【課題】ゲッタリングのための構造として、電極としても用いることができ、かつ遮光を実現する構造としての、半導体素子の支持体及び半導体素子の支持体の駆動方法を提供する。
【解決手段】半導体素子の支持体１００上に形成されているＭＯＳトランジスタ３０２や、保持容量３０３等の半導体素子に印加されている最低電位を０Ｖとしたとき、半導体素子の支持体１００の構成要素であるタングステン膜１０３には、−３Ｖの電位を与えて駆動する。タングステン膜１０３に半導体素子の最低電位０Ｖよりも低い電圧が与えられているため、珪酸ガラス基体１０１や酸化珪素膜１０２、１０４に存在している正の電荷を有する可動性のあるナトリウムイオン等のアルカリ金属は、低い電位に保たれているタングステン膜１０３の方へ移動し、タングステン膜１０３に捕らえられることで固定される。 （もっと読む）

本発明は、ガラス材料で作られた少なくとも１つの基板から形成され、少なくとも１つの反射被膜をその面の少なくとも１つの上に含む、暖炉インサートもしくはストーブ又は相当物のための板に関する。また本発明は、その板の製造方法及びその板を含む機器に関する。 （もっと読む）

【課題】可視領域で透過率が高く、赤外領域で反射率が高い特長を有するヒートミラー性能と、有害物質の分解除去、防汚並びに防曇などの特長を有する光触媒性能を併せ持つ積層膜が被覆され、耐候性があり、窓材等として単板使用可能であり、且つ前記積層膜が被覆されている基材面の反対側から光照射した場合にも光触媒性能を発現する透明基材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ガラスなどからなる透明基材表面上に、誘電体層、金属層、誘電体層の順に所望の膜厚に積層されており、金属層は熱線反射特性を有し、最内層及び最外層の誘電体層は可視領域において反射防止特性を有し、且つ最外層の誘電体層は光触媒性能を有し、更には、最内層の誘電体層は、最外層の誘電体層よりも大きいエネルギーギャップを有することを特徴とする透明基材、及びその製造方法。 （もっと読む）

オキシ炭化ケイ素コーティングは、（ｉ）前記コーティングの屈折率が１．７０あるいはそれ以上であるのみならず、（ｉｉ）前記コーティングの厚さが３５０Åあるいはそれ以上であるときに、約数ヶ月間というかなりの長期間親水性を維持する。
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本発明は、透明基材の表面をコーティングするための層システム、特にガラス窓のための低輻射率（低Ｅ）の層システムであって、金属ターゲット合金から反応性陰極スパッタリングによって作製された混合酸化物の少なくとも１つの層を含む層システムに関する。この混合酸化物層は、ＺｎＯと、ＴｉＯ₂と、酸化物Ａｌ₂Ｏ₃、Ｇａ₂Ｏ₃及びＳｂ₂Ｏ₃のうちの少なくとも１種とを含み、そして上層及び／又は下層反射防止層、反射防止層のうちの部分的な層及び／又は最終仕上げ層として応用される。該層システムは、高い硬度と海洋気候に対する優れた耐性を特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、透明な基板層と、第１金属酸化物層と、第１銀含有層と、第２金属酸化物層と、第２銀含有層と、第３金属酸化物層とを備える赤外線反射積層構造に関する。第１、第２、及び第３金属酸化物層は、５００ｎｍの波長において少なくとも２．４０の屈折率を有する。ガラスに積層された本発明による層状構造は、７０％よりも高い可視光線透過率（ＶＬＴ）と０．４４よりも低い太陽熱利得係数（ＳＨＧＣ）を有する。本発明は、さらに積層構造の透明ヒートミラーとしての使用に関する。
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プレストレスを与えることのできる本発明の低放射率の柔軟な多層系は、仕切りガラス用に使用され、そして銀の機能層と、その下に配置され、Ｔｉから、あるいはＴｉとＺｎ及び／又はＡｌとの合金から製作される犠牲金属層とを備えている。この系はまた、反射防止誘電体層と、窒化され又は酸窒化される酸化被覆層も含む。犠牲金属層は、化学的に結合した水素を含有する。Ａｌ及び／又はＩｎで最終的に刺激されるＺｎＯ層が犠牲金属層に隣接している。被覆層はチタン化合物を含む。硬度が大きくて耐薬品性を示す同様の多層系を、比較的経済的なやり方で製造することができる。この系の色彩パラメータは、高温で熱処理した場合でも容易に再現可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、反射した光に対して透過性の基板と、基板の裏側に設けられた銀層とを有する裏面鏡に関する。
【解決手段】第一中間層が基板と銀層との間の基層として少なくとも部分的に導入され、基層は高温融解酸化物から成るかまたは高温融解酸化物を含み且つ銀より高融点を有し、さらに被覆層が基板から離れて配置された銀層の側に少なくとも部分的に設けられ、被覆層は高温融解金属、ルテニウム、イリジウム、オスミウム、パラジウム、白金、レニウム、及び／またはロジウムから成るかまたはこれらを含む。 （もっと読む）

【課題】 変色に対する優れた抵抗性を有する厚膜導電体組成物の提供。
【解決手段】 厚膜組成物であって：（ａ）導電性金属と、（ｂ）１つまたは複数の無機結合剤と、（ｃ）アンチモン、アンチモン酸化物、焼成の際にアンチモン酸化物を形成することが可能なアンチモン含有化合物と、（ｄ）有機媒体とを含み；（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は（ｄ）に分散されることを特徴とする厚膜組成物。 （もっと読む）

【課題】可視光域で高い反射率を有し、耐湿性や耐塩水性等の耐久性に優れ、かつ入射角依存性が小さい（光の入射角によって反射率が変動しにくい）高反射鏡の提供。
【解決手段】基板上に、銀膜、低屈折率膜、高屈折率膜がこの順で積層された高反射鏡であって、前記銀膜の基板と反対側には密着改善膜が形成され、前記低屈折率膜の消衰係数が０．０１以下であり、前記高屈折率膜の消衰係数が０．０１以下であり、前記密着改善膜が酸化物膜であり、かつ前記密着改善膜の消衰係数が０．１以下であることを特徴とする高反射鏡。 （もっと読む）

【課題】 電気抵抗が低く、かつ、耐凝集性に優れた金属薄膜（Ａｇ系薄膜）および透明導電体、及び、耐硫化性および耐凝集性に優れたＡｇ系反射膜を提供する。
【解決手段】 (1) 第１層としてＡｇ薄膜を有し、その上に第２層として貴金属元素であるＡｕ、Ｐｄ、Ｐｔの１種以上を含有するＡｇ合金膜を有するＡｇ系２層膜であって、前記Ａｇ合金膜の膜厚をＹ（ｎｍ）、前記Ａｇ合金膜での貴金属元素の含有量をＸ（ａｔ％）、前記Ａｇ薄膜の膜厚をＺ（ｎｍ）としたときに、Ｙ≧８／Ｘであると共に、Ｙ＋Ｚ≧５であることを特徴とするＡｇ系２層膜、(2) 透明基体上に透明膜が形成され、その上に前記Ａｇ系２層膜が形成され、その上に透明膜が形成されていることを特徴とする透明導電体、(3) 前記Ａｇ系２層膜でのＸが２５ａｔ％以上、Ｙが８ｎｍ以上であり、且つ、Ａｇ薄膜及びＡｇ合金膜が希土類元素を０．０５〜３．０ａｔ％含有するもの等。 （もっと読む）

被覆は、少なくとも一つの金属層を有する太陽光調節被覆のような機能性被覆を含む。トップコートは、機能性被覆の少なくとも一部分を覆って形成されている。トップコートは、５５０ｎｍの基準波長に関して、０．５ＱＷＯＴ〜１．５ＱＷＯＴの範囲の厚さ及び第一屈折率を有する第一トップコート層、及び５５０ｎｍの基準波長に関して、０．５ＱＷＯＴ〜１．５ＱＷＯＴの範囲の厚さ及び第一屈折率とは異なった第二屈折率を有する第二トップコート層を含む。 （もっと読む）

（ｎ＋１）個のコーティング（２、５）と交互にされた赤外線及び／又は日射を反射する性質を有するｎ個の機能層（３）を含む薄層の積層体（ここではｎ≧１）を備えており、前記コーティングが１以上の層からなる基材（１）であって、機能層（３）のうちの少なくとも１つに、酸化及び／又は窒化の攻撃に対する機能層の保護を増進する材料製であり、且つ当該機能層と直接接触する保護層からなるブロックコーティング（４）と、そしてまた接着を促進する材料製であり、且つ前記保護層と直接接触する少なくとも１つの接着層を施すことにより、前記積層体を備えた基材（１）が急冷、そり曲げ又は徐冷のような熱処理に付される際に、前記積層体の光学的及び／又は機械的品質を保護することを特徴とする基材（１）。 （もっと読む）

少なくとも一つの劣化性被覆層及び少なくとも一つの障壁被覆層を含む被覆構成体が開示されている。この被覆構成体は、熱、及び塩化物のようなハロゲン化物、硫黄、塩、塩素、アルカリ、及びエナメルのような或る化学物質に曝された後、従来の被覆基体よりも改良された性能を有する被覆基体を製造するのに用いることができる。
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基板に少なくとも一つの薄膜を堆積する真空蒸着方法であって、スパッターされる物質に対して化学的に不活性又は活性な少なくとも一つの気体スパッタリング物質種が選択されること、主として前記スパッタリング物質種を含むイオンの集束ビームが、工業規模の設備内部に配置された少なくとも一つの直線イオン源を用いて生成されること、前記ビームがスパッターされる物質をベースとする少なくとも一つのターゲットに向けられること、前記基板の少なくとも一つの表面部分が、ターゲットのイオン打撃によってスパッターされる前記物質、又は前記スパッターされる物質と少なくとも一つのスパッタリング物質種との反応から生ずる物質が前記表面部分に堆積されるような仕方で前記ターゲットに向き合うように配置されることを特徴とする方法。
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基板を連続的に真空洗浄する方法であって、
-汚染の点から、スパッタリング効率が低く、化学的に活性な種を選択すること、
-少なくとも１つのリニアイオンソースを用いて、スパッタリング効率の低い種を主に含むガス混合物、特に酸素をベースとしたもの、からプラズマを発生させること、
-該基板の少なくとも一の表面部を該プラズマの照射対象とし、該イオン種が、該表面部に吸着または付着した汚染を、化学反応により、少なくとも部分的に除去することを特徴とする方法に関する発明である。 （もっと読む）

本発明は、例えばガラスから作製され、複数の機能層を含む薄い層の積層体を備える透明基板に関する。本発明は、（ｉ）前述の薄い層の積層体が、少なくとも３つの銀ベースの機能層を含む、（ｉｉ）この積層体の平方当たり抵抗Ｒ_□＜１．５Ωである、および（ｉｉｉ）この基板が熱制御および／または電磁防護具および／または加熱透明板を提供するために代替的または累加的に使用することが可能であるように、この基板を少なくとも５００℃の温度で熱処理に伴う少なくとも１つの加工操作にかけることができることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、３つの銀層（Ａｇ₁，Ａｇ₂，Ａｇ₃）そして、交互に二酸化チタン層（２１）、金属酸化物層（２２）、銀層（Ａｇ₁，Ａｇ₂，Ａｇ₃）のうちの１層及び被覆層（２３）を含み、これらの層すべてが基板（１０）上に配置されている、薄膜積層体（２０）から成る、例えばガラス製の透明な基板に関する。本発明は、（ｉ）金属酸化物が酸化亜鉛であること、（ｉｉ）被覆層（２３）が犠牲金属であること、（ｉｉｉ）少なくとも１つの金属酸化物を含む反射防止層（２４）が、基板から最も遠い銀層（Ａｇ₃）の被覆層（２３）上に配置されていることを特徴とする。
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本発明は、例えば、銀に基づき、赤外線および/あるいは太陽エネルギー輻射線において反射性を有する一つ以上の機能金属層、機能金属層と接触している一つ以上の金属遮断層、および一つ以上の上部誘電体層を含む薄層の積重ねを備えている透明な基質に関する。本発明は、一つ以上の遮断層がジルコニウムに基づきかつ上部誘電体層が機能層あるいは遮断層と接触している一つ以上のZnOベースの層を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、積層が、連続的に、１．８〜２．３の間の範囲にある屈折率ｎ₁および５〜５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₁を有する第１層（１）、１．３５〜１．６５の間の範囲にある屈折率ｎ₂および５〜５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₂を有する第２層（２）、１．８〜２．３の間の範囲にある屈折率ｎ₃および４０〜１５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₃を有する第３層（３）、１．３５〜１．６５の間の範囲にある屈折率ｎ₄および４０〜１５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₄を有する第４層（４）を含むことを特徴とする、薄層の積層（Ａ）からなる、特に垂直入射で少なくともその表面の少なくとも一つの上に反射防止膜を含む透明基板（６）に関する。
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