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Fターム[4G042DB16]の内容

Fターム[4G042DB16]に分類される特許

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【課題】エネルギー効率に優れ、ナノ粒子を低コストで製造可能なナノ粒子の製造方法およびその製造方法に好適なナノ粒子製造装置を提供する。
【解決手段】ナノ粒子の原料となる原料ガスおよび非反応性のプラズマ生成ガスの混合ガスをプラズマ生成手段(11)に供給しプラズマジェットを生成する工程と、冷却可能な壁面を備え、圧力調整可能な密封可能なチャンバー(14)の内部を非反応性雰囲気あるいは酸素ガスを含む雰囲気で満たし、プラズマジェットを噴出させ、急冷することによりナノ粒子を生成させる工程とを有することを特徴とするナノ粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】光学材料、導電材料、磁性体、絶縁材料、強誘電体、蛍光体、触媒、磁石、電池などに利用できる金属酸化物微粒子を効率よく、かつ簡便に製造できる金属酸化物微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】金属化合物溶液を酸化性物質の存在下に噴霧し、気相中で燃焼させる工程A、及び冷却工程Bを含む金属酸化物微粒子の製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】ケイ素を含む多元素系無機化合物を製造する際に有用な水溶性ケイ素前駆体の製造方法、並びに多元素系無機化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも1つのケイ素前駆体を含む、実質的にハロゲンを含まない、多元素系水溶性前駆体溶液を与えることと、このケイ素前駆体に熱プラズマ、火炎噴霧、ホットウォールリアクタまたは噴霧熱分解システムから選択される、熱源をあてて多元素系ケイ素材料を作成することとを含む、ケイ素材料を製造する方法。 (もっと読む)


【課題】 安価で、かつ高性能な機能性金属酸化物層を簡易に生産性よく製造することのできる機能性金属酸化物層の製造方法、およびその製造方法によって得られる機能性金属酸化物層を提供すること。
【解決手段】 金属酸化物からなる微粒子と、この金属酸化物を構成している金属元素の金属からなる微粒子とを含有する塗液を調製する工程と、塗液を支持体に被着させる工程と、塗液の層から溶媒を蒸発させ、金属酸化物微粒子と金属微粒子とを含有する微粒子層を形成する工程と、微粒子層に酸化性雰囲気中においてプラズマを照射することによって、金属酸化物微粒子間を直接、及び/又は、少なくとも一部が酸化された金属微粒子を介して連結し、機能性金属酸化物層を形成する。金属酸化物微粒子層に接して金属層を積層し、これにプラズマを照射して、機能性金属酸化物層を形成してもよい。 (もっと読む)


【課題】所定パターンを有するとともに、表面抵抗率や光透過率等のばらつきが少ない金属酸化膜の形成方法およびそのような金属酸化膜を提供する。
【解決手段】基材上に、所定パターンを有する金属酸化膜の形成方法等であって、基材に対して、金属塩を含有する液状物を塗布して金属塩膜を形成する第1工程と、金属塩膜に対して、所定パターンを設ける第2工程と、金属塩膜に対して、熱酸化処理または所定のプラズマ酸化処理を行い、金属酸化膜とする第3工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】本発明では、平均一次粒子径、組成等の制御をして、金属、半金属、金属化合物及び半金属化合物の少なくとも1種を含む微粒子を製造する方法及び装置を提供する。
【解決手段】減圧容器内で、少なくとも1種の金属及び/又は半金属を含有する原料を加熱して蒸発させ、蒸発させた原料を、プラズマ雰囲気を介して、微粒子として液体媒体の表面に付着させ、得られた付着物を回収することを含む、微粒子の製造方法とする。また、減圧容器17、原料を加熱して蒸発させる原料加熱部11、液体媒体15を流動させる液体媒体流動部17、雰囲気ガスを導入する雰囲気ガス導入部18、並びにプラズマ発生部12を有する、微粒子製造装置100とする。 (もっと読む)


【課題】従来は困難であった微細でかつ粒度分布幅の狭いナノ粒子を高効率に生成可能とする微粒子の製造方法、並びにこの方法の実施に用い得る微粒子の製造装置を提供する。
【解決手段】微粒子製造用原料としての一種以上の粒子を分散させて熱プラズマ炎中に供給し、前記微粒子製造用原料粒子を蒸発させ気相状態の混合物とし、この混合物を冷却して、微粒子を製造する方法において、前記熱プラズマ炎の発生装置として変調誘導熱プラズマ装置を用い、この変調誘導熱プラズマ装置のコイル電流の振幅変調を所定時間間隔で繰り返させる。 (もっと読む)


【課題】サブマイクロオーダーやナノサイズを有している無機酸化物中空粒子、特には、球形金属酸化物単結晶中空サブマイクロ粒子や球形金属酸化物単結晶中空ナノ粒子を、簡単な方法で合成し且つ回収する方法を提供する。
【解決手段】真空容器中に、金属酸化物源である金属の第一電極と放電空間を囲む絶縁板、そして、該絶縁板の外面に第二電極を備え、且つ、該真空容器中への気体導入部を備えているスパッタリング装置において、前記第一電極と前記第二電極間に変動電圧を与え、前記気体導入部より酸素を0.1%以上含む気体を導入して、プラズマ中で、第一電極のスパッタリング及び飛散第一電極金属原子と酸素との酸化反応を同一放電空間で行うことにより球形金属酸化物単結晶中空粒子を生成せしめる。放電プラズマやガス流を制御することによって均質な粒径分布や空洞径/粒径の比の制御が可能になる。 (もっと読む)


本発明は、多結晶構造、コンポジット又は固溶体の形態のナノメートルサイズのセラミック材料と、その合成方法及び使用に関する。セラミック材料は、主に2つの油中水滴型(W/O)エマルジョンの爆発により得られる。エマルジョンの一つは、2000℃以下の温度の爆発型を示すように、前駆体とともに調製される。セラミック材料は、個別的に各々の粒子について高い化学的及び結晶相の均一性を示す。それらは、最終的な応用に従って調整可能な一連の相補的特性を示す。例えば、1次粒子の均一な分散、非常に高い化学的純度水準、50nm以下の結晶サイズ、25〜500m2/gの単位質量当たりの表面積、及び理論密度の98%より高い真の粒子密度があげられる。この一連の特徴により、セラミック材料は、ナノテクノロジー分野の非常に広い範囲の応用に特に適している。例えば、ナノコーティング、磁気ナノ流体、ナノ触媒、ナノセンサ、ナノ色素、ナノ添加物、超軽量ナノコンポジット、薬剤放出ナノ分子、ナノマーカ、ナノメートルフィルム等である。 (もっと読む)


【課題】プラズマ処理を用いることにより、表面抵抗等のばらつきが少ない薄膜形成が可能な金属酸化物薄膜の製膜方法を提供する。
【解決手段】基材上に、金属酸化物薄膜を形成する金属酸化物の製膜方法において、基材に対して、金属塩を含有する液状物を塗布して金属塩を含有する塗膜を形成する工程と、
塗膜に対してプラズマ処理を行う工程と、を含み、より好ましくは、金属塩を含有する液状物として、亜鉛及びインジウムから選ばれる少なくとも1つを含有する液状物を用いる金属酸化物薄膜の製膜方法である。 (もっと読む)


金属酸化物膜を、前記膜のための支持体の表面上に堆積させるための方法であって、堆積チャンバーを準備する工程と、電子およびプラズマからなるパルスビームを前記堆積チャンバー中に与える工程と、支持体を前記堆積チャンバー中に与える工程であって、前記支持体は堆積表面を有する工程と、金属酸化物を含んだ材料で作られたターゲット体を前記堆積チャンバー中に与える工程であって、前記ターゲット体はターゲット表面を有する工程と、前記電子およびプラズマからなるパルスビームを前記ターゲット表面に衝突させることによって前記ターゲット表面からアブレーションされた金属酸化物のプルームを形成する工程と、前記プルームを前記堆積表面に接触させることによって前記堆積表面上に金属酸化物膜を堆積させる工程とを含む方法。
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【課題】 酸化珪素膜、金属埋め込み膜等へ研磨傷の発生を防止又は低減することが可能なCMPが実施できる金属酸化物粒子、これを含む研磨材、この研磨材を用いた基板の研磨方法及び研磨して得られる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 金属化合物を1000℃以上で加熱処理することによって作製され、かつ結晶子サイズが30nm以上及び結晶歪が1%以下である金属酸化物微粒子、この金属酸化物微粒子を含む研磨材、該研磨材を用いて、所定の基板を研磨することを特徴とする基板の研磨方法及び酸化珪素膜が形成された半導体チップを、前記の研磨材で研磨することを特徴とする半導体装置の製造方法若しくは金属膜が形成された半導体チップを、前記の研磨材で研磨することを特徴とする導体装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】金属酸化物微粒子の製造方法及び製造システムの提供。
【解決手段】微粒子化のターゲットとなる金属の金属塩を該金属塩の分解温度未満でアルカリ金属塩の溶融塩に溶解した後、この溶融塩をターゲット金属の塩の分解温度以上に昇温させてターゲット金属の酸化物微粒子を生成せしめた後、該微粒子を含有する溶融塩を急冷することによって、ターゲット金属の酸化物微粒子を製造する方法及び製造するシステム。金属酸化物微粒子の生成が促進される一方、該微粒子の粗大化が抑制され、粒度分布の狭い微粒子群を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】光学特性の変化を抑制可能な位相差フィルムを製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】製造方法は、基板の表面に無機材料の粒子を供給して、基板の表面に位相差フィルムを形成する動作と、形成された位相差フィルムにシランカップリング剤を供給する動作と、を含む。 (もっと読む)


ナノサイズの金属を有する粉末およびドープされた粉末を、不揮発性の金属を有する前駆体粉末あるいは粉末混合物を比較的低い温度で熱ガス流中で分散させる方法によって合成する。第一の揮発性作用物質を添加し、前駆体中の金属を揮発性金属化合物に変換する。次に、第二の揮発性作用物質をガス流に注入し、該揮発性金属化合物を、急冷中にナノサイズの金属を有する粉末として凝縮する固体に変換する。最後に、蒸気/金属を有する粉末混合物をガス流から分離する。
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【課題】本発明は、固体ターゲット材料の超高速パルスレーザ融除を利用して、選択したサイズのナノ粒子を生成し、これを基板表面上に堆積させるためのワンステップ工程を提供する。
【解決手段】このシステムはパルスレーザ、光学系、及び真空室を含む。パルスレーザは数フェムト秒から数十ピコ秒までの多様なパルス時間を有する。光学系は、ビームを適切な平均エネルギー密度および適切なエネルギー密度分布にてターゲット表面上に集束できるようにレーザビームを成形する。真空室の内部にはターゲットと基板が設置され、バックグラウンドガスとその圧力が適切に調整される。 (もっと読む)


基材の表面上の、金属酸化物のナノ粒子、複数の金属酸化物のナノ粒子およびそれらの混合物から選択されるナノ粒子の少なくとも1つのナノ多孔性層の調製のための方法であり、前記ナノ粒子が分散され安定化されている少なくとも1つのコロイド状ゾルが、前記ナノ粒子を前記表面上に投射する熱プラズマジェット中に注入される方法。ナノ多孔性層および装置特に前記層を含む分離装置。 (もっと読む)


軸方向投入プラズマトーチを用いるマイクロパウダーおよびナノパウダーなどの粉体の製造用の方法およびシステム。液体前駆物質を霧化し、プラズマトーチの収束領域へ投入する。続いて、粒子の熱流のクエンチを行い、生成した粉体を収集する。
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【課題】粒子形状の均一な粉体を製造できる粉体製造装置および粉体製造方法を提供する。
【解決手段】ミスト発生手段6によって原料液のミストを生成し、ミストを気流によって搬送し、乾燥装置2によって気流を加熱することでミストを乾燥して原料粉体を生成し、プラズマ加熱装置3のプラズマ発生手段8が形成する超高温のプラズマ空間で原料粉体を熱分解して融合する。 (もっと読む)


【課題】 大気圧または大気圧近傍の圧力で酸化物膜を形成する際に発生するクラックの問題を解決し、また生産性や絶縁特性に優れた酸化物膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 大気圧プラズマCVDによる酸化物膜の形成方法であって、前記酸化物膜の金属成分を含む有機金属系化合物ガスと、プラズマを発生させ膜成分となる酸素を主成分とする動作ガスを供給するA工程と、前記有機金属系化合物ガスの供給を止め、前記動作ガスのみを供給するB工程を繰り返し行うことにより基板上に酸化物膜を形成する酸化物膜の形成方法であり、前術のA工程とB工程を繰り返し行うことにより、基板上に形成された酸化物膜中のC量を原子量で2%以下にすることができる。 (もっと読む)


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