （もっと読む）

【解決手段】フラットスクリーンＴＶ等の電子表示画面のパネル又はフレームといった１つ以上の物品のプラスチック射出成形用に構成された金型キャビティを有する型板は、Ｃ：約０．０５〜０．０７重量％、Ｍｎ：約１．１５〜１．４５重量％、Ｐ：最大０．０２５重量％、Ｓ：最大０．００８重量％、Ｓｉ：約０．３〜０．６重量％、Ｃｒ：約１２．１５〜１２．６５重量％、Ｎｉ：０〜０．５重量％、Ｃｕ：約０．４５〜０．６５重量％、Ｖ：約０．０２〜０．０８重量％、Ｎ：約０．０４〜０．０８重量％、を含み、残部がＦｅ及び微量の通常存在する元素である、低炭素マルテンサイトステンレス鋼合金から形成される。 （もっと読む）

【課題】パターンの重ね合わせ精度を向上させることが可能なインプリント用テンプレートの形成方法および、この方法により形成されたテンプレートを用いたインプリント方法を提供すること。
【解決手段】基板にパターンを形成することによりテンプレート１３を形成する工程と、テンプレート１３のパターンの位置ずれを評価する工程と、この評価の結果に基づいて、テンプレート１３の側面に、パターンの位置ずれに対応した凹凸を形成する工程と、によって、テンプレート１３を形成する。このように形成されたテンプレート１３の側面１７を、インプリント装置のクランプピン１６によってクランプすることにより、パターンの位置ずれが補正されるようにテンプレート１３を歪ませてインプリントする。 （もっと読む）

【課題】金型内のキャビティに成形材料を安定供給することが可能であり、脱型時において脱型不良がおこりにくく、脱型不良が生じてしまった際も注入ノズルの清掃が容易である、脱型作業の作業効率がよく生産性が高い注型成形装置及び注型成形方法を提供する。
【解決手段】
熱硬化性樹脂を注型成形するための金型４に装着され、前記金型４内のキャビティ５に連通して前記キャビティ５へ熱硬化性樹脂を注入する注入ノズル２を備えた注型成形装置１に対し、前記注入ノズル２の先端に配された先端部１４を断熱性樹脂で形成すると共に、金属メッキ層で被覆することにより、成形時に注入ノズル２内の熱硬化性樹脂へキャビティ５に充填された熱硬化性樹脂からの熱の伝達を抑制すると共に、キャビティ５に充填された熱硬化性樹脂が注入ノズル２に付着することを抑制する。 （もっと読む）

【課題】微細パターンを高い精度で形成することが可能なナノインプリントモールドと、このナノインプリントモールドを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ナノインプリントモールド（１）を、厚みが４ｍｍ以下である透明な基材（２）と、この基材の表面（２ａ）側に形成された凹凸パターン（３）と、反射防止部（４）とを有するものとし、反射防止部（４）を、基材（２）の裏面（２ｂ）側の少なくとも一部の領域、あるいは基材（２）の内部の少なくとも一部の領域に位置させたものとする。 （もっと読む）

【課題】使用初期でのグリップ性能に優れる空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】トレッド部３表面に、平均粗さ（Ｒａ）が100μm〜1000μmの範囲で、且つ、粗さの偏り度（Ｒｓｋ）が−３〜３の範囲の凹凸部７を有することを特徴とする空気入りタイヤである。また、本発明の空気入りタイヤは、前記トレッド部３がブロック１２を有する場合、前記凹凸部７が該ブロック１２の表面に形成されることが好ましい。更に、前記トレッド部３に、ゴム成分としてビニル結合量が15％以上の芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物共重合体を含むゴム組成物を用いることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】転写面に生じるマクロな凹凸や色ムラを視認しにくくすることができるスタンパを得ることができるアルミニウム基材を提供する。
【解決手段】微細凹凸構造を表面に有するスタンパ20の製造に用いられる、微細凹凸構造が形成される被加工面を有するアルミニウム基材10であって、被加工面には、該被加工面に露出した複数の金属間化合物が存在し、被加工面に露出した金属間化合物の合計の面積が、被加工面の面積（１００％）に対して、０．１４％超０．７％以下であり、被加工面の算術平均粗さＲａが、０．０５μｍ以下であるアルミニウム基材10を用いる。 （もっと読む）

【課題】光の散乱の原因となるマクロな凸部、結晶粒に由来するマクロな凹凸や色ムラを転写面に生じさせにくい、表面に微細凹凸構造を有するスタンパを得ることができるアルミニウム基材、スタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】微細凹凸構造を表面に有するスタンパ20の製造に用いられる、微細凹凸構造が形成される被加工面を有するアルミニウム基材10であって、被加工面に露出した金属間化合物の合計の面積が、被加工面の面積（１００％）に対して、０．１４％以下であり、被加工面における平均結晶粒径が、１ｍｍ以下であり、被加工面の算術平均粗さＲａが、０．０５μｍ以下であるアルミニウム基材10を用いる。 （もっと読む）

【課題】樹脂成形装置から樹脂成形型を取り外すことなく、樹脂成形型の型面で離型層が摩耗・はく離した状態を、一定の膜厚を有する離型層が形成された状態にする。
【解決手段】下型１及び上型２の外側には下型１と上型２との間に進退自在にプラズマトーチ２１が設けられ、高周波電源２２と、Ａｒガス源２４に続くバブラーボトル２３とが接続されている。下型１と上型２とを型締めし、キャビティ８に樹脂を注入し硬化させて成形品１８を形成後、下型１と上型２とを型開きし、プラズマトーチ２１を進入させる。バブラーボトル２３内の水溶液をバブリングし、大気圧雰囲気下において、プラズマトーチ２１から型面２０にプラズマジェット２５を吹き出しながらプラズマトーチ２１を移動させることで、処理前の型面ＳＢで離型層２６が摩耗・はく離していた状態を処理後の型面ＳＡでは均一の膜厚を有する離型層２７が形成された状態にする。 （もっと読む）

【課題】被加工基板の隙間領域を、均一に且つ再現性良く、インプリントレジストで覆うことが可能なテンプレート及びその製造方法、並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】光インプリント法に用いるテンプレートの製造方法であって、
基板１０上のパターン形成領域１４にインプリント用パターンを形成し、
パターン形成領域１４にレジスト膜１１を形成し、
レジスト膜１１をマスクにして異方性エッチングを行うことにより、第１の段部１３ｂと、パターン形成領域１４と第１の段部１３ｂを繋ぐ第１の側面部１３ａと、を形成し、
レジスト膜１１を除去した後、パターン形成領域１４と、パターン形成領域１４を囲う外周部１４ｂとにレジスト膜１２を形成し、
レジスト膜１２をマスクにしてウェットエッチングを行うことにより、第２の段部１３ｄと、第１の段部１３ｂと第２の段部１３ｄを繋ぐ、湾曲した第２の側面部１３ｃと、を形成する。 （もっと読む）