【課題】 低温で半導体素子を封入することが可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管を提供する。
【解決手段】 ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２ ４６〜６０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜６％、Ｂ_２Ｏ_３ １３〜３０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ９〜２５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１５％、Ｋ_２Ｏ ０〜７％、ＴｉＯ_２ ０〜８％含有し、Ｌｉ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）がモル比で０．４８〜１．００の範囲にあることを特徴とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
電子材料基板を封着するための低融点ガラスであって、実質的にＰｂＯを含まない無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】質量％でＳｉＯ_２を１〜６、Ｂ_２Ｏ_３を５〜１２、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜５、ＺｎＯを５〜２０、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を０．１〜３、ＣｕＯを０．１〜７、Ｂｉ_２Ｏ_３を６０〜７５含むことを特徴とする無鉛低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料である。該無鉛低融点ガラス組成物は３０〜３００℃における熱膨張係数が（７０〜１００）×１０^−７／℃、軟化点が４００℃以上５００℃以下である特徴も持つ。 （もっと読む）

【課題】 たわみ試験においてクラックの発生が無く機械的信頼性に優れたガラスセラミック配線基板を提供する。
【解決手段】 ガラスセラミックスからなる絶縁層が複数積層された絶縁基体１と、該絶縁基体１の表面に形成された表面配線層２とを具備するガラスセラミック配線基板であって、前記絶縁基体１がセラミックフィラーとしてアルミナ粒子を含有するとともに、少なくともアルミナ（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）およびカルシウム（Ｃａ）を元素として含むガラス相とから構成されており、前記表面配線層１が銀を主成分とし、ロジウム（Ｒｈ）および酸化銅を含有するとともに、前記絶縁基体１の表面にアノーサイト相を主結晶相とするセラミック層７を有し、抗折強度が１９０ＭＰａ以上である。 （もっと読む）

【課題】搬送するガラス物品への異物混入を防止することにより、ガラス物品の品質を維持しつつ、交換回数の低減を可能としたシュートを提供する。
【解決手段】ガラス物品Ｇを搬送するシュート１０であって、３０〜７５０℃の温度範囲における熱膨張係数が−１０×１０^−７〜＋４０×１０^−７／℃であるガラス材料から構成されている。ガラス材料は、β−石英固溶体及びβ−スポジュメン固溶体の少なくとも一方を析出させた結晶化ガラスである。結晶化ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２５０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３１５〜３０％、Ｌｉ_２Ｏ２〜６％を含有する。 （もっと読む）

【課題】ＣＳＰ等の用途に要求される種々の特性を満足し得る無アルカリガラス、特にＳｉと整合する熱膨張係数を有する無アルカリガラスを提供する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、ｍｏｌ％で、ＳｉＯ_２ ５０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ９〜１５％、Ｂ_２Ｏ_３ １１〜２０％、ＣａＯ ８〜１２％を含有し、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ_２Ｏ_３の値が０．８〜１．２であって、密度が２．３７ｇ／ｃｍ^３以下、１０^２．５ｄＰａ・ｓにおける温度が１６００℃以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高温で磁気記録層を形成できる磁気ディスクの製造方法の提供。
【解決手段】温度が５５０℃以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を有する磁気ディスクの製造方法であって、ガラス基板がモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６２〜７４％、Ａｌ_２Ｏ_３を６〜１８％、Ｂ_２Ｏ_３を７〜１５％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯのいずれか１成分以上を合計で８〜２１％含有し、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３の含有量合計が７０％以上、上記７成分の含有量合計が９５％以上であり、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏのいずれか１成分以上を合計で１％未満含有する、もしくはこれら３成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】生産性（特に耐失透性）に優れると共に、フッ酸系薬液に対するエッチングレートが速く、しかも歪点が高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、薄型のディスプレイパネルの製造工程において、スループットを向上させ、更にｐ−Ｓｉ・ＴＦＴの製造工程におけるガラス板の熱収縮を低減する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５８〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １５．５〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１％、ＭｇＯ ０〜５％、ＣａＯ ３．５〜１６％、ＳｒＯ ０．５〜６．５％、ＢａＯ ５〜１５％を含有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が７２５℃より高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた耐熱性および優れたイオン交換能を有し、イオン交換による化学強化処理によって高い強度を付与できるガラス組成物を提供する。
【解決手段】質量％で示して、ＳｉＯ_２ ５３〜６２％、Ａｌ_２Ｏ_３ １１〜１７％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ １０〜１５％、Ｋ_２Ｏ ３〜９％、ＭｇＯ ０〜４％、ＣaＯ ０〜４％、ＳｒＯ ０〜６％、ＢａＯ ０〜５％、ＺｒＯ_２ １〜４％、ＴｉＯ_２ ２〜６％、を含むガラス組成物とする。 （もっと読む）

【課題】回路層上に半導体素子をはんだ材を介して、容易に、かつ、確実に接合することが可能なパワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板、パワーモジュール及びこのパワーモジュール用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層１１の一方の面に、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる回路層１２が配設され、この回路層１２上にはんだ層２を介して半導体素子３が配設されるパワーモジュール用基板１０であって、回路層１２の一方の面には、ＺｎＯ含有の無鉛ガラスを含有するＡｇペーストの焼成体からなるＡｇ焼成層３０が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板として強酸性液を用いる洗浄を行っても表面荒れが起こりにくい基板に用いられるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を６２．５〜６９％、Ａｌ_２Ｏ_３を９〜１５．５％、Ｌｉ_２Ｏを８〜１６％、Ｎａ_２Ｏを０〜８％、Ｋ_２Ｏを０〜７％、ＺｒＯ_２を０〜３．５％含有し、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３が５３．３％以上、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが１７〜２４％、上記６成分の含有量の合計が９７％以上である基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】光反射材料、特に、白色ＬＥＤ用リフレクターとして有用な、可視光全域で高反射率を有し、且つ耐熱性、耐湿性に優れた光反射層を形成できる新規な材料を提供する。
【解決手段】アルミナ、ジルコニア及びマグネシアからなる群から選ばれた少なくとも一種の成分、並びに低融点ガラス粉末を含有することを特徴とする、白色セラミックカラー組成物。 （もっと読む）

【課題】低分散でありながら屈折率が高く、優れたガラス安定性を有し、着色の少ない光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物ガラスであって、カチオン％表示で、Ｓｉ⁴⁺０〜３０％、Ｂ³⁺１０〜５５％、Ｌｉ⁺、Ｎａ⁺およびＫ⁺を合計で５％未満、Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺およびＳｒ²⁺を合計で５％未満、Ｂａ²⁺０〜８％、Ｚｎ²⁺０．１〜１５％、Ｌａ³⁺１０〜５０％、Ｇｄ³⁺０〜２０％、Ｙ³⁺０〜１５％、Ｙｂ³⁺０〜１０％、Ｚｒ⁴⁺０〜２０％、Ｔｉ⁴⁺０．１〜２２％、Ｎｂ⁵⁺０〜２０％、Ｔａ⁵⁺０〜８％、Ｗ⁶⁺０〜５％、Ｇｅ⁴⁺０〜８％、Ｂｉ³⁺０〜１０％、Ａｌ³⁺０〜１０％、Ｂ³⁺の含有量に対するＳｉ⁴⁺の含有量のカチオン比Ｓｉ⁴⁺／Ｂ³⁺が１．０未満、酸化物に換算してＮｂ₂Ｏ₅とＴａ₂Ｏ₅の合計含有量が１４質量％未満、屈折率ｎｄが１．９６６〜２．２、アッベ数νｄが２５〜４５であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】 乳濁剤を用いずに素地を良好に隠蔽することができ、また汚れが付着しにくい釉薬層を有する便器、洗面器などの衛生陶器の提供。
【解決手段】 衛生陶器素地上に形成された１層からなる釉薬層を、唯一の釉薬層として有する衛生陶器であって、前記釉薬層が、主として、非晶質の分相ガラスからなり、前記釉薬層表面の表面粗さＲａが、０．０７μｍ以下であることを特徴とする衛生陶器とする。これにより衛生陶器素地を良好に隠蔽でき、好ましい態様にあっては良好な白色を衛生陶器に付与できる。 （もっと読む）

【課題】使用環境の温度変化による結像特性影響を受けにくい、屈折率（ｎｄ）が１．７５以上、かつ、アッベ数（νｄ）が３５以上である、高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３を必須成分として含有させ、かつ構成成分の比率を調整することにより、−３０〜＋７０℃の平均線膨張係数αと波長５４６．１ｎｍにおける光弾性定数βの乗算α×βが１３０×１０^−１２℃×ｎｍ×ｃｍ^−１×Ｐａ^−１以下を実現する光学ガラスを得る。 （もっと読む）

【課題】成形時のガラスの耐失透性を維持した上で、イオン交換性能が高く機械的強度が向上した強化ガラスを提供する。
【解決手段】圧縮応力層を有する強化ガラスにおいて、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３５〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ８〜３０％、Ｎａ_２Ｏ８〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１０％含有し、β−ＯＨ値が０．０１〜０．５／ｍｍであることを特徴とする。ガラス中のβ−ＯＨ値を制御するために、使用する原料の含水量を選択する等の処理を行う。 （もっと読む）

【課題】無鉛であることに加え、軟化点が低く、色堅牢性が高いガラスから構成されるカラーマーキングを付したガラスアンプルを提供すること。
【解決手段】頭部の、カットキズ近傍にカラーマーキングを付したガラスアンプルであって、カラーマーキングは、Ａｌ₂Ｏ₃を０．５〜３０重量％、ＺｎＯを３〜２５重量％、ＳｉＯ₂を２０〜４０重量％、Ｂ₂Ｏ₃を３〜１５重量％、Ｎａ₂Ｏを１〜５重量％、Ｌｉ₂Ｏを０．５〜５重量％、ＢａＯを３〜１０重量％、Ｂｉ₂Ｏ₃を１０〜２５重量％、Ｃｏ₂Ｏ₃を３〜２３重量％、ＴｉＯ₂を０．１〜５重量％、Ｋ₂Ｏを０〜３重量％、ＣａＯを０〜３重量％、ＺｒＯ₂を０〜３重量％で、Ｃｒ₂Ｏ₃を０〜３重量％、Ｆｅ₂Ｏ₃を０〜３重量％、ＭｎＯを０〜３重量％、Ｌａ₂Ｏ₃を０〜３重量％、ＳｒＯを０〜３重量％、ＳｎＯ₂を０〜３重量％、ＭｇＯを０〜３重量％の割合で含有する無鉛ガラス組成物を含むことを特徴とするカラーマーキング付きアンプル。 （もっと読む）

【課題】本発明は、特に加熱体をカバーすることを目的とする、ケイ素、アルミニウム、リチウムの酸化物ベースのガラスセラミックプレートに関する。
【解決手段】本発明に従うと、前記プレートは少なくとも５０％のくもりを呈する。本発明は同様に、このようなプレートの製造方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】Ｐｂ、Ｇｅ、Ｇａ等の酸化物、もしくはフッ素などのハロゲン成分を含まずとも、または、Ｓｎ、Ｃｕの酸化物を多量に含まずとも、耐水性に優れ、封着時またはその後の熱処理においても結晶化しにくく、低い封着温度および所望の熱膨張係数を実現でき、可視光の透過率が高い封止用ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準のモル％表示で、３％〜７０％のＢ_２Ｏ_３、４％〜４５％のＺｎＯ、０％〜３０％のＲ_２Ｏ（但し、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓから選ばれる一種以上）の各成分を含有し、酸化物基準のモル％で表されたＲ_２Ｏ／Ｂ_２Ｏ_３の比の値が０．０１以上１以下であり、ＺｎＯとＲ_２Ｏ成分の合計量が１０％以上７０％以下であることを特徴とするガラス。 （もっと読む）

【課題】
活性マトリクス液晶ディスプレイ（ＡＭＬＣＤ）などのフラットパネル・ディスプレイ装置における基板としての用途に望ましい物理的および化学的性質を示す、アルカリを含まないホウアルミノケイ酸ガラス。
【解決手段】
本明細書には、歪み点を有し、それによって良好な寸法安定性を有する無アルカリガラスおよびその製造方法が記載される。歪み点が高いガラスは、熱処理およびそれに続くガラス製造の間の圧縮／収縮に起因するパネルの歪みを妨げることができる。 （もっと読む）

【課題】 プラスチックパッケージに適合する熱膨張係数を有し、また画像検査で異物や塵等の有無を正確に検知することができ、またα線放出量が常に少ない半導体パッケージ用カバーガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 質量％で、ＳｉＯ_２ 〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １．１〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ ０．１〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１１％、アルカリ土類金属酸化物 ０〜２０％含有し、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数が９０〜１８０×１０^−７／℃、ヤング率が６８ＧＰa以上、ガラスからのα線放出量が、０．０５ｃ／ｃｍ^２・ｈｒ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）