【課題】表面にキズが形成されにくいロール金型を提供する。
【解決手段】ロール金型１０のロール表面１３Ａには、ＮｉＰメッキ層１４が形成される。ＮｉＰメッキ層１４の表面１４Ｂには、複数の凹部１４Ａが形成される。ＮｉＰメッキ層１４の表面１４Ｂ上には、Ｃｒメッキ層１５が形成される。Ｃｒメッキ層１５上には、ＤＬＣ層１７が形成される。ロール金型１０は、ＮｉＰメッキ層１４と、Ｃｒメッキ層１５とＤＬＣ層１７との組合せにより、高い硬度を有する金型表面１０Ｂを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】光学素子を成形する成形型のマスタ作成の際に、材料のはみ出しを防止でき、高い精度で転写できるマスタ型及びその作成方法を提供する。
【解決手段】基板部１の表面に光学素子の形状を有する成形部が成形された成形体を作成するため、成形体の形状に一致するマスタ型であって、この型は、マスタを構成する基板３１の表面に、樹脂からなる造形材料を変形させて成形部に対応する造形部の形状を形成する型面を備え、該型面は、光学素子の光学面に相当する形状を転写する転写部２１と、基板３１に対面する平面からなる平面部２０ａと、転写部２１と平面部２０ａの間で転写部２１を囲んで形成される凹部であって、転写部２１と基板３１の表面との間の空間に収納しきれない造形材料を収納する空間を構成する樹脂収納凹部２２とからなり、転写部２１の表面の樹脂１０Ｒに対する濡れ性が、樹脂収納凹部２２の表面の樹脂１０Ｒに対する濡れ性より高い。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び耐摩耗性に優れた金型を実現できるようにする。
【解決手段】金型は、金型本体と、金型本体を覆い且つ硅素を含むダイヤモンド様薄膜とを備えている。耐熱性のダイヤモンド様薄膜は、基材の表面に形成され、硅素を含み、基材との界面における硅素濃度が、表面における硅素濃度よりも高く、基材との界面と表面との間における硅素濃度の変化が連続的である。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ用ビームを用いて、表面層に同心円状の溝を形成する方法であって、これにより上記のタイプの機械的緩みまたは遊びによって与えられる影響を減少させる方法の実現
【解決手段】リソグラフィ用ビーム２を照射することにより、軸５の周りに回転可能である本質的に平らな基板３の表面層４に所定の程度まで露光された材料の溝６を形成する方法は、リソグラフィ用ビーム２および軸５が、その軸周りの基板３の回転中に、溝６の部分がリソグラフィ用ビーム２による２回以上の照射を受け、溝６が前記２回以上の照射の合計として形成されるように互いに相対的に制御される。さらに、この方法による装置、および、このような装置を制御する命令を具備したコンピュータプログラムプロダクトが説明される。 （もっと読む）

【課題】微細な格子状突起パターンあるいはそれに類似の突起パターンを表面に有する微細構造体を簡便かつ安価に、しかも高い寸法精度で歩留まりよく製造できるとともに、高い寸法精度及び良好な寸法安定性、特に湿度変化に対する良好な寸法安定性を同時に満足させ得るような可とう性成形型を提供すること。
【解決手段】可とう性成形型が、ポリマー材料及び強化材の複合材料からなる支持体と、前記支持体によって支持された、微細構造表面をその表面に備えた賦形層とを有するように構成する。 （もっと読む）

【課題】低コストでしかも高精度な内面を有する筒状金型の製造方法を提供する。
【解決手段】筒状金型を形成するに際し、鋳鉄製パイプ８の内面８ｂを機械加工したあと、鋳鉄製パイプ８の内面８ｂにメッキを施し、その後、研削加工する。 （もっと読む）

【課題】塩基性を有する物質、熱硬化性樹脂、又は、水分を含む物質からなる対象物に対する低密着性を有する低密着性材料と、対象物を使用する場合における高い離型性を有する成形型と、対象物を含む汚れに関する防汚性を有する防汚性材料とを提供する。
【解決手段】樹脂成形に使用される成形型である上型１において、ＺｒＯ_２基セラミックスからなる基材５の表面８に離型層４が形成されている。離型層４は、塩基性を有する物質、熱硬化性樹脂、又は、水分を含む物質からなる対象物に対して低密着性を有する低密着性材料から構成される。離型層４においては、Ｙ_２Ｏ_３の少なくとも表面に４Ａ族元素のカチオンであるＺｒ^４＋と窒素とが導入されている。低密着性材料の少なくとも表面において、４Ａ族元素のカチオンの量は０ｍｏｌ％を超えかつ２０ｍｏｌ％以下であるとともに窒素の量は０．０１ｍｏｌ％以上かつ１０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 保護層を有する金型を形成する方法を提供する。
【解決手段】 保護層を有する金型を形成する方法が、少なくとも１つの実質的に平坦な面を有する金型基板を形成することと、少なくとも１つの実質的に平坦な面の上に金型保護材料の層を堆積させることと、金型保護層を通って、少なくとも１つの実質的に平坦な面内に複数のキャビティをエッチングすることとを含む。 （もっと読む）

【課題】モールドをレジスト層から引き剥がす際にかかる応力を抑制することでレジスト層やモールドの損傷を抑制する剥離板、モールド構造体及びインプリント方法を提供。
【解決手段】本発明のインプリント方法は、加熱すると屈曲する剥離板を備えるモールド構造体を、加工対象物の基板上に形成されたインプリントレジスト組成物からなるレジスト層に押圧して前記モールド構造体に形成された凹凸パターンを転写する転写工程と、剥離板を加熱して第１の金属層を熱膨張させ、前記モールド構造体の端部を押圧方向と反対方向に屈曲させて前記レジスト層と前記モールド構造体とを剥離する工程と、を少なくとも含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ひけのない熱制御層を形成し、所期の断熱効果と、金型として充分な精度を得ることができ、かつ、金型として熱履歴を受けても熱制御層にひけが生じる恐れがない熱制御金型を提供する。
【解決手段】金属で構成される金型内部に樹脂からなる熱制御層が形成されている熱制御金型であって、前記金型の熱制御層形成部内面に第１の微細な凹凸と、該第１の微細な凹凸にさらに微細な第２の凹凸と、が設けられ、かつ、前記熱制御層にこれら微細な凹凸に対応する凹凸が設けられている熱制御金型。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズアレイ用基材に遮光部を設ける際に、マスキングなどの前処理を不要としながら、塗布むらやレンズ有効領域部分への塗布ミスなしに歩留まりよく、しかも、効率よく遮光部を設けることができるマイクロレンズアレイ用基材を提供する。
【解決手段】複数のレンズが設けられたマイクロレンズアレイ用基材において、液状の遮光部形成剤を前記レンズの間に導くための遮光部形成補助溝が、遮光部形成部に設けられている。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜しつつ、テンプレート処理のスループットを向上させる。
【解決手段】テンプレートの表面に離型剤を成膜するテンプレート処理では、先ず、洗浄ユニットにおいて、テンプレートの表面を洗浄する（工程Ａ２）。その後、塗布ユニットにおいて、テンプレートの表面に離型剤を塗布する（工程Ａ３）。その後、光照射ユニットにおいて、テンプレート上の離型剤に３５０ｎｍ〜２５００ｎｍの波長の光を照射して、テンプレートの表面に離型剤を密着させる（工程Ａ４）。その後、リンスユニットにおいて、離型剤をリンスして、当該離型剤の未反応部を除去する（工程Ａ５）。こうしてテンプレートの表面に離型剤が所定の膜厚で成膜される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、射出成形用スタンパの製造方法に係り、より詳細には、微細パターンを形成して金属スタンパを製造した後にも硬度が高いためにスクラッチの発生を防止でき、耐久性に優れた射出成形用スタンパの製造方法に関するものである。
【解決手段】本発明の射出成形用スタンパの製造方法は、基板に所定の微細パターンを形成するパターン形成段階と、基板に対して金属メッキを行って微細パターンが転写されたスタンパを形成する金属メッキ段階と、スタンパを基板から離型させるスタンパ分離段階と、スタンパのパターン上に鏡面を保持させるために保護層をコーティングする保護層コーティング段階と、を含む。 （もっと読む）

【課題】成形面を放電加工によって形成しつつ、金型の耐久性を確実に向上させることが可能な金型の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の金型の製造方法は、金型を得るための素材１に対し、放電加工により成形面１０ａ、１０ｂを形成する放電加工工程と、放電加工工程後、成形面１０ａ、１０ｂに窒化処理を行う窒化工程と、窒化工程後、成形面１０ａ、１０ｂに硬質被膜形成処理を行う硬質被膜形成工程とを備えている。 （もっと読む）

【課題】任意形状で且つ滑らかな曲面を容易に形成することが可能な曲面の形成方法を提供する。
【解決手段】ｐ形のシリコン基板からなる半導体基板１０（図１（ａ））の一部を除去して半導体レンズ１（図１（ｅ））の曲面２を形成する曲面２の形成方法であって、所望の曲面形状（曲面２の形状）に応じて半導体基板１０との接触パターンを設計した陽極１２（図１（ｃ））を半導体基板１０の一表面側にオーミック接触をなすように形成する陽極形成工程と、半導体基板１０の構成元素の酸化物を溶かす電解液中で半導体基板１０の他表面側に対向配置した陰極と陽極１２との間に通電して半導体基板１０の他表面側に除去部位となる多孔質シリコンからなる多孔質部１４（図１（ｄ））を形成する陽極酸化工程と、多孔質部１４を除去する多孔質部除去工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】優れた防眩性能を示し、白ちゃけによる視認性の低下を防止することができるとともに、高精細の画像表示装置に適用した場合においても、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現することができる防眩フィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明支持体上に積層された、凹凸表面を有する防眩層とを備え、空間周波数０．０１６μｍ^-1における該防眩フィルムの複素透過関数のエネルギースペクトルＴ₁²と、空間周波数０．１５５μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＴ₂²との比Ｔ₁²／Ｔ₂²が６０００以下であり、空間周波数０．１０８μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＴ₃²と、空間周波数０．１５５μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＴ₂²との比Ｔ₃²／Ｔ₂²が３以上２０以下である防眩フィルム、その製造方法および当該防眩フィルムの製造方法に好適に用いられる金型の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】無端状モールド等に適用し得るＳＯＧの無端状パターンを電子ビーム又はイオンビームの照射により作製する方法の提供。ＳＯＧ無端状モールドを用いる樹脂パターン成形品の製造方法の提供。ＳＯＧ無端状モールド及び光学素子の提供。
【解決手段】本発明のＳＯＧの無端状パターン作製方法は、円周方向において無端のアルミニウム基板上に、ＳＯＧ（Spin-On-Grass）レジスト液膜を付与する工程と、前記ＳＯＧレジスト液膜を有するアルミニウム基板を加熱してＳＯＧレジストを焼成する工程と、前記焼成後、ＳＯＧレジストを有するアルミニウム基板を冷却する工程と、前記冷却後、ＳＯＧレジストを有するアルミニウム基板を回転方向に回転させる工程と、前記基板上のＳＯＧレジストに電子ビーム又はイオンビームを照射する工程と、前記照射により又は前記照射後の現像により、前記ＳＯＧレジストの一部を除去する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】母型部材の成形面の加工痕が電鋳型に転写されることに起因する不要な回折光の発生を防止し、この電鋳型を用いて成形される成形品の反射率を低減する。
【解決手段】光学レンズ３０は、電鋳型の成形面が転写されて形成された光学面３２を有し、この光学面３２は加工痕３３、及びこの加工痕３３の表面に形成された所定形状の反射防止構造体３４からなり、加工痕３３の周期Ａと加工痕３３に引いた接線に対して直交する法線方向の山と谷の高さの差の最大値Ｂとの比Ｂ／Ａが１／１００未満である。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の記録面に形成されるレジストにインプリント法によりパターン転写する際に使用されるワーク用スタンパを繰り返し使用してもパターン欠陥の増加を抑制し、磁気記録媒体の製造コストを低減すること。
【解決手段】凸型の親ニッケルスタンパからの反転パターンで作製される複製元の凹型のニッケルスタンパ１の表面に酸化膜２を形成する工程と、該酸化膜上にカーボン膜３を堆積する工程と、該カーボン膜上にニッケル薄膜４を成膜する工程と、該ニッケル薄膜４上にニッケル電鋳層を形成して凸型の複製ニッケルスタンパ５を形成する電鋳工程と、該電鋳工程後に、前記酸化膜２と前記カーボン膜３の間を分離して前記複製元の凹型のニッケルスタンパ１から、前記カーボン膜と前記ニッケル薄膜とが被着された前記凸型の複製ニッケルスタンパ５を剥離する工程とを含む磁気記録媒体用ニッケルスタンパの製造方法とする （もっと読む）

【課題】離型剤をモールド本体の表面に十分に定着させることができるモールドの製造方法を提供する。
【解決手段】（イ）表面に微細凹凸構造が形成されたモールド本体１６を作製する工程と、（ロ）モールド本体１６の微細凹凸構造が形成された側の表面に、表面の官能基（Ａ）と反応し得る官能基（Ｂ）を有する離型剤で処理する工程と、（ハ）工程（ロ）の後、該モールド本体１６を加熱加湿処理する工程とを有するモールドの製造方法。 （もっと読む）