【課題】洗浄によるパターンの劣化を抑制することができるテンプレート処理方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート処理方法は、主面を有する基板と、前記主面上に形成され、凹部を含む第１のパターンと、前記第１のパターンとは異なる位置に前記主面上に形成され、凹部を含む第２のパターンとを具備し、かつ、前記第１のパターンは第１の材料を含み、前記第２のパターンは前記第１の材料とは異なる第２の材料を含むテンプレート１を処理する。実施形態のテンプレート処理方法は、前記第１および第２の材料とは異なる第３の材料を含む被覆部材１１で前記第２のパターンを被覆する。次に、被覆部材１１で前記第２のパターンを被覆した状態で、テンプレート１を洗浄する。次に、被覆部材１１を除去して前記第２のパターンを露出させる。 （もっと読む）

【課題】高密度磁気記録を行うには、磁性体を充填する細孔を微細にする必要があり、その微細な加工を短時間で行い、製造コストの低減ならびにスループットの向上を図る。
【解決手段】加工速度が早い加工装置により、基板に比較的大きな凹パターンを形成した後、その凹パターン内に薄膜を形成することにより、微細で均一なパターンを低コストかつ高スループットのプロセスによって、形成できる。この基板内に磁性体を埋め込むことで、パターンドメディアが形成される。また、この基板をインプリントモールド原版またはインプリントモールドとして用いることにより、磁気特性に優れた磁性層を有するパターンドメディアの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの洗浄時間を短縮できるテンプレート洗浄装置を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート洗浄装置は、表面に凹凸パターンおよび溝部が形成されているインプリント用のテンプレートの前記溝部のイメージを取得するためのイメージ取得手段１０を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記イメージ取得手段１０により取得された前記溝部のイメージと、予め取得しておいた基準イメージとを比較して、前記テンプレートの洗浄時間を決定する機能を含む洗浄時間決定手段１２を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記洗浄時間決定手段１２により決定された洗浄時間に基づいて、前記テンプレートを洗浄するための洗浄手段１３を具備する。 （もっと読む）

【課題】簡単にかつ短時間に残留物を押圧ロールから除去できる洗浄方法を提供すること。
【解決手段】押圧することで樹脂シート３０を成形するための押圧ロール１４Ｃの洗浄方法であって、押圧ロール１４Ｃの表面に、ドライアイス４２、又は、気体状態、液体状態若しくは固体状態の水を衝突させる工程を有する、洗浄方法を提供する。押圧ロール１４Ｃの表面にドライアイス４２等を衝突させることで、残留物５０へ物理的衝撃が加わる。この衝撃によって、残留物５０が押圧ロール１４Ｃの表面から剥離するため、短時間で簡単に押圧ロール１４Ｃの洗浄ができる。 （もっと読む）

【課題】被印刷基板とスタンプとの間に気泡が入り込むことを抑制することによって、印刷精度を向上できるとともに、装置の小型化、省電力化を図ることができる印刷装置を提供する。
【解決手段】被印刷基板１とスタンプ部材２とを接触させることによって、印刷材料を被印刷基板１に印刷する印刷装置１０において、第１の保持機構２０及び第２の保持機構４０のいずれか一方を他方に対して相対移動させることによって、第１の保持機構２０に保持されている被印刷基板１と第２の保持機構４０に保持されているスタンプ部材２とを大気圧下で接触させる移動機構３０、５０と、互いに接触している被印刷基板１とスタンプ部材２とが大気圧下にある状態で、被印刷基板１とスタンプ部材２との隙間を真空排気することによって、スタンプ部材２を被印刷基板１に吸着させる吸着機構６０とを有する。 （もっと読む）

【課題】型のパターン部の周辺部に付着した付着物を除去するのに有利なクリーニング方法を提供する。
【解決手段】このクリーニング方法は、凹凸パターンが形成されたパターン部７ａを有する型７に付着した付着物２２を除去するものである。特に、このクリーニング方法は、型７と、基板２０上に塗布された光硬化性樹脂２１とを押し付けるに際し、パターン部７ａの形成面におけるパターン部７ａの外周部７ｃに対応する基板２０上の位置に、光硬化性樹脂２１を塗布する工程と、型７と光硬化性樹脂２１とを押し付ける工程と、光硬化性樹脂２１を硬化させる工程と、型７と光硬化性樹脂２１とを引き離す工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】本実施形態は、パターン形成にかかる時間を短縮しつつ、インプリントリソグラフィ法において、硬化性樹脂をパターン形成用テンプレートのパターン溝に充填する際に生じる充填欠陥を低減することができ、加えて、異物によるパターン形成用テンプレートの欠損を避けることができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本実施形態のパターン形成方法は、被加工基板上に硬化性樹脂を塗布し、硬化性樹脂にパターン形成用テンプレートを接触させて、被加工基板上に硬化性樹脂からなるパターンを形成するものであり、硬化性樹脂を塗布する前に、被加工基板上にある異物の位置情報を測定し、記憶し、記憶された異物の位置情報に基づいて、異物粉砕テンプレートを異物に押し付けることにより異物を粉砕し、次いで、粘着膜が貼付けされた除去用テンプレートを粉砕された異物に接触させて粘着することにより異物を除去する。 （もっと読む）

【課題】インプリント装置において基板保持面またはモールド保持面に存在する異物を除去するために有利な技術を提供する。
【解決手段】基板に塗布された樹脂とモールドのパターン面とを接触させて該樹脂を硬化させるインプリント装置１００は、前記基板を保持する基板保持部４と、モールド保持面ＭＳで前記モールドを保持するモールド保持部３と、前記モールド保持部３に対して前記基板保持部４を相対的に移動させる駆動機構と、前記基板保持部４により前記基板の代わりにクリーニング部材１２が保持されて前記クリーニング部材１２と前記モールド保持面ＭＳとが接触した状態で前記モールド保持部３に対して前記基板保持部４が相対的に移動するように前記駆動機構を制御し、これにより前記モールド保持面ＭＳをクリーニングする制御部２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】 裏面に凹部を有するテンプレート用の基板を用いる場合の問題を解決することが可能なテンプレートの処理装置を提供する。
【解決手段】 実施形態によれば、インプリントリソグラフィに用いるテンプレート用の基板の処理装置であって、テンプレート用の基板１４の裏面に形成された凹部に整合する凸部を有する載置台１２を備える。 （もっと読む）

【課題】微細凹凸構造が表面に形成された物品の製造を終了する際にモールドの表面に発生する表面欠陥が、物品の製造を再開した際に物品の表面に転写されることを抑制することができる、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法を提供する。
【解決手段】第１の硬化性樹脂組成物３９を、微細凹凸構造を表面に有するロール状モールド２０とフィルム４２との間に挟み、硬化させて、微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層４４をフィルム４２の表面に形成し、物品４０を得る工程（Ｉ）、内部離型剤を含む第２の硬化性樹脂組成物３８をロール状モールド２０とフィルム４２との間に挟み、硬化させて、硬化樹脂層４４をフィルム４２の表面に形成する工程（II）、第１の硬化性樹脂組成物３９または第３の硬化性樹脂組成物をロール状モールド２０とフィルム４２との間に挟み、硬化させて、物品４０を得る工程（III）を有する製造方法。 （もっと読む）

基板上の重合性材料は、制御組成のガス雰囲気中でエネルギー供給源からの真空紫外（ＶＵＶ）放射線に曝露することにより除去することができる。このような除去の後、ナノプリント用の追加のエッチング技術もまた記載される。 （もっと読む）

【課題】生産性を向上させることができる基板処理方法及びインプリント装置を提供する。
【解決手段】第１のテンプレートに形成されたパターンを、半導体基板上に配置された流動性材料としてのレジスト１５０に転写する第１のインプリント処理と、第１のインプリント処理とは異なるインプリント処理対象の第２の半導体基板の検査処理、第２のテンプレートに形成されたパターンの表面への剥離材１４０の塗布処理、及び、第１のインプリント処理前に実施された第３のテンプレートに形成されたパターンを半導体基板上に配置されたレジスト１５０に転写するインプリント処理において用いられた前記第３のテンプレートの検査と第３のテンプレートの検査により再利用可能と判定された場合に行う第３のテンプレートの洗浄を実施する検査・洗浄処理、の少なくともいずれか一つの処理と、を同一の処理チャンバ内で並行して行う。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの表面に離型剤を適切に形成する。
【解決手段】テンプレート処理装置１は、テンプレート搬入出ステーション２と処理ステーション３とを一体に接続した構成を有している。テンプレート搬入出ステーション２は、複数のテンプレートＴを保有可能で、且つ処理ステーション３に対してテンプレートＴを搬入出する。処理ステーション３は、搬送ラインＡに沿ってテンプレートＴを搬送する複数の搬送ローラを備えている。搬送ラインＡには、搬送中のテンプレートＴに対して所定の処理を行う、前洗浄ユニット２１、塗布ユニット２２、加熱ユニット２３、温度調節ユニット２４、リンスユニット２５、離型剤改質ユニット２６、後洗浄ユニット２７がテンプレートＴの搬送方向に順に配置されている。離型剤改質ユニット２６では、テンプレートＴの外側領域の離型剤に紫外線を照射して、当該紫外線の離型効果が弱められる。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントモールドは所定の期間使用した後に洗浄が行われるが、この洗浄時に生じる微細パターンの欠けを抑制することができるナノインプリントモールドを提供する。
【解決手段】当該ナノインプリントモールドは、基板１と、上記基板表面に形成された微細パターン２と、上記基板表面かつ上記微細パターン２の近傍に形成され、目的とするパターン形状の形成に寄与せず、洗浄時に生じる上記微細パターンの欠けを防止する欠け防止パターン３とを有する。 （もっと読む）

インプリント・リソグラフィ・システムが、テンプレートと基板との間に配置された材料を固化するためのエネルギー源を設けることができる。さらに、エネルギー源及び／又は付加的なエネルギー源を用いて、テンプレート及び／又は基板から汚染物質をクリーニングすることができる。
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【課題】 ナノインプリント工程を用いて３次元微細パターンや多段パターンを成形する方法とこのようなパターンを成形するためのモールドの製作方法を提供する。
【解決手段】 紫外線を遮断できる遮断膜がパターニングされている基板上にモールド用ポリマーをパターニングすることによって、ナノインプリント工程を適用する上で難が多かった多段インプリント用のモールドを１段形態に容易に製作し、製作された１段形態のモールドを用いて、複雑な工程を数回行うことなく容易に多段形態のパターンを成形することによって、大面積微細パターンの成形、平板ディスプレイに使われる大面積パターンの成形、さらには半導体工程の数十ナノパターンに適用し、工程コスト低減、工程時間短縮及び製造収率向上に寄与できる工程方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 ナノインプリントと乾式エッチング工程とを用いて多様な形態のナノインプリント用のレプリカモールドを製作する方法と製作されたナノインプリント用のレプリカモールドでナノインプリント工程を用いて多段パターンや微細パターンを成形する方法を提供する。
【解決手段】 金属パターンがパターニングされている基板のモールド用レジンをナノインプリントと乾式エッチング工程とを用いて、ナノインプリント工程を適用する上で難が多かった様々な形態のモールドを容易に製作し、複雑な工程を数回行うことなく、製作されたモールドでナノインプリント工程を用いてナノ級パターンや複雑な３次元形状の微細パターンの成形を可能にする工程方法を提供する。これにより、大面積微細パターンの成形及び半導体工程の数十ナノパターンへの適用が可能になり、工程費用の低減、工程時間の短縮及び製造収率の向上が図られる。 （もっと読む）

【課題】被加工基材の端部から表面への微小粉末の回り込みが抑制されるレジストパターン形成方法等の提供。
【解決手段】レジストパターン形成方法は、被加工基材１０の少なくとも端部１１の微小粉末を除去するクリーニング工程と、端部の微小粉末が除去された被加工基材の表面に、インプリントレジスト層を形成するインプリントレジスト層形成工程と、複数の凸部と、該凸部の間に形成される凹部とからなる凹凸部を表面に有する凹凸型の該凹凸部を押し当て、該凹凸部のパターンが反転した、レジストパターンを前記被加工基材の表面に形成するレジストパターン形成工程と、を有する。 （もっと読む）

一実施形態では、エンボス加工ドラムが、外テーパを備えた外面を有するマンドレル（４）と、マンドレル（４）の第１の端部から延びる主ジャーナル（１０）と、マンドレル（４）の第２の端部から延びる副ジャーナル（１２）と、内テーパを備えたスリーブ内面を有し、マンドレル（４）の周りに配置されて、実質的に一定の外径を有するドラムを形成するスリーブ（６）と、副ジャーナル（１２）に係合し、スリーブ（６）の最小内径を有する第１のスリーブ端部が隣接して配置される着脱可能なジャーナル支持部（３０、５０）とを有している。一実施形態では、ドラムシステムのメンテナンス方法が、エンボス加工ドラムシステムにおけるジャーナル支持部（３０、５０）を解放することと、マンドレル（４）から外して副ジャーナル（１２）の上へスリーブ（６）を滑らせることとを含んでいる。
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