【課題】電子機器の筐体や装飾品用途に好適な特性、すなわち、泡品質、強度、光の透過特性に優れた、黒色の色調を有する化学強化用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を５５〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３を３〜１６％、Ｂ_２Ｏ_３を０〜１２％、Ｎａ_２Ｏを５〜１６％、Ｋ_２Ｏを０〜４％、ＭｇＯを０〜１５％、ＣａＯを０〜３％、ΣＲＯ（Ｒは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ）を０〜１８％、ＺｒＯ_２を０〜１％、着色成分（Ｃｏ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｖ、Ｂｉの金属酸化物からなる群より選択される少なくとも１成分）を０．１〜７％含有する化学強化用ガラス。 （もっと読む）

【課題】製造中にヒ素化合物およびアンチモン化合物が清澄剤として使用されない酸化チタン含有ホウケイ酸ガラスを提供する。
【解決手段】ヒ素化合物およびアンチモン化合物を使用することなく製造された、酸化チタン含有ホウケイ酸ガラス、更に酸素含有セレン化合物を清澄剤として使用することを含む、環境に優しい精製方法とする。ガラスは、赤外範囲において良好な透過率値を有し、邪魔な変色を示さないことから、ＩＲ光導体、光センサー用カバーガラスおよびＵＶフィルターの製造に特に適している。 （もっと読む）

【課題】高効率、コンパクトで、均一な光分布を有する紫外線殺菌装置を提供する。
【解決手段】被処理気体および／または液体の流通する中空の内部空間４０、管内壁７０と管外壁６０を備える石英ガラスおよびホウケイ酸ガラスから選択される紫外線透過性のガラス管１０、リフレクタ３０、および少なくとも１つの紫外光源２０により紫外線殺菌装置を構成し、紫外線透過性ガラス管の少なくとも１つの個所に内部空間への湾入部２５を作成し、該湾曲部に紫外光源を配置する。 （もっと読む）

【課題】Ｔｚｃに対する許容値、ＣＴＥ対温度の傾き、およびＴｚｃの空間的均一性などの特定のパラメータに対して必要な改善がなされ、かつ２５ｎｍ未満のノードのリソグラフィにシステムの素子として使用するのに適した、ドープされたシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】選択された重量のシリカ・チタニア粉末と選択された重量のドーパント粉末とを検量して、このシリカ・チタニア粉末および選択されたドーパント粉末を混合し、さらに選択された流体を用いて、この混合された粉末のスラリーを形成する。このスラリーを噴霧乾燥して、およそ２００μｍ以下の直径サイズを有する自由流動微粒子を含んだ粉末を形成する。この粉末を、一軸加圧成形を用いて、次いでさらに冷間静水圧加圧を用いて、成形品に成形し、この成形品をホットプレスにより固化してドープされたシリカ・チタニアガラスブランクとし、さらにガラスブランクをアニールする。 （もっと読む）

【課題】板厚が薄い状態で高い強度を示し、機器に装着した際に機器の薄型化を図ることが可能である携帯端末用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】本発明の携帯端末用カバーガラス１は、板状のガラス基板の主表面にレジストパターンを形成した後、前記レジストパターンをマスクとして、エッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなる、携帯端末の表示画面を保護するカバーガラス１であって、前記カバーガラス１の端面は、溶解ガラス面で構成されてなり、且つ、前記端面の表面粗さは、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、レーザ封着の際に、ガス成分が放出され難い封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。また、本発明の封着材料は、ガラス粉末を含む封着材料において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】近赤外光を吸収しつつも可視光の吸収は抑える程度の量のＣｕ^２＋を加えること
ができるよう設定されたＯ^２−／Ｐ^５＋比を製造後でも有する、耐候性を備えたフツリン
酸ガラス及びその製造方法並びに近赤外光吸収フィルターを提供する。
【解決手段】Ｃｕ^２＋を含有することにより近赤外光を吸収するフツリン酸ガラスにおい
て、前記フツリン酸ガラスでのＰ^５＋含有量に対するＯ^２−含有量のモル比（Ｏ^２−／Ｐ
^５＋）は３．２以上３．４未満であり、前記フツリン酸ガラスでのＯ^２−及びＦ⁻の合計
含有量に対するＦ⁻含有量のモル比（Ｆ⁻／（Ｏ^２−＋Ｆ⁻））は０．０５以上０．２５
以下である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、屈折率（ｎｄ）が１．７５以上１．８５以下を有しており、アッベ数（νｄ）が３０．０以上４５．０以下の範囲の光学定数を有する光学ガラスであって、脈理が少なく加工性が良好な光学ガラスを提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を４．０〜５０．０％、質量比でＬａ_２Ｏ_３／Ｂ_２Ｏ_３が０．８以下であり、液相温度が１０３０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が無機粉末と顔料を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が１０〜３５体積％であり、封着材料層の表面粗さＲａが０．５μｍ未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】過度に限定的なガラス組成でなくともビスマスによる赤外発光が得られ、且つ溶融法を利用したガラスの製造時に均質性を確保し易く、しかも耐失透性が良好であり、モールドプレス成形に適した赤外発光ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を１００モル％とし、酸化物組成として、
（１）Ｐ_２Ｏ_５：４５〜７５モル％、
（２）Ａｌ_２Ｏ_３：３〜２５モル％、
（３）ＲをＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ及びＺｎからなる群から選択される少なくとも１種とし、ＲＯ：５モル％以上３０モル％未満、並びに
（４）Ｂｉ_２Ｏ_３：０．１〜５モル％、
を含有するガラス組成物からなり、励起光の照射により赤外波長域で蛍光発光することを特徴とする赤外発光ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明は、錫リン酸系ガラスの耐水性を改善すると同時に、低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気で良好に封着できるとともに、４９０℃以下の低温で封着可能であり、且つ熱的安定性の良好な封着用ガラス組成物および封着材料を得ることを技術課題とする。
【解決手段】本発明の封着用ガラス組成物は、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル％表示で、ＳｎＯ ３０〜８０％、Ｐ_２Ｏ_５ １０〜２５％（但し、２５％は含まない）、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２０％、ＺｎＯ ０〜２０％、ＳｉＯ_２ ０〜１０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＷＯ_３ ０〜２０％、Ｒ_２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓを指す） ０〜２０％含有し、且つ低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気における封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板上に塗布した後、第一の封着材料膜を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜上に塗布した後、第二の封着材料膜を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板上に封着材料層を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一のガラス粉末を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二のガラス粉末を含み、前記第二のガラス粉末の軟化点が、前記第一のガラス粉末の軟化点より低いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、フロート法で成形されているにもかかわらず、反り量が小さい強化ガラス基板及びその製造方法を創案することである。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、フロート法で成形されてなる強化ガラス基板において、ボトム面の圧縮応力値が、トップ面の圧縮応力値より大きいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
従来のケイ酸塩系ガラスは熱伝導率が大きく、サーマルヘッドの低消費電力化が図れなかった。
【解決手段】
モル％で、Ｐ_２Ｏ_５を５０〜６８％、ＣｅＯ_２を１５〜３９％、Ｂ_２Ｏ_３を２〜７％、Ｐｒ_６Ｏ_１１を０．２〜０．５％含み、ＣｅＯ_２に対するＰ_２Ｏ_５のモル比が１≦Ｐ_２Ｏ_５／ＣｅＯ_２＜４の関係を満たすリン酸塩系ガラス、またはＰ_２Ｏ_５を５０〜６５％、ＣｅＯ_２を５〜１５％、Ｂ_２Ｏ_３を３〜８％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０％、ＢａＯを０〜９％およびＰｒ_６Ｏ_１１を含み、ＣｅＯ_２に対するＰ_２Ｏ_５のモル比が４≦Ｐ_２Ｏ_５／ＣｅＯ_２の関係を満たすリン酸塩系ガラスは熱伝導率が小さいので、サーマルヘッドのグレーズ層に用いることにより低消費電力化が図れる。また、熱膨張係数がセラミックス基板と等しいので、セラミックス基板との剥離が起こりにくく、耐熱性に優れる。 （もっと読む）

【課題】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、耐候性に優れ、かつ、複雑な形状に容易に加工することが可能なガラス、それを用いた集光型太陽光発電装置用光学素子、および、集光型太陽光発電装置を提供する。
【解決手段】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、質量％で、ＳｉＯ_２ ３０〜８０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０．１％以上およびＺｒＯ_２ ０．１％以上を含有することを特徴とするガラス。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｌａ_２Ｏ_３成分及びＦ成分を含有し、１．７０以上の屈折率（ｎ_ｄ）と、３９以上５２未満のアッベ数（ν_ｄ）とを有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で（θｇ，Ｆ）≧（−２．０×１０^−３×ν_ｄ＋０．６４９８）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】高性能なガラス複合シートの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス複合シート２の製造方法は、ガラス粉末と機能材粉末とを混合して混合粉末１を得る工程と、混合粉末１をロールプレス成形することによりガラス複合シート２を得る成形工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】化学強化用のアルカリおよびアルミニウム高含有ケイ酸塩ガラス組成物の提供。
【解決手段】ガラス組成物は、モル％で、SiO₂が64.5-73、Al₂O₃が6.5-11.5、B₂O₃が0-2、Na₂Oが13-19、K₂Oが0.3-1.2、MgOが3.5-7.2、ZnOが0.05-2.5、TiO₂が0.05-1、Y₂O₃が0-0.6、Ga₂O₃が0-0.4、GeO₂が0-1.2、並びに、SnO₂、Sb₂O₃、Cl及びSO₃からなる群から選択される少なくとも１の成分であって含有量がSnO₂が0-0.15、Sb₂O₃が0-0.1、Clが0-0.5及びSO₃が0-0.3である成分を含む。前記ガラスは、化学強化後、その表面に圧縮応力300MPa以上、厚み40μm以上の圧縮応力層を備え、ディスプレイ製品のスクリーン表面の保護用のガラス材料として用いられうる。 （もっと読む）

【課題】 耐電圧、耐摩耗性、熱伝導率、および耐スクラッチ性が一層高い絶縁膜や保護層(以下、絶縁膜等という)を形成し得る絶縁膜組成物を提供する。
【解決手段】 ガラスを主成分とする厚膜絶縁ペーストには、アルミナ粉末が含まれているため、定着ヒータの絶縁膜やサーマルプリントヘッドの保護層に好適で、硬度が高く延いては耐摩耗性や耐スクラッチ性が高く、且つ熱伝導率や耐電圧が高い絶縁膜等を得ることができる。アルミナ粉末のアスペクト比が1.2以下と小さいことから充填密度が得られるので絶縁膜の硬度等の改善効果が一層高められる。アルミナ粉末の体積比率が25(％)以上と大きいことから、硬度や熱伝導率等の改善効果が一層高められ、体積比率が60(％)未満に留められていることから、強固な絶縁膜等を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ベロ法もしくはダンナー法などの慣用の方法によって管引きして、ガラス管を形成でき、これらのガラス管が形状変化（収縮及び屈曲）を受ける傾向と７００℃までの更なる加工温度で互いにくっつく傾向が、理想的にはほとんどないガラス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物を基礎とするモル％で、ＳｉＯ₂ ７４〜８１、Ｂ₂Ｏ₃ ８．５〜１４．５、Ａｌ₂Ｏ₃ ０．５〜３．５、Ｎａ₂Ｏ １．５〜３．５、Ｋ₂Ｏ １．０〜２．０、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１．０、ＭｇＯ ０．５〜１．５、ＣａＯ ０．５〜１．５、ＢａＯ ０〜０．６、ＴｉＯ₂ ２．０〜３．５、ＺｒＯ₂ ０〜１．０、及び清澄剤として、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０〜０．１５、ＣｅＯ₂ ０〜０．５、ＳｎＯ₂ ０〜０．５を含み、かつ０．４＜Ｎａ₂Ｏ／（Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）≦０．７２のモル比を有する、ホウケイ酸ガラスによって解決される。 （もっと読む）