【課題】特にＰｂＯ、Ｔｌ_２Ｏ、ＴｅＯ_２及びＡｓ_２Ｏ_３を用いない、好ましくは弗素及びＧｄ_２Ｏ_３を用いない環境保護的考慮がなされた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率ｎ_ｄが１．９１≦ｎ_ｄ≦２．０５、アッベ数ｖ_ｄが１９≦ｖ_ｄ≦２５である鉛及び砒素非含有光学ガラスであって、次の組成（酸化物に基づく重量％で）、即ちＢｉ_２Ｏ_３５５−７０、ＧｅＯ_２１３−２１、ＳｉＯ_２０−９、Ｂ_２Ｏ_３０−１０、Ｌｉ_２Ｏ０−５、Ｎａ_２Ｏ０−５、Ｋ_２Ｏ０−５、Ｃｓ_２Ｏ０−６、ＭｇＯ０−１０、ＣａＯ０−１０、ＳｒＯ０−１０、ＢａＯ０−１０、ＺｎＯ０−１０、ＴｉＯ_２０−５、Ｌａ_２Ｏ_３０−７、Ｗｏ_３０−６、Ｎｂ_２Ｏ_５０−６、Σアルカリ金属酸化物０−５、Σアルカリ土類金属酸化物０−１０、Σ（Ｌａ_２Ｏ_３＋ＷＯ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＴｉＯ_２）０−８、通常の清澄剤０−２を含み、Ｂｉ_２Ｏ_３とＧｅＯ_２の比を５以下とすることを特徴とするガラス。 （もっと読む）

【課題】易還元成分を含有するガラス素材であっても、表面クラック、クモリ、キズ等が無く、充分な光学性能を有する光学素子を提供するプレス成形用ガラス素材を提供する。表面クラック、クモリ、キズ等が無く、充分な光学性能を有する光学素子とその製造方法を提供する。
【解決手段】多成分系の光学ガラスからなる芯部と、少なくとも前記芯部の光学機能面となる部位を覆う複合表面層とを有するプレス成形用ガラス素材及びガラス光学素子。芯部は、易還元成分を含有し、Ｐｂを含有しない光学ガラスからなり、複合表面層は、芯部上に被覆される第１の表面層と第１の表面層上に被覆される第２の表面層を含み、前記第１の表面層は、ＺｒＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃、及びＳｃ₂Ｏ₃のいずれか一種以上の金属酸化物からなり、膜厚が１ｎｍ以上かつ１５ｎｍ以下のであり、
前記第２の表面層は、炭素（Ｃ）からなり、膜厚が１ｎｍ以上かつ１５ｎｍ以下のである。前記光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 低温で半導体素子を封入することが可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管を提供する。
【解決手段】 ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２ ４６〜６０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜６％、Ｂ_２Ｏ_３ １３〜３０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ９〜２５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１５％、Ｋ_２Ｏ ０〜７％、ＴｉＯ_２ ０〜８％含有し、Ｌｉ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）がモル比で０．４８〜１．００の範囲にあることを特徴とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＣＳＰ等の用途に要求される種々の特性を満足し得る無アルカリガラス、特にＳｉと整合する熱膨張係数を有する無アルカリガラスを提供する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、ｍｏｌ％で、ＳｉＯ_２ ５０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ９〜１５％、Ｂ_２Ｏ_３ １１〜２０％、ＣａＯ ８〜１２％を含有し、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ_２Ｏ_３の値が０．８〜１．２であって、密度が２．３７ｇ／ｃｍ^３以下、１０^２．５ｄＰａ・ｓにおける温度が１６００℃以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】生産性（特に耐失透性）に優れると共に、フッ酸系薬液に対するエッチングレートが速く、しかも歪点が高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、薄型のディスプレイパネルの製造工程において、スループットを向上させ、更にｐ−Ｓｉ・ＴＦＴの製造工程におけるガラス板の熱収縮を低減する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５８〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １５．５〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１％、ＭｇＯ ０〜５％、ＣａＯ ３．５〜１６％、ＳｒＯ ０．５〜６．５％、ＢａＯ ５〜１５％を含有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が７２５℃より高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高記録密度化に対応した情報記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】mol％表示にて、SiO₂とAl₂O₃を合計で70〜85％（ただし、SiO₂の含有量が50％以上）、Al₂O₃の含有量が3％以上、Li₂O、Na₂OおよびK₂Oを合計で10％以上、CaOとMgOを合計で1〜6％（ただし、CaOの含有量がMgOの含有量よりも多い）、ZrO₂、HfO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅、La₂O₃、Y₂O₃およびTiO₂を合計で０％を超えて4％以下含み、SiO₂、Al₂O₃、ZrO₂、HfO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅、La₂O₃、Y₂O₃およびTiO₂の合計含有量に対するLi₂O、Na₂OおよびK₂Oの合計含有量のmol比が0.28以下、である、情報記録媒体用基板に供するためのガラスとする。 （もっと読む）

【課題】低分散でありながら屈折率が高く、優れたガラス安定性を有し、着色の少ない光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物ガラスであって、カチオン％表示で、Ｓｉ⁴⁺０〜３０％、Ｂ³⁺１０〜５５％、Ｌｉ⁺、Ｎａ⁺およびＫ⁺を合計で５％未満、Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺およびＳｒ²⁺を合計で５％未満、Ｂａ²⁺０〜８％、Ｚｎ²⁺０．１〜１５％、Ｌａ³⁺１０〜５０％、Ｇｄ³⁺０〜２０％、Ｙ³⁺０〜１５％、Ｙｂ³⁺０〜１０％、Ｚｒ⁴⁺０〜２０％、Ｔｉ⁴⁺０．１〜２２％、Ｎｂ⁵⁺０〜２０％、Ｔａ⁵⁺０〜８％、Ｗ⁶⁺０〜５％、Ｇｅ⁴⁺０〜８％、Ｂｉ³⁺０〜１０％、Ａｌ³⁺０〜１０％、Ｂ³⁺の含有量に対するＳｉ⁴⁺の含有量のカチオン比Ｓｉ⁴⁺／Ｂ³⁺が１．０未満、酸化物に換算してＮｂ₂Ｏ₅とＴａ₂Ｏ₅の合計含有量が１４質量％未満、屈折率ｎｄが１．９６６〜２．２、アッベ数νｄが２５〜４５であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】泡の残存数が少ない硼珪酸ガラスを製造し得る方法を提供する。
【解決手段】ガラス原料を溶融することによりガラス融液を得、前記ガラス融液を冷却することにより硼珪酸ガラスを製造する方法において、塩化物と硝酸塩とを含み、Ｂ_２Ｏ_３の含有量が１８質量％以下であるガラス原料を用いる。 （もっと読む）

【課題】 固体撮像装置に使用するカバーガラスをイオン交換するに際し、その処理時間を短縮できるため、生産性を向上することが可能な強化ガラス基板と、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の強化ガラス基板の製造方法は、アルカリ金属酸化物を含有し、３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が３０〜１００×１０^−７／℃のガラスとなるように原料を調製する工程、該原料を溶融容器内で溶融した後、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成形する工程、成形した板状ガラスをイオン交換することによって、その表面に圧縮応力層を形成する工程、からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】未融解珪砂の発生が少なく均質性に優れ、しかもガラス中に泡が少ない無アルカリガラスを得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】珪素源を含有するガラス原料を溶融し、ガラスを得る無アルカリガラスの製造方法において、無アルカリガラスは、所定の組成を含有し、ガラス原料は、ＳｒＣＯ_３およびＳｒＣｌ_２を混合して、粒径Ｄ_５０が４０〜１８０μｍ、かつ粒径Ｄ_９０が４００〜５７０μｍとなるように粉砕した粉砕原料と、他の原料と、を混合したガラス原料を用いる無アルカリガラスの製造方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】乗り物のグレイジングを開示する
【解決手段】乗り物のグレイジングは色付きガラスのペインを備え、少なくとも1.0から1.8重量%までの全鉄によって色付けられ、その内面上に低放射(反射)率被膜を持つ。被膜は、0.05から0.4までの放射率を持ち、及び透明な導電性酸化物(及び随意にドーパント)、又は金属層及び少なくとも1種の誘電体層を含んでよい。好ましくは、ガラスは強化ガラスである。また、ガラスの2種のプライを備える積層グレイジングを開示し、これはそれらの間を中間層物質によって積層され、そこでは、ガラスの少なくとも1種のプライ又は中間層物質のシートが色付き本体であり、前記グレイジングはその内面上に低放射率被膜を持つ。内側プライは、清澄なガラスか、又は色付きガラスでよい。中間層物質は、清澄なPVBか、又は色付きPVBでよく、及びそれは更に赤外(線)反射性であってよい。いずれのグレイジングも、ルーフのか、又は他の乗り物のグレイジングとして用いることができる。 （もっと読む）

【課題】 耐ソーラリゼーションに優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 重量で、Ｐ₂Ｏ₅ ５〜６０％、ＴｉＯ₂ ０〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜２０％、ＳｉＯ₂ ０〜３０％、Ｎｂ₂Ｏ₅ ５〜６０％、Ｔａ₂Ｏ₅ ０〜２０％、ＷＯ_３ ０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＺｒＯ₂ ０〜 ５％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜 ５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜２０％、Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃ ０〜２０％、ＺｎＯ ０〜２０％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０〜３５％、ただし、Ｌｉ₂Ｏ ０〜 ８％、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０〜３５％、および上記金属元素の１種または２種以上の酸化物の一部または全部と置換した弗化物（Ｆ）として合計０〜８％含有する光学ガラスにおいて、ＭｏＯ_３の含有量を測定し、ＭｏＯ₃の含有量が重量で３０ｐｐｍを超える場合は、ＭｏＯ_３の含有量を重量で３０ｐｐｍ以下に減少させる。 （もっと読む）

【課題】高強度と視域制御機能を両立し得るガラス板を創案することにより、３Ｄディスプレイの高精細化、高輝度化、低消費電力化に寄与すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、アルカリ金属酸化物（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの一種又は二種以上） ０〜２５％、アルカリ土類金属酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの一種又は二種以上） ０〜１５％を含有し、且つ二次元ディスプレイの一部又は全部を覆う視域制御部材に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】固体レーザー媒質としての使用に好適なアルミノホウケイ酸塩をベースとしたガラス組成物を提供する。
【解決手段】アルミノホウケイ酸塩をベースとしたガラスはレーザー発振イオン用の希土類イオンの発光帯域幅を示す。完全には分かっていないが、発光帯域幅を拡大することは、ガラスマトリックス中の有効量のランタニドイオンの存在によって達成されると考えられる。加えて、ヤング率、破壊靭性及び硬度の高い値のために、透明な防弾窓材料としても好適である。 （もっと読む）

【課題】所定の光学定数を有し、ガラス転移温度が低く、ＩＳＯ試験法耐酸性に優れ、
液相温度における粘度が高く、透過率に優れ、精密プレスモールド成形に適した光学ガラ
スの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光学ガラスの製造方法は、ＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅、ＷＯ_３、ＴｉＯ_２、ＺｎＯ、及びＬｉ₂Ｏを含有する原料を準備し、原料をるつぼに投入し、溶融し、徐冷することによって光学ガラスを得る工程を含み、光学ガラスは、屈折率（ｎ_d）が１．８５を超え、アッベ数（ν_d）が４０以上の範囲の光学定数を有し、必須成分として酸化物基準の質量％でＳｉＯ₂ ３〜８％、Ｂ₂Ｏ₃ ５〜１９．５％、Ｌａ₂Ｏ₃ １５〜５０％、Ｇｄ₂Ｏ₃ ０．１〜２５％、Ｔａ₂Ｏ₅ １０％を超え２５％、ＷＯ_３ １．５〜６％、ＴｉＯ_２ ０〜１％、ＺｎＯ ０．１％以上であり、Ｌｉ₂Ｏを含有し、実質的に鉛成分、ヒ素成分を含まず、ガラス転移温度（Ｔｇ）が６３０℃以下である。 （もっと読む）

【課題】溶融ガラスＭによる耐熱容器１の損傷を効果的に抑制することができるガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス原料を耐熱容器１に入れて炉内で溶融する溶融工程と、耐熱容器１内の溶融ガラスＭを炉外で撹拌する撹拌工程と、を含むガラスの製造方法において、炉から取り出した耐熱容器１を、この耐熱容器１の外側面を支える支持部材２を介して底部１２を浮かせた状態で載置面３の上方に載置して撹拌工程を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながらも低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、可視光に対する透明性が高く、且つガラスの作製時及び加工時に失透や曇りが生じ難く、研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラス、及び光学素子を提供する。
【解決手段】この光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を５．０％以上４０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１０．０％以上６０．０％以下含有し、分光透過率が７０％を示す波長（λ_７０）が５００ｎｍ以下であり、５００℃以上１２００℃以下の液相温度を有する。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とするものである。 （もっと読む）

【課題】光学材料の応答特性をより高速にする。
【解決手段】光学材料は、母体１０１と、母体１０１に分散された半導体からなる複数の微結晶１０２とを備える。母体１０１は、微結晶１０２を構成する半導体より大きなバンドギャップエネルギーを有する材料から構成されている。また、複数の微結晶１０２の粒径分布の平均値は、微結晶１０２の内部の原子数に対する微結晶１０２の表面の原子数の割合が、１より大きくなる値とされている。 （もっと読む）

【課題】 高出力の紫外光線や３００〜４００ｎｍ領域のレーザ光線の照射により生じる屈折率変化を抑制した、耐光線性の優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 ガラスに、波長＝３５１ｎｍのパルスレーザー光（平均出力（Average Output Power）＝０．４３Ｗ，パルス繰り返し数（Pulse Repetition Rate）＝５ｋＨｚ，パルス幅（Pulse Width）＝４００ｎｓ）を１時間照射した後の屈折率の変化量（Δｎ：照射前後の屈折率の差）が５ｐｐｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】特に遷移金属であるＮｂ_２Ｏ_５成分を含有するガラスにおいて、着色の少ないガラスを得ることが可能な、光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス成形体の製造方法は、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を必須成分として含有するガラス原料を溶解し、溶解したガラス中で非酸化性ガスをバブリングする工程を有する。この製造方法は、ガラス原料Ｓを溶融する溶融槽１１と、この溶融槽１１に連通され且つ溶融ガラスＧを清澄する清澄槽１２と、この清澄槽１２に連通され且つ溶融ガラスＧを撹拌する撹拌槽１３と、を用い、ガラス原料Ｓを溶融槽１１で溶融する溶融工程、溶融したガラス原料Ｓを清澄槽１２で清澄させる清澄工程、清澄した溶融ガラスＧを撹拌槽１３で撹拌する撹拌工程、撹拌した溶融ガラスＧを流出させる流出工程、及び、流出したガラスを成形する成形工程を有することが好ましい。 （もっと読む）