本発明は基板の少なくとも一面の少なくとも一部に二酸化チタンに基づく光触媒被覆物を有する基板であって、基板の被覆面が基板の非被覆面よりも低い光の反射率を有することを特徴とする透明または半透明の基板に関する。また、本発明はこうした基板を得る方法、この基板の用途に関する。 （もっと読む）

本発明は、機械的な耐性のある長持ちするコーティングを備え、且つ使用者が取り扱うのに適した基材に関する。この基材は、コーティングが、価電子帯の上位準位と伝導帯の下位準位との間に可視範囲における波長に相当するバンドギャップを有する第２化合物と均質に組み合わされた第１の光触媒性化合物を含むことを特徴とする。本発明はまた、該基材を含むガラス、本発明の基材の利用、及びその製造方法にも関する。 （もっと読む）

本発明は二酸化チタン（ＴｉＯ_２）をベースとし、そしてＵＶ範囲、特に長波長ＵＶＡ範囲の光子を吸収可能である光触媒特性及び汚れ防止特性を有する層の改質に関係し、可視スペクトルの光子も吸収する特性を提供するために、前記ＴｉＯ_２系の層は基材に直接的に適用されるかまたは少なくとも一の機能副層の挿入を伴って適用される。本発明は、望ましい可視光の光子吸収特性を得るために、ＴｉＯ_２系の層は窒素又は少なくとも一の還元ガスと窒素を含む雰囲気中で十分な時間熱処理にさらされることを特徴としており、前記基材及び必要であれば前記副層はこの熱処理に耐える能力のために選択されている。 （もっと読む）

本発明は、焼戻し可能な基材、特にガラス板のコーティングに関する。このコーティングは例えば、基材の上に直接、Ｓｉ_３Ｎ_４層を、その上にＣｒＮ層を、その上にＴｉＯ_２層を、最後にＳｉ_３Ｎ_４層を含む。
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【課題】酸化アルミニウム被膜をCVD法によりガラス基板上に形成する過程において、被膜形成を高速かつ均一に行うことができる製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム前駆体とカルボン酸エステルを含む流体混合物を高温の基板の表面上に接触させることにより、酸化アルミニウム被膜を基板に蒸着する。 （もっと読む）

フラットパネルディスプレイ（ＬＤＣ、ＥＬＤ、プラズマディスプレイ、ＬＥＤ、ＯＬＥＤ）、タッチパネル、光学フィルター、太陽電池および他の用途における透明な電極を製造するのに適した２層型透明導体スキームが提示される。上層は典型的にインジウム・スズ酸化物からなり、より薄い下層はＡｌ_２Ｏ_３でドープされた酸化亜鉛（ＡＺＯ）、または酸化ガリウムでドープされたＺｎＯ（ＧＺＯ）、またはＡｌ_２Ｏ_３およびＧａ_２Ｏ_３の両方でドープされたＺｎＯ（ＡＧＺＯ）からなる。下層は上層よりも顕著に高い湿式化学エッチング速度を有し、これにより上部のＩＴＯ層のより迅速でより均一なエッチングを可能にし、そうしてＩＴＯ「アイランド」の形成を防止する。 （もっと読む）

本発明は、光源と、少なくともこの光源が発する放射線の一部分が通過するのを可能にする壁であって、その２つの面のうちの少なくとも一方の一部を光触媒活性層により覆われた壁とを含む、自己クリーニング照明装置に関する。本発明は、一番弱い照明条件下で、当該層の光触媒活性が、有機の汚れを分解して当該層に付着しない容易に除去できる粒子にするのに、及び／又はこの層に親水性を付与するのに、十分高いことを特徴とする。本発明はまた、上述の装置を製造する方法、この装置に提供される半透明の壁、そして当該装置をトンネルの照明、公共の照明、空港滑走路の照明、屋内の照明のために、あるいは輸送用車両のヘッドランプ又は指示灯用に利用することにも関する。 （もっと読む）

有機、または無機ガラスからなる透明基質を含み、主要前面、および裏面を有し、少なくともひとつの前記主要面が多層抗反射コーティングを有し、前記抗反射コーティングが不足当量酸化チタンを含む少なくとも二つの可視光吸収層を有し、その可視光吸収層において可視光吸収層を含まない同様のもの（光学体）と比較して可視光の相対透過特性Ｔｖが１０％以上減少している光学体に関する発明。 （もっと読む）

例えばガラスまたは石英製の透明な機械的支持体（１０）と、単結晶半導体材料の膜または薄層（１４）と、当該薄層または半導体膜と当該支持体との間に位置する反射防止中間層（１２）とを有する複合基板。当該反射防止中間層の組成は、屈折率が変化するように、当該支持体（１０）と当該半導体膜（１４）との間において変化する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも一部がアナターゼ型結晶になっている二酸化チタン（ＴｉＯ_２）基の光触媒性および汚れ防止性を持つ層を少なくとも一部に備えた基材を含む構造体に関する。この構造体は、少なくとも１層のＴｉＯ_２層の直下に下地層を有し、この下地層はＴｉＯ_２基上層がヘテロエピタキシャル成長によりアナターゼ型に結晶化するのを促進し、上記光触媒性が熱処理なしに獲得されていることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、光触媒性および汚れ防止性を持ち二酸化チタン（ＴｉＯ_２）を主体とする層を少なくとも一部に備えた基材を含む構造体に関する。この構造体の特徴は、光触媒層にシリコンおよび酸素を含有する無孔質の薄層が被覆されており、該薄層がＴｉＯ_２の光触媒活性を維持しつつ化学的および機械的に光触媒層を保護することである。 （もっと読む）

【課題】熱処理に耐える耐傷性皮膜された物品を製作する。
【解決手段】ある実施態様の例では、皮膜された物品は熱処理（ＨＴ）の前にダイヤモンドと同様な炭素（ＤＬＣ）および窒化ジルコニウムを含むそれぞれの層を備えている。ＨＴの間に水素と化合したＤＬＣは、酸素との燃焼により二酸化炭素および／または水を生成する燃料として動作する。この燃焼の間に進展する高い温度は、窒化ジルコニウムを熱処理の温度より十分に高い温度に加熱し、これによって窒化ジルコニウムは耐傷性および耐久性の酸化ジルコニウムを含む新しいＨＴの後の層に変化する。 （もっと読む）

本発明は、積層が、連続的に、１．８〜２．３の間の範囲にある屈折率ｎ₁および５〜５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₁を有する第１層（１）、１．３５〜１．６５の間の範囲にある屈折率ｎ₂および５〜５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₂を有する第２層（２）、１．８〜２．３の間の範囲にある屈折率ｎ₃および４０〜１５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₃を有する第３層（３）、１．３５〜１．６５の間の範囲にある屈折率ｎ₄および４０〜１５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₄を有する第４層（４）を含むことを特徴とする、薄層の積層（Ａ）からなる、特に垂直入射で少なくともその表面の少なくとも一つの上に反射防止膜を含む透明基板（６）に関する。
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本発明は、（Ａ）屈折率が２．０以上である被膜、（Ｂ）屈折率が１．８以下である無色被膜、および（Ｃ）屈折率の高い非吸収性被膜、ならびに要すれば（Ｄ）外部保護層を含む少なくとも１つの層配列を有する複被覆小板状基材に基づく干渉顔料に関する。 （もっと読む）