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Fターム[4G059AA11]の内容

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Fターム[4G059AA11]に分類される特許

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【課題】煩雑な操作を要することなく、接着強度に優れたポリビニルアルコール系樹脂体とガラス板からなる積層体の製法を提供する。
【解決手段】ポリビニルアルコール系樹脂体とガラス板からなる積層体の製法であって、上記ポリビニルアルコール系樹脂体として、ビニルアルコール構造単位の含有量が30〜90モル%であるポリビニルアルコール系樹脂体を準備し、その樹脂体の表面をプラズマ処理した後、上記プラズマ処理面とガラス板とを圧着させポリビニルアルコール系樹脂体とガラス板との積層体を製造する。 (もっと読む)


【課題】水蒸気等の気体を遮蔽するガスバリア性や可撓性に優れ、しかも2枚のガラス基板を一定の間隔に保持するスペーサ材としての機能も備えたシール材を提供する。
【解決手段】シール材1は、厚み1〜100μmのガラスリボンからなり、その両面2,3と、側面4は、火造り面となっている。ガラスリボンはその偏肉が、その厚みの20%以内であり得、厚みに対する幅のアスペクト比が25〜2000であり得、遷移元素を含有し得る。ガラスリボンの表面は、成膜処理され得る。 (もっと読む)


【課題】欠陥がなく耐久性、透光性に優れたガラス製マイクロレンズアレイを容易にかつ高精度に大量生産できるガラス製マイクロレンズアレイの製造方法を提供する。
【解決手段】本ガラス製マイクロレンズアレイ製造方法は、鏡面研磨されたガラス基板にレーザ光を吸収する膜を形成し、前記膜にレーザ光を照射してガラス基板に局所的な応力を与え、その後前記膜を除去し、前記ガラス基板にドライ・エッチングあるいはウエット・エッチングを施して、局所的に応力が存在する部分を凹レンズ状にする。 (もっと読む)


【課題】光ファイバ母材の外径を常時測定することで、繰り返し行っているエッチング、水洗浄、外径測定が1度で済み、時間短縮を図ることができる光ファイバ母材のフッ酸処理装置を提供する。
【解決手段】線引き前の光ファイバ母材2の表面層を除去すると共に光ファイバ母材2を目標の外径にエッチングするための光ファイバ母材のフッ酸処理装置1において、光ファイバ母材2を収容すると共に光ファイバ母材2の表面層をエッチングするためのフッ酸を注入するフッ酸浸漬用容器7と、フッ酸浸漬用容器7の外側に設けられ、光ファイバ母材2の外径を測定する非接触式の外径測定器8と、を備えるものである。 (もっと読む)


【課題】防曇性能の持続性が高く、汚れが付着した場合に拭き取りやすい防曇性レンズを提供すること。
【解決手段】基材の酸化物表面にホスホリルコリン基と基材を化学結合するシラン反応性基を有する下記親水性物質と、金属アルコキシド,シラン化合物から選ばれたカップリング剤を混合した組成物を主成分とする動摩擦係数が0.5未満の低摩擦性の防曇膜を形成させた。これによって防曇性能の持続性が高く、汚れが付着した場合に拭き取りやすい防曇性レンズを提供することができる。
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【課題】凝集を抑制した有機アルミニウム化合物を含む酸化アルミニウム前駆体ゾルを用いることにより、良好な反射防止性能を有する光学用部材を提供する。
【解決手段】アルミニウムアルコキシドまたはアルミニウム塩化合物を加水分解して得られた重縮合物、溶媒と、一般式(1)で表される有機アルミニウム化合物を含むことを特徴とする酸化アルミニウム前駆体ゾルを用いる。


R1、R2は炭素数1以上6以下のアルキル基、パーフルオロアルキル基、またはアリル基であり、R3は炭素数1以上6以下のアルキル基、パーフルオロアルキル基、アリル基、またはアリール基であり、nは1以上3以下の整数である。 (もっと読む)


【課題】加工ヘッドを対向するガラス基板に対して走査しながらエッチャントをガラス基板との隙間に供給しこれを吸引排出することでガラス基板の表面を加工する際、走査速度を速めても、平坦化のために算出した目的の除去量(計算値)と実際の加工における除去量にずれを生じさせることなくガラス基板の表面を加工する。
【解決手段】加工ヘッド2によりエッチャントをガラス基板3の表面に供給し吸引することにより、加工ヘッド2とガラス基板3との隙間に一定面積のエッチャント流路を形成し、加工ヘッド2とガラス基板3とを相対的に走査してガラス基板3の表面を加工する際、前記エッチャント流路を流れるエッチャントを該エッチャント流路の外側から前記エッチャント流路の外周を取り囲むようにして、全周方向からエッチャント流路の中心に向かって流れる乾燥ガスの加圧ガス流で加圧し、前記エッチャント流路内にエッチャントを封じ込める。 (もっと読む)


【課題】多孔質ガラスにおける不均一な吸水による失透を防止し、ガラス表面や内部におけるクラックの発生を抑制することができる撥水性多孔質ガラスおよびそれを用いた光学部材を提供する。
【解決手段】平均空孔径が10nm以上100nm以下の空孔を有する多孔質ガラスにおいて、少なくとも前記多孔質ガラスの表面および内部に存在する空孔の表面に撥水剤を有する撥水性多孔質ガラスおよびそれを用いた光学部材。多孔質ガラスは、スピノーダル型多孔構造を有することが好ましい。撥水剤は、フルオロアルキルシランあるいはフッ素樹脂である。 (もっと読む)


【課題】銀反射膜を備える反射部材であって、優れた耐熱性を有する反射部材を提供する。
【解決手段】反射部材1は、反射部材本体11と、銀反射膜13と、第1の保護膜15とを備えている。銀反射膜13は、反射部材本体11の上に形成されている。銀反射膜13は、銀または銀を含む合金からなる。第1の保護膜15は、銀反射膜13の上に形成されている。第1の保護膜15は、Ti,TaまたはNbからなる。 (もっと読む)


【課題】大型基板の研磨時の大きな研磨抵抗が小さくなるよう改善してより高い荷重で効率よく研磨できるようにする。
【解決手段】研磨布を貼り付けた定盤と、マスクブランク用基板とを、一定荷重をかけた状態で相対的に移動させ、その際研磨液を研磨布とマスクブランク用基板との接触面間に供給してマスクブランク用基板の研磨を行う工程を有するマスクブランク用基板の製造方法であって、 前記研磨布を貼り付けた定盤は、定盤1の研磨布貼り付け面に溝を有し、この溝の断面形状は、少なくとも溝の開口周縁部において曲線状又は曲面状に形成されてなる定盤と、 前記定盤1の研磨布貼り付け平面及び前記所定の開口周縁部形態を有する溝の形態に沿って貼り付けられた研磨布2と、で構成され、この「研磨布を貼り付けた所定の定盤」3を用い、マスクブランク用基板4の研磨を行うことを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 使用済みフォトマスクを用いて再生フォトマスク用基板を製造する場合において、フォトマスク用基板としての品質基準を担保しつつ、その製造コストを低減させる。
【解決手段】透明基板の第1主表面上に膜パターンが形成された使用済みフォトマスクを用いる再生フォトマスク用基板の製造方法であって、第1主表面上から膜パターンを除去する工程と、第1主表面及び第2主表面をそれぞれ研磨する研磨工程と、を有し、研磨工程において、第1主表面及び第2主表面における転写領域外に、300μm以上の大きさの傷欠陥が残留せず、かつ2μm以上300μm未満の大きさの傷欠陥が残留する研磨量であって、かつ、第2主表面における転写領域内に、100μm以上の大きさの傷欠陥が残留しない研磨量の研磨を行う。 (もっと読む)


【課題】外観品質の向上を図った光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】光学素子の製造方法が、アルカリ性または酸性の溶液を用いて、光学素子成形素材を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄された光学素子成形素材を減圧下で加熱する熱処理工程と、前記熱処理された光学素子成形素材を加熱軟化して、成形型によりプレス成形する成形工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】裏面のラフネスが大きい透明材料や、欠陥が存在する透明材料などであっても、被加工面を精度良く加工することができるレーザー加工方法を提供する。
【解決手段】レーザー光を用いて透明材料を加工する方法であって、レーザー光の発振波長は、193〜11000nmであり、且つ、透明材料は、レーザー光の吸収係数が1cm−1以下であり、透明材料の被加工面に対し、レーザー光の吸収係数が1μm−1以上のレーザー光吸収物質を付着させるレーザー光吸収物質付着工程と、透明材料に付着させたレーザー光吸収物質の表面側からレーザー光を照射し、透明材料の被加工面に加工を施すレーザー加工工程とを含むことを特徴とする、透明材料のレーザー加工方法である。 (もっと読む)


【課題】シリカを用いてガラス基板の鏡面研磨を行っても基板表面に微小な凸状の表面欠陥が発生するのを抑えたマスクブランクス用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】シリカを含むスラリーを供給しながら、研磨パッド7とガラス基板1とを相対的に移動させてガラス基板1の主表面を鏡面に研磨する研磨工程を有するマスクブランクス用ガラス基板1の製造方法である。ここで、前記ガラス基板1に供給する前記スラリーの温度を25℃以下に制御する。 (もっと読む)


【課題】マークエッジ部分での光の散乱、反射を防ぐことにより、マークの視認性を低下させ、光学ガラス部材の光学特性に影響を与えないマークを形成する。
【解決手段】光学ガラス部材のマーク形成方法であって、ガラスプリフォームを用意することと、ガラス粒子を含む被膜を前記ガラスプリフォームの表面に形成することと、被膜の所定の領域にレーザ光を照射することで、ガラス粒子をガラスプリフォームの表面に融着させて融着膜を形成することと、融着膜が形成されたガラスプリフォームをプレスすることを含む光学ガラス部材のマーク形成方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】局所表面加工後の研磨工程において、ガラス基板表面の平坦度を維持又は向上させつつ、ガラス基板表面の面荒れを改善することができ、高平坦度と高平滑性を実現する方法を提供する。
【解決手段】マスクブランクス用のガラス基板1の被測定面および裏面の凹凸形状と板厚ばらつきを測定する凹凸形状測定工程と、前記測定結果にもとづいて、表面加工を施すことにより、前記被測定面および裏面の平坦度と板厚ばらつきを所定の基準値以下に制御する平坦度制御工程と、表面加工の施された前記ガラス基板1の表面を基板押圧手段67により研磨布61に押圧しつつ、回転させて研磨する際、前記ガラス基板1の表面における押圧力分布が均一となるように、前記ガラス基板1を研磨布61に押し当て、かつ、研磨布押圧手段67が、前記ガラス基板1の外周部近傍の前記研磨布61を押圧しながら、前記ガラス基板1を研磨する研磨工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】アルカリ土類金属フッ化物およびアルカリ金属フッ化物層の上に、接着性が強く、拭き取る動作に安定性があり、水および汚れをはじく層を製造させる方法および組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、最外層としてアルカリ土類金属またはアルカリ金属フッ化物の層を有するか、またはアルカリ土類金属またはアルカリ金属フッ化物からなる光学的基材上に、高真空中でのポリフルオロカーボンを用いる熱蒸着により、疎水性層を製造する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】エッチング加工における加工形状の誤差を低減する。
【解決手段】石英ガラス24にプラズマジェットガン1からプラズマジェット31を照射し、表面加工する工程において、プラズマジェット31と石英ガラス24との反応による発光部32をCCDビデオカメラ27で撮像する。発光部32の波長440nmのスペクトルを検出し、その発光強度分布から求めた除去形状と目標除去形状との差を縮小するように、プラズマジェット31と石英ガラス24との相対位置、除去量及び除去径を制御する。 (もっと読む)


【課題】フレネルレンズにおける虹面の発生を抑制し、フレネルレンズの光学的性能を向上させる。
【解決手段】光軸(Z軸)の回りに回転する被加工物20に対して光軸方向に工具7を切り込むことにより、光学機能面21と垂直面22からなるフレネルレンズの輪帯を創成する切削加工において、光軸方向における工具7の工具切り込み速度Vを不規則に変化させ、不規則なピッチP1を有するカッターマーク23aを形成し、規則的なカッターマークが形成されることに起因する垂直面22の虹面の発生および光学機能面21への映り込みを防止し、フレネルレンズの光学性能を向上させる。 (もっと読む)


【課題】露光装置にセットしたときの透光性基板の平坦度をシミュレーションにより高精度に算出してマスクブランク用基板を製造する。
【解決手段】シミュレーション工程S3において、主表面形状の情報とマスクステージの形状情報とに基づき、捩じれ変形を考慮した撓み微分方程式を用いて、透光性基板を露光装置にセットしたときの複数の測定点の高さ情報をシミュレーションして得て、このシミュレーションして得た高さ情報に基づき、平坦度算出工程S4にいて透光性基板を露光装置にセットしたときの当該透光性基板の平坦度を算出する。この平坦度が仕様に適合するか否かを選定工程S4で判定して、平坦度が仕様に適合する透光性基板をマスクブランク用基板として用いる。 (もっと読む)


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