【課題】ガラス板主表面が所望の強度を備え、かつカッターホイールを用いた切断方法など、機械的手法による切断が可能な化学強化ガラス板を提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６０％以上、Ａｌ_２Ｏ_３を３％以上含有し、イオン交換によって主表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス板であって、厚さが０．４〜２．０ｍｍ、前記圧縮応力層の最表面の圧縮応力σ_Ｃが４００ＭＰａ〜１ＧＰａ、前記圧縮応力層の深さＤ_Ｃが１５〜３０μｍであることを特徴とする化学強化ガラス板。 （もっと読む）

【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ、可視光線のより幅広い波長に対して透過率が高く着色の少ない光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を１０．０〜６０．０％、及びＴａ_２Ｏ_５成分を０％より多く含有し、分光透過率が７０％を示す波長（λ_７０）が５００ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を１０．０〜６０．０％、及びＴａ_２Ｏ_５成分を０％より多く含有し、ソラリゼーション（波長４５０ｎｍにおける分光透過率の劣化量）が５．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １２〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜３％を含有し、質量比Ｋ_２Ｏ／Ｎａ_２Ｏが０〜０．２であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高屈折率であるとともに優れた製造適性を有する光学ガラスを提供すること。
【解決手段】カチオン％表示で、Ｓｉ⁴⁺を０〜３０％、Ｂ³⁺を１５〜６０％、Ｌｉ⁺を０〜１０％、Ｎａ⁺を０〜１０％、Ｋ⁺を０〜１５％、Ｍｇ²⁺を０〜２０％、Ｃａ²⁺を０〜１５％、Ｓｒ²⁺を０〜２０％、Ｂａ²⁺を０〜２０％、Ｚｎ²⁺を１３〜４０％、Ｌａ³⁺を０〜１１％、Ｇｄ³⁺を０〜１０％、Ｙ³⁺を０〜６％、Ｙｂ³⁺を０〜６％、Ｚｒ⁴⁺を０〜５％、Ｔｉ⁴⁺を０〜１０％、Ｎｂ⁵⁺を２〜２０％、Ｔａ⁵⁺を０〜５％、Ｗ⁶⁺を０〜１０％、Ｔｅ⁴⁺を０〜５％、Ｇｅ⁴⁺を０〜５％、Ｂｉ³⁺を０〜５％、Ａｌ³⁺を０〜５％を含む、Ｐｂを含有しない酸化物ガラスであり、屈折率ｎｄが１．７５０〜１．８５０、アッベ数νdが２９．０〜４０．０、かつガラス転移温度が６３０℃未満であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】Tgが550℃以上となる高温硝材からなる光学素子の外観不良を防止し、光学性能の高いモールドプレスレンズの製造方法を提供する。
【解決手段】転移点が550℃以上である光学ガラス（第一のガラス）からなる芯部と、前記芯部の表面を被覆する第二のガラスからなる被覆部とを有するガラス素材をレンズ形状にプレス成形して得られたプレス成形品をアニールし、次いで、プレス成形品の表面にある被覆層を除去してガラス光学素子を得ることを含む、ガラス光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】相対屈折率の温度係数（ｄｎ／ｄＴ）が高く、結像特性等の影響を補正できる性質を有し、アッベ数（ν_ｄ）が低く、可視光に対する透過率が高く、且つガラス環境への悪影響のない光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成の全質量に対する質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を５５．０〜９５．０％及びＢ_２Ｏ_３成分を４．０〜３５．０％含有し、相対屈折率（５４６．０７ｎｍ）の温度係数（２０〜４０℃）が３．０×１０^−６（℃^−１）以上である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平坦性に優れた板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向し、かつ、略同じ温度の一対の型の面で塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、板状ガラス素材を加工する加工工程と、を有し、落下工程において、塊は落下軸を中心に回転しながら落下することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高屈折率及び高分散の特性を得ながらも、モールドプレス成形時における金型の消耗を低減し、且つ表面の曲面が滑らかで均一な光学素子を得ることが可能な光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成の全質量に対する質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を５０．０〜８０．０％及びＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％含有し、屈折率（ｎｄ）が１．９０以上であり、液相温度における粘性が０．２５Ｐａ・ｓ以上である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】 Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３を含まないにも関わらず、電気リボイルによる泡不良を抑制することが可能なＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 白金又は白金合金製装置を含む溶融設備を使用するとともに、電気による加熱を用いてＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶性ガラスを溶融、成形した後、結晶化させるＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスの製造方法であって、粘度ｌｏｇηが４．０のときのガラス融液の電気抵抗が４．４Ω・ｃｍ以上、液相粘度がｌｏｇηで４．３５以上、且つＡｓ_２Ｏ_３及びＳｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しない結晶性ガラスとなるように調製したバッチを使用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置などのフラットパネルディスプレイに用いるガラス基板に好適であるとともに、高い熱安定性を保つとともにＢａＯを実質的に含まないながらも失透温度が低く、ダウンドロー法によりガラス基板の製造に適したガラス組成物を提供する。
【解決手段】質量％で表示して、ＳｉＯ₂ ５４〜６２％、Ｂ₂Ｏ₃ ４〜１１％、Ａｌ₂Ｏ₃１５〜２０％、ＭｇＯ ２〜５％、ＣａＯ ０〜７％、ＳｒＯ ０〜１３．５％、Ｋ₂Ｏ ０〜１％、ＳｎＯ₂ ０〜１％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０〜０．２％を含み、ＢａＯを実質的に含まず、アルカリ土類金属酸化物の含有率の合計（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）が１０〜１８．５質量％であり、失透温度が１２００℃以下であるガラス組成物とする。 （もっと読む）

【課題】シートガラスの表面の洗浄度を向上することができる洗浄ブラシ体およびシートガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】シートガラスの搬送中に、一方向に並んだ複数の洗浄ブラシを回転させることにより、前記シートガラスを洗浄する。前記洗浄ブラシのそれぞれは、放射状に延びる複数の羽根ブラシ部を備える。前記複数の洗浄ブラシのそれぞれの前記羽根ブラシ部のそれぞれは、接触しないように、同期して回転する。前記羽根ブラシ部の少なくとも１つの回転方向前方のエッジには、ガラス面に対して摺動して洗浄する前方摺動体要素が前記エッジに沿って連続して延在するように形成される。さらに、前記羽根ブラシ部の少なくとも１つの回転方向後方のエッジから、前記洗浄ブラシ体の放射方向内側に傾斜した方向に連続して延在するように後方摺動体要素が形成される。これにより、前記洗浄ブラシ体の回転中、前記シートガラスの表面上に洗浄液の流れが形成される。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら、アッベ数（ν_ｄ）及び部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を２０．０％以上６０．０％以下、ＣａＯ成分を２０．０％より多く５０．０％以下含有し、ＢａＯ成分及びＫ_２Ｏ成分を合計で０％より多く２０．０％以下含有し、Ｎｂ_２Ｏ_５成分の含有量が３０．０％以下であり、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（νｄ）との間で、νｄ≦３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２７５×νｄ＋０．６８１２５）の関係を満たし、νｄ＞３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００１６２×νｄ＋０．６４６２２）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】ケイ酸塩ガラス中のシードの濃度を低減するための清澄剤を提供する。
【解決手段】本清澄剤は、水源として作用する、水和物または水酸化物など、少なくとも１種類の無機化合物を含む。１つの実施の形態では、清澄剤は、さらに、少なくとも１種類の多価金属酸化物、および、随意的に酸化剤を含む。約１シード／ｃｍ³未満のシード濃度を有する、溶融形成かつイオン交換可能なケイ酸塩ガラスも提供する。ケイ酸塩ガラスのシード濃度を低減する方法、および約１シード／ｃｍ³未満のシード濃度を有するケイ酸塩ガラスを製造する方法についても記載する。 （もっと読む）

【課題】表面の平坦度が高く、板厚が均一で、且つ表面粗さが良好な磁気ディスク用ガラスブランクを提供する。
【解決手段】一対の主表面と端面を有し、磁気ディスク用ガラス基板となる磁気ディスク用ガラスブランクであって、主表面の平坦度が４μｍ以下であり、厚さのばらつきが６μｍ以内であることを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクが提供される。 （もっと読む）

【課題】 耐失透性の優れた高屈折率低分散光学ガラスおよび該光学ガラスからなるガラス成形体と光学素子を提供する
【解決手段】 質量％表示で、Ｂ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２を合計量で１２〜３０％、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＷＯ_３を合計量で５５〜８０％、ＺｒＯ_２を２〜１０％、Ｎｂ_２Ｏ_５を０〜１５％、ＺｎＯを０〜１５％、Ｔａ_２Ｏ_５を０％以上１３％未満含み、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＷＯ_３の合計含有量に対するＴａ_２Ｏ_５含有量の比が０．２３以下、Ｂ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２の合計含有量に対するＬａ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３およびＹｂ_２Ｏ_３の合計含有量の比が２〜４であり、かつ屈折率ｎｄが１．８６以上で、アッベ数νｄが３８以上である光学ガラス、および該光学ガラスからなる棒状のガラス成形体と光学素子である。 （もっと読む）

【課題】板厚のばらつきが小さい板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で前記塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、前記プレス工程時における前記塊の全体における位置による粘度差を低減すべく、前記プレス工程前に、前記塊の温度を調整する温度調整工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】フツリン酸塩ガラスからなる光学ガラスを作製したり、得られたガラスを熔融状態でパイプから流出してガラス成形体に成形する場合に、ガラス成分の揮発を抑制し、ガラス組成の変動に伴う品質のばらつきを抑制し得る低分散の光学ガラスを提供する
【解決手段】アッベ数（ν_d）が７０を超え、Ｐ⁵⁺の含有量に対するＯ^2-の含有量のモル比Ｏ^2-／Ｐ⁵⁺が３．５以上であるフツリン酸塩ガラスからなる光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】 ガラス転移点Ｔｇが低く、しかも清澄性が良好であり、かつ化学耐久性に優れた低屈折率低分散（具体的には屈折率ｎｄが１．４８〜１．５４、アッベ数νｄが５９〜６７）の光学ガラスを提供する。
【解決手段】 質量％で、ＳｉＯ_２ ４５．５〜７０％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜４４％、Ａｌ_２Ｏ_３ ７．２〜２０％、ＴｉＯ_２ ０〜７％、Ｎａ_２Ｏ １〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜９％、Ｒ_２Ｏ ３〜３０％（Ｒ_２ＯはＮａ_２Ｏ、Ｌｉ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合量）、Ｓｂ_２Ｏ_３０〜０．１％未満、（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｒ_２Ｏ）／（Ａｌ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２）が０．１６〜０．８０であり、実質的にＰｂＯを含まないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】回路形成時にフォトマスクによる補正が可能な大型の無アルカリガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】短辺、長辺ともに１５００ｍｍ以上の無アルカリガラス基板において、常温から１０℃／分の速度で昇温し、保持温度４５０℃で１０時間保持し、１０℃／分の速度で降温（図１に示す温度スケジュールで熱処理）したときに、基板内の熱収縮率絶対値の最大値と最小値の差が５ｐｐｍ以内となることを特徴とする。この基板は、成形時の冷却過程において、徐冷点から（徐冷点−１００℃）の温度の範囲での平均冷却速度が、板幅方向の中央部分と端部とで１００℃／分以内でとなるように調節することで作製可能である。 （もっと読む）