【課題】紫外線遮蔽能の持続性に優れた紫外線遮蔽膜を有するガラス物品を提供する。
【解決手段】本発明による紫外線遮蔽膜には、酸化ケイ素と共に、常温で固体であるとともに分子量が５０００以下である有機化合物Ａの平均粒径１５０ｎｍ以下の微粒子が含まれている。このガラス物品は、例えば２％以下の紫外線透過率（ＴＵＶ３８０）を有し、好ましくは７０％を超える波長５５０ｎｍにおける光線透過率（Ｔ５５０）を兼ね備える。紫外線遮蔽膜は、ポリエーテル化合物、ポリオール化合物等の有機化合物Ｂをさらに含んでいてもよい。 （もっと読む）

【課題】加工の前後にガラス板を方向転換する必要がなく、片面だけのコーティングの除去や相前後する両面のコーティングの除去を行なうことができる方法及び装置の提供。
【解決手段】除層すべき表面の領域内に、少なくとも一対のプラズマノズル５，６が配設され、プラズマ光線１４，１５用の出口が、対向するガラス板２の幅広側の表面３７，３８に向けて相互に及び同時にそれぞれ整向され、プラズマノズルの対の両ノズル５，６が一緒に制御及び運転され、選択的にノズル対の両ノズル５，６の一方から表面３７，３８の一方の領域か、両ノズル５，６から同時に表面３７，３８の２つの領域が、プラズマ光線１４，１５の作用を受け、この場合、表面３７，３８のプラズマ光線１４，１５の作用を受ける領域内でコーティング１１，１２が除去され、同時にガラス表面が活性化される。 （もっと読む）

【課題】反射防止層の耐摩耗性を改良したコーティングされた基板とそのコーティング方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一面に、多層反射防止コーティング５を有し、その多層反射防止コーティング５は、より高い屈折率を有する層５１，５３とより低い屈折率を有する層５２，５４とが交互になっている、異なる屈折率を有する複数の層から形成されており、その際、より低い屈折率を有する層５２，５４は、アルミニウム分を有する酸化ケイ素から形成されており、ケイ素に対するアルミニウムの物質量の比は、０．０５より大きく、好ましくは０．０８より大きいが、ケイ素の物質量は、アルミニウムの物質量に比べて多く、その際、より高い屈折率を有する層５１，５３は、ケイ化物、酸化物または窒化物を含有している。 （もっと読む）

【課題】ハンドリングが容易な上、微細な貫通孔を形成することが可能な、インターポーザ用のガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一つの貫通孔を有するインターポーザ用ガラス基板の製造方法であって、（ａ）第１の表面および第２の表面を有し、第１の厚さを有するガラス基板を準備する工程と、（ｂ）前記ガラス基板の前記第１の表面に、前記第１の厚さよりも薄い薄肉部を形成する工程であって、これにより、前記薄肉部と、該薄肉部を取り囲む厚肉部とが形成される工程と、（ｃ）前記薄肉部内の領域に、少なくとも一つの貫通孔を形成する工程と、を含む製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機物である光吸収剤を含みながらも、機械的強度に優れたシリカ系膜を提供する。
【解決手段】透明基体１と、前記透明基体の表面に形成された有機物および無機酸化物を含む有機無機複合膜２とを含む透明物品であって、前記有機無機複合膜が前記無機酸化物としてシリカを含み、前記有機無機複合膜が前記シリカを主成分とし、前記有機無機複合膜の表面に対して実施するＪＩＳ Ｒ ３２１２に規定されたテーバー摩耗試験の後に、前記有機無機複合膜が前記透明基体から剥離せず、前記有機物の少なくとも一部が紫外線吸収剤である、透明物品。 （もっと読む）

【課題】一方で付加的な部材又は支持要素の組込みを排除し、他方で動的応力及び静的応力に対する略等価な機械的安定性を示す、基板用の軽量構造を提供する。
【解決手段】モノリシック基板１０は、軽量構造を有するためにガラス又はガラスセラミックを含む。軽量構造は、網状構造、例えば四角形又は四つ角を有する形状のポケットを形成する網状構造によって範囲が定められる凹部を含む。該軽量構造に起因して、基板１０の重量が大幅に低減されると同時に、高い剛性が確保され得る。基板１０は好ましくは、ミラー支持体又はミラーとして使用され、地球上及び／又は地球外で利用することができる。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスである板ガラスの表面に対して、化学強化による圧縮応力層を形成する圧縮強化処理工程と、該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスをスクライブ割断して、強化板ガラスを得る分割加工工程とを有すると共に、前記スクライブ割断の際に形成される切り傷の深さが、圧縮応力層厚さより大きく、且つ前記該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスが内部の引っ張り応力により破壊しないように、前記スクライブ割断を行う。 （もっと読む）

【課題】加工が容易でかつ被加工物を安定して保持可能なレーザー加工装置用のテーブルを提供する。
【解決手段】レーザー加工装置において被加工物が載置固定されるテーブルの製造方法が、平板状のガラス板を用意する工程と、ガラス板の一方主面の吸引用溝の形成予定位置に、サンドブラスト処理にて粗溝を形成する工程と、粗溝の表面をエッチングして吸引用溝を得る工程と、を備えるようにする。吸引用溝の形成予定位置は、平面視でハニカム状に配置された領域を含むようにする。 （もっと読む）

【課題】窒化ケイ素をベースとし、改善された機械的抵抗性を有する少なくとも１つの層を含む多層系を含んでなる、特にグレージング用の基板を提供する。
【解決手段】ケイ素またはアルミニウムまたはこの２つの混合物の［窒化物、炭窒化物、酸窒化物または酸炭窒化物］をベースとする少なくとも１つの層を、ガラスからできているタイプの透明基板上に配設した被覆層と共に含む被膜を含んでなる透明基板である。この被覆層は酸化物ベースの機械的保護層であり、この酸化物が場合によっては化学量論以下または化学量論以上の酸素含量を有し、および／または場合によっては窒化物であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、複層ガラス窓を施工現場にて容易に組み立てることができるスペーサ付きガラス板及び複層ガラス窓の組立方法を提供する。
【解決手段】本発明のスペーサ付きガラス板１０、４０は、新規のガラス板１６に対し、工場にてスペーサ２０をブチルゴム１８によって予め接着するとともに、スペーサ２０にブチルゴム２２を予め接着し、このブチルゴム２２に離型紙テープ２４、保護シート４４を着脱自在に接着することで製造される。このスペーサ付きガラス板１０、４０を工場から施工現場へ搬入して複層ガラス窓を組み立てる際には、離型紙テープ２４、保護シート４４をブチルゴム２２から取り外し、ブチルゴム２２を既存のガラス窓１４に接着する。 （もっと読む）

【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてＳｉＯ_２を５０〜７０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を５〜２０質量％、Ｎａ_２Ｏを６〜３０質量％、および、Ｌｉ_２Ｏを０〜８質量％未満含む。必要に応じて、ＣａＯを０〜２．６質量％含む。前記ガラス基板は、濃度１０質量％のフッ化水素を含む２２℃のエッチング環境で、３．７μｍ／分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 （もっと読む）

【課題】基体上に低反射膜を形成するための、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜形成用塗布液およびその調整方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。
【解決手段】基材に低反射膜を形成するための低反射膜形成用塗布液であって、コロイダルシリカに対して、酸化物換算で５質量％以上、４０質量％以下のタングステン化合物を含む分散液からなることを特徴とする低反射膜形成用塗布液。長径５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の棒状コロイダルシリカ、粒径５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の球状コロイダルシリカ、およびタングステン化合物を用いる。 （もっと読む）

【課題】カレットとしてＬＣＤ、ＰＤＰ用ガラス基板が使用可能であると共に、高い機械的強度を有する強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５０〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜８％、Ｎａ_２Ｏ ５〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０．１〜１０％、ＭｇＯ ０．１〜１５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０．００１〜５％を含有し、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＺｒＯ_２）が０．３〜１．５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 室温近傍で、結晶性の良好なＶＯ_２相からなる二酸化バナジウム系薄膜の形成を可能とする。
【解決手段】 サーモクロミック体１は、基体１０上に形成された酸化マグネシウム薄膜又は酸化マグネシウムに亜鉛を添加した酸化物薄膜からなる下地膜１１と、下地膜１１上に形成された二酸化バナジウム系薄膜１２とを備える。 （もっと読む）

【課題】角部分の耐衝撃性が優れること。
【解決手段】イオン交換法により形成された圧縮応力層３０Ｕ、３０Ｂが、表面２０Ｕ側と裏面２０Ｂ側とのみに設けられ、端面４０Ａが、凸を成す曲面であり、端面４０Ａの表面粗さＲａが１０ｎｍ以下である携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板、携帯型電子機器用画像表示装置、携帯型電子機器、および携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基体上に低反射膜を形成するための、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜形成用塗布液およびその調製方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。
【解決手段】基材に低反射膜を形成するための低反射膜形成用塗布液であって、コロイダルシリカに対して、酸化物換算で５質量％以上、４０質量％以下のニオブ化合物を含む分散液からなることを特徴とする低反射膜形成用塗布液。長径５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の棒状コロイダルシリカ、粒径５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の球状コロイダルシリカ、およびニオブ化合物を用いる。 （もっと読む）

【課題】
透明基体上に形成する低反射膜およびその形成方法に関し、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜およびその形成方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。
【解決手段】
シリカ微粒子と、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ハフニウム、酸化クロム、酸化セリウム、酸化モリブデンおよび酸化ランタンからなる群から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物をシリカ微粒子に対し５質量％以上、４０質量％以下、バインダーとして含有してなり、屈折率１．２０以上、１．４０以下であることを特徴とする低反射膜およびその形成方法。 （もっと読む）

【課題】熱線遮蔽性、特に熱線反射性（断熱性）に優れ、低コストで製造可能であり、且つ電磁波障害が生じ難い熱線遮蔽ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス板１１、及びその表面に設けられた導電性高分子からなる熱線反射層１４を含む熱線遮蔽ガラス１０であって、熱線反射層１４の表面放射率が０．７以下であり、且つ熱線反射層１４における導電性高分子の導電率が、０．００５〜２００Ｓ／ｃｍであることを特徴とする熱線遮蔽ガラス１０、及びこれを用いた複層ガラス。 （もっと読む）

【課題】外観や表面状態を変化させることなく、短時間で結晶化ガラスを強化し得る結晶化ガラスの製造方法を創案する。
【解決手段】本発明の結晶化ガラスの製造方法は、主結晶としてβ−石英固溶体が析出した結晶化ガラスの表面に、カリウム化合物を接触させた状態で、該結晶化ガラスのガラス転移点Ｔｇより１０〜１５０℃低い温度、１２０分以下の時間で熱処理することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学研磨した場合と同等の平滑面をもつ透明膜を、粗研磨により形成された凹凸形状をもつガラス基板表面に形成してなる透明物品、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】粗研磨により形成された凹凸形状をもつガラス基板２の表面に透明膜１を形成してなる透明物品であって、前記透明膜１と前記ガラス基板２との屈折率の差が波長３８０〜７８０ｎｍの領域において０．１以内であり、前記透明膜の表面が最大高さＲｚ値で１〜８０ｎｍの平滑面をもつ。 （もっと読む）