【課題】切断による樹脂の剥離や歪みを発生させずに、光学素子を作製することが可能な光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基材１と金型５０との間に光硬化性の樹脂６０を設けて、基材１と金型５０とによって樹脂６０を挟むことで、金型５０の転写構造５１を樹脂６０に転写する。転写構造５１の形状が転写された樹脂６０に対して光を部分的に照射することで、樹脂６０を部分的に硬化させる。光が照射されていない箇所で基材１を切断することで、複数の光学素子を作製する。 （もっと読む）

【課題】マスクブランク用ガラス基板に対し、発塵の原因となりにくいマーカを適切に形成する。
【解決手段】マスクブランクの製造に用いられるマスクブランク用ガラス基板であって、マスクブランク用ガラス基板の転写パターンを作製する際に影響のない領域の面に、マスクブランク用ガラス基板を識別又は管理するための情報を複数の凹部２０で表現したマーカ１８が形成されており、マーカ１８を構成する２０凹部は、その縁部が略円形の丸孔であり、隣接する凹部２０同士の縁部間の距離Ｌ１が、５０μｍ以上である。マーカ１８は、例えばマスクブランク用ガラス基板の端面に形成される。 （もっと読む）

【課題】光透過率が高く、フレアやゴーストの発生を抑制する、光学ガラス部材に適したマークの形成方法を提供する。
【解決手段】光学ガラス部材１のマーク形成方法であって、光学ガラス部材１を用意することと、可燃物質２２を含む燃焼層２を前記光学ガラス部材１の表面に形成することと、前記燃焼層２の所定の領域にレーザ光１１を照射することにより、前記光学ガラス部材１の表面を変形させて凸部とし、前記凸部を含むマーク３を形成することを含む。形成されたマーク３は、光学ガラス部材１の光学特性に影響を与えにくい。 （もっと読む）

マイクロリソグラフィ用の投影露光ツール（１００）で使用するための配置構成は、反射光学素子（１０；１１０）と放射検出器（３０；３２；１３０）を備える。反射光学素子（１０；１１０）は、光学素子（１０；１１０）の機械的強度を保証するキャリア要素（１２）と、キャリア要素（１２）上に配設された、使用放射（２０ａ）を反射するための反射コーティング（１８）とを備える。キャリア要素（１２）は、使用放射（２０ａ）と相互作用して二次放射（２４）を放出する材料からなり、二次放射（２４）の波長は、使用放射（２０ａ）の波長とは異なり、放射検出器（３０；３２；１３０）は、二次放射（２４）を検出するように構成される。 （もっと読む）

【課題】近接場光エッチングを実行しつつ、リアルタイムで表面粗さを計測する。
【解決手段】原料ガス雰囲気中に光学素子２を配置し、原料ガスのガス分子の吸収端波長よりも長波長からなる光を光学素子２に照射することにより、当該光学素子２表面に形成された凹凸における少なくとも角部に発生させた近接場光に基づいて上記原料ガスを解離させて上記角部をエッチングし、更にエッチング中に光学素子２表面に対して表面粗さ計測用のレーザ光を照射し、そのレーザ光が光学素子２表面で散乱された散乱光の強度を測定し、測定した散乱光強度に基づいて角部へのエッチングによる表面粗さを計測する。 （もっと読む）

【解決手段】フォトマスクの保持部が位置する正方形形状の基板の表面の周縁をなす辺のうち対向する２辺の各々の辺から内側２ｍｍと１０ｍｍの間で、かつ各々の辺の長さ方向両端から２ｍｍの部分を除いた範囲に位置する二つの帯状領域において、任意の共通基準平面から各帯状領域内の各座標への距離に基づき算出される二つの最小自乗平面の法線同士がなす角度が１０秒以下であり、二つの帯状領域の高さが０．５μｍ以下であることを特徴とするフォトマスク用ガラス基板。
【効果】ＩＣ等の製造の際に重要な光リソグラフィ法で使用されるシリカガラス系等のフォトマスク用ガラス基板において、フォトマスク露光時のマスクステージにフォトマスクを真空チャック等により固定したときのフォトマスクの全体の表面形状変化が抑制されたガラス基板を、従来の検査工程と同様の工程で生産性よく提供することができる。 （もっと読む）

【課題】精密プレス成形法によって高品質なガラス光学素子を得ることが可能なプレス成形用ガラス素材を提供すること。
【解決手段】光学ガラスからなる芯部と、少なくとも前記芯部の光学機能面となる部位を覆う厚み１５ｎｍ未満の珪素酸化物膜とを有し、かつ、三液法によって測定される表面自由エネルギーが７５ｍＪ／ｍ^２以下であるプレス成形用ガラス素材。光学ガラスからなる芯部と、少なくとも芯部の光学機能面となる部位を覆う厚み１５ｎｍ未満の珪素酸化物膜とを有するプレス成形用ガラス素材の製造方法。ＳｉＯ_２からなる成膜材料を用いて、不活性ガスと酸素との混合ガス雰囲気であって、酸素含有率が５体積％以上２０体積％未満の範囲である雰囲気下で成膜処理を行うことにより前記珪素酸化物膜を前記芯部の前記部位上に形成する。 （もっと読む）

【課題】低反射性を確保しながら、反射防止膜のレーザー耐性を向上させる。
【解決手段】光ファイバー等、ＳｉＯ_２を主成分とする光学基材２ａ（３２ｂ）の上に形成される３層構造の反射防止膜である。上記光学基材２ａ（３２ｂ）の上に形成される下層４１と、上記下層４１の上に形成される中間層４２と、上記中間層４２の上に形成される上層４３と、を有し、上記中間層４２はＡｌ_２Ｏ_３を用いて形成されている。上記下層４１はＴａ_２Ｏ_５を用いて形成し、上記上層４３はＳｉＯ_２を用いて形成することができる。 （もっと読む）

【課題】失透し難く、かつ結晶化し難い光学ガラスを提供すること。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物基準のモル％表示で、Ｐ_２Ｏ_５を０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３を１５〜６０％、Ｂｉ_２Ｏ_３を１０〜３７％、ＺｎＯを５〜５０％、ＳｉＯ_２を０〜２０％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０％、ＺｒＯ_２を０〜５％、Ｇｄ_２Ｏ_３を０〜１０％、ＴｉＯ_２を０〜１５％、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏを合計で０〜５％、ＭｇＯとＣａＯとＳｒＯとＢａＯを合計で０〜１０％含有し、Ｐ_２Ｏ_５の含有量をＺｎＯの含有量で割った値が０．４８未満であり、Ｐ_２Ｏ_５とＢ_２Ｏ_３の含有量の合量が３０〜６０％であり、Ｐ_２Ｏ_５とＢ_２Ｏ_３の含有量の合量が５０％を超えるときはＰ_２Ｏ_５の含有量は１０％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マークエッジ部分での光の散乱、反射を防ぐことにより、マークの視認性を低下させ、光学ガラス部材の光学特性に影響を与えないマークを形成する。
【解決手段】光学ガラス部材のマーク形成方法であって、ガラスプリフォームを用意することと、ガラス粒子を含む被膜を前記ガラスプリフォームの表面に形成することと、被膜の所定の領域にレーザ光を照射することで、ガラス粒子をガラスプリフォームの表面に融着させて融着膜を形成することと、融着膜が形成されたガラスプリフォームをプレスすることを含む光学ガラス部材のマーク形成方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】透光性の高いガラス粒子を光学ガラス部材表面に十分に融着させてマークを形成することにより、光学ガラス部材に適切なマークを形成する。
【解決手段】光学ガラス部材のマーク形成方法であって、光学ガラス部材を用意することと、ガラス粒子及び可燃物質を含む被膜を光学ガラス部材の表面に形成することと、被膜の所定の領域にレーザ光を照射することで、ガラス粒子を光学ガラス部材の表面に融着させるとともに、可燃物質を燃焼させて被膜から消失させることを含む光学ガラス部材のマーク形成方法が提供される。 （もっと読む）

公知の方法では、石英ガラス製の基体上に、ＳｉＯ_２スラリーを噴霧することによりＳｉＯ_２含有スラリー層を塗布し、このスラリー層を乾燥させて、焼結させてＳｉＯ_２含有機能層にする。ドーム状の表面又は垂直方向に傾斜している表面の場合でも、層の均一性に関して高い要件を満足する厚い層厚さを有する石英ガラス製の機能層を再現可能に製造するために、本発明の提案によれば、スラリーは、分散液中に、以下の成分を含有する、すなわち、粒度分布のＤ_５０値範囲が、３μｍ〜３０μｍであり、全固体含量に対する重量割合が少なくとも１０重量％である破砕状非晶質ＳｉＯ_２粒と、粒径分布のＤ_５０値範囲が、１μｍ〜５０μｍであり、全固体含量に対する重量割合が少なくとも３０重量％である球状非晶質ＳｉＯ_２粒子と、粒径１００ｎｍ未満で、全固体含量に対する重量割合の範囲が０．２重量％〜１０重量％であるＳｉＯ_２ナノ粒子と、分散液の体積に対する割合の範囲が０．００５％〜０．５％の非イオン性で無アルカリの界面活性剤とを含有する。 （もっと読む）

強度の高い光源により光学部品に生じる損傷を防止する１つの方法は、光学部品を所定の時間アニーリングすることを含む。他の方法は、フッ化物イオン及び二フッ化水素イオンを含むエッチング液中で光学部品をエッチングすることを含む。該方法はまた、プロセスの間にエッチング溶液を超音波で攪拌すること、次いで光学部品をすすぎ浴ですすぐことを含む。 （もっと読む）

ガラス基質を含む発光ガラスを提供する。前記ガラス基質は、ガラス部と、該ガラス部に埋め込まれたガラス及び蛍光粉の複合部とを含む。前記ガラス及び蛍光粉の複合部は、ガラス材と、該ガラス材中に分散された蛍光粉とを含む。前記蛍光粉は、シリケート系蛍光粉である。また、本発明は、前記発光ガラスの製造方法、及び前記発光ガラスを有する発光装置を提供する。該発光ガラス及び発光装置は、その発光の確実性が良好で、発光の安定性が高く、且つ使用寿命が長い。また、該製造方法は、比較的低い温度で行うことができる。
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【解決手段】下記式（１）


（Ｒ^a、Ｒ^bは−ＡＲ¹又は−ＯＳｉＲ²Ｒ³Ｒ⁴であり、それぞれ異なる。Ｒ¹〜Ｒ⁶は１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。Ａは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−又は２価有機基であり、エーテル基、カルボニル基、エステル基、スルフィド基又はジスルフィド基を含んでもよい。Ｂは２価有機基であり、炭素原子の１個以上がＯ及び／又はＳで置き換えられていてもよい。ｎは０〜２の整数である。）
で示される保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物。
【効果】本発明の保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物は、精製、保存中も安定に存在し、加水分解時は脱保護されることで加水分解も容易に行われる。また、これを用いて無機材料等の表面処理を行うことで、親水性を付与したり、表面の撥水性、撥油性、転落角や転落速度等、表面滑り性の制御をすることができる。 （もっと読む）

【課題】従来の光学素子では、外周部の厚さを薄くすると亀裂や割れが発生していた。
【解決手段】光学素子１Ａは、光軸Ａと交差し、互いに反対方向を向く第１凸面３および第２凸面４を有する光学機能部２と、光学機能部２の周囲に設けられた、第１凸面２の周縁から広がる第１外周面６および第２凸面４の周縁から広がる第２外周面７を有する外周部５と、を備えている。第１外周面６および第２外周面７は、テーパ状に形成されており、外周部５の光軸方向の厚さは、光軸Ａから離れる方向に向かって薄くなっている。 （もっと読む）

【課題】平板部と枠部とで囲まれた凹部をウェットエッチングで形成する際、アンダーカットの発生を小さくすることで、段差部のエッチングダレに起因する光ノイズを可及的に小さくし、これにより小型実装が可能な光学用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】平板部とその下面縁部に一体的に構成された枠部とを備え、前記平板部と前記枠部とで囲まれた凹部をウェットエッチングで形成する、光学用カバーガラスの製造方法であって、前記ウェットエッチングは、前記凹部を形成する箇所以外にレジストを形成するレジスト形成工程と、エッチング液を接触させることにより非レジスト部をエッチングするエッチング工程とからなる化学研磨処理を複数回繰り返すものであり、少なくとも最後の化学研磨処理後に前記レジスト形成工程にて形成されたレジストを除去するレジスト除去工程を行うことを特徴とする光学用カバーガラスの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】光学素子製造方法において、ガラス製の光学素子の水また水系洗浄液を用いた洗浄による光学面の欠陥の発生を抑制することができるようにする。
【解決手段】ガラス製の被加工体を研磨加工して光学面の面形状を形成する面形状形成工程Ｓ２と、面形状形成工程Ｓ２後、被加工体を加熱処理する加熱工程Ｓ３と、加熱工程Ｓ３後、水または水系洗浄液によって被加工体を洗浄する水系洗浄工程Ｓ４と、水系洗浄工程Ｓ４後、被加工体に光学薄膜を成膜する成膜工程Ｓ５とを備える。 （もっと読む）

【課題】機械加工によるガラスレンズ製造方法において、亀裂（カン）、ワレ、および欠けなどの欠陥を低減することができるようにする。
【解決手段】ガラス製の被加工体に研磨加工を施すことによりレンズ面の面形状を形成する研磨工程Ｓ５、Ｓ１０を有するガラスレンズ製造方法であって、研磨工程Ｓ５（Ｓ１０）を行う前に、研磨工程Ｓ５（Ｓ１０）よりも相対的に粗い加工を施して被加工体を段階的に加工し、且つ研磨工程Ｓ５（Ｓ１０）のための被研磨面を形成する複数の先行加工工程からなる先行加工工程群を１群以上行う加工工程と、被加工体をそのガラス転移点の０．７倍以上、１倍以下の温度で加熱処理する加熱工程Ｓ３、Ｓ８とを備え、加熱工程Ｓ３、Ｓ８は、前記加工工程で最後に行われる先行加工工程である研削工程Ｓ９よりも前に行われる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、膜厚分布が悪化することを抑制し、均一な膜厚の炭素膜を有するプレス成形用ガラス素材を製造するものであって、かつ比較的厚い膜厚を短時間で成膜することができるプレス成形用ガラス素材の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】熱処理炉４を外周に設置したチューブ３内に、ガラス素材を収容し、減圧下、炭化水素供給手段６から炭化水素ガスを、酸素供給手段７から酸素ガスを供給し、供給した炭化水素を熱分解させて、ガラス素材表面に炭素膜を形成するプレス成形用ガラス素材の製造方法及びそれに用いる製造装置１。 （もっと読む）