【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、耐ソラリゼーションが良好であり、可視光に対する透明性が高く、部分分散比が小さく、低い温度で軟化し易く、且つ研磨加工を行い易い光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る。
【解決手段】 酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＴｅＯ_２成分を３０．０〜７０．０％、Ｐ_２Ｏ_５成分を０％〜２５．０％、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を０％〜２０．０％以下含有し、ソラリゼーションが５．０％以下であることを有する。光学素子及び精密プレス成形用プリフォームは、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、低い温度で軟化し易く、且つ研磨加工を行い易く、さらに高透過率と良好な化学的耐久性を兼ね備える光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＴｅＯ_２成分を２０．０〜７０．０％、Ｐ_２Ｏ_５成分を０％〜２５．０％、Ｂ_２Ｏ_３成分を０％〜４０．０％、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を０％〜２０．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を０％〜３０．０％含有し、ＴｅＯ_２／（Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３）が１．０以上、Ｂ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋Ｌａ_２Ｏ_３が０％より多く６０％以下であり、摩耗度が２００以上８００以下、ヌープ硬度が２５０以上６５０以下、粉末法耐水性クラス（RW）が１以上３以下、粉末法耐酸性クラス（RA）が１以上３以下である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】樹脂製の固体撮像素子パッケージに好適なカバーガラスを提供すること。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ_２ ３５〜５７％、Ａｌ_２Ｏ_３ ６〜２３％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ ０〜２５％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ただし、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ １５〜４０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＺｎＯ ０〜３０％、を含有し、実質的にＡｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２を含有しないことを特徴とする固体撮像素子パッケージ用カバーガラス。 （もっと読む）

【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が携帯機器用カバーガラスの高いガラス基材を提供すること。
【解決手段】本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材は、板状のガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、一対の主表面及び端面を持つ携帯機器用カバーガラスのガラス基材であって、前記端面における前記主表面の面方向外側へ突出する頂部は、ＵＬ（Underwriters Laboratories）−１４３９に準拠するシャープエッジテストで表面から２層が切断されない形状であり、前記一対の主表面及び前記端面には、イオン交換処理により化学強化されることによって圧縮応力層が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】配向性の良好な超伝導結晶を連続的に形成できるＢｉ系ガラス材料及び及び超伝導材料の製造方法を提案する。
【解決手段】Ｂｉ系ガラスのガラス組成として、下記酸化物基準のモル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３１０〜５０％、ＳｒＯ３０〜６０％、ＣａＯ５〜３０％、ＣｕＯ０〜１０％を含有することを特徴とする。また、超伝導材料の製造方法は、銅又は銅合金の表面に、上記のＢｉ系ガラスを接触させた状態で熱処理し、超伝導結晶を析出させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、レンズの色収差をより高精度に補正することができ、且つ着色の少ない光学ガラス、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を４０．０％未満、並びに、ＷＯ_３成分及びＴａ_２Ｏ_５成分からなる群から選択される１種以上を合計で７５．０％未満含有し、０．６２以上０．６９以下の部分分散比［θｇ，Ｆ］を有し、１５以上２７以下のアッベ数（ν_ｄ）を有する。 （もっと読む）

【課題】高周波電子部品の回路基板材料等の用途に利用可能な、誘電率εが高く、温度特性τεの絶対値が小さい誘電体材料を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％でＴｉＯ_２を５〜５０％、ＳｒＯを３〜５０％、及び、ＳｉＯ_２を１５〜８５％を含有し、ＳｒＴｉＯ_３結晶及び／又はその固溶体を含有する。ガラスセラミックスは、好ましくは誘電率εが２０以上であり、Ｑ値が１０００より大きく、誘電率εの温度特性τεの絶対値が３００未満である。 （もっと読む）

【課題】応答ガラスの耐久性や応答性を、他の諸性質を劣化させることなく、向上させる。
【解決手段】ｐＨ応答性ガラス電極１に用いられる応答ガラス５であって、その成分組成として、少なくともＳｉＯ_２とＬｉ_２Ｏと２〜１０ｍｏｌ％のＬａ_２Ｏ_３とを含み、その他にＬａ_２Ｏ_３よりも少量のＹ_２Ｏ_３を含むようにした。 （もっと読む）

【課題】 ディスプレイ製造プロセスにおけるガラス板の寸法変化を減少させる。
【解決手段】 プロセス中にガラス板のガラスのピーク膨張を増加させるようにガラスの組成を変更する工程を有してなる。変更工程が、ガラスのアルカリ金属酸化物の濃度を増加させる工程を含んでも差し支えない。ガラスのアルカリ金属酸化物の濃度が少なくとも０．２５モル％だけ増加されることが好ましく、１．０モル％だけ増加させることがより好ましい。変更工程が、ガラスの水濃度を増加させる工程を含んでも差し支えない。ディスプレイ装置を製造する製造プロセスにおいて基板として使用するためのガラス板も提供される。 （もっと読む）

【課題】レーザ封着に好適な封着材料、具体的にはレーザ光を吸収しやすく、且つ軟化点が低い封着材料を創案することにより、有機ＥＬディスプレイ等の信頼性を高めること。
【解決手段】本発明の封着材料は、ＳｎＯ含有ガラス粉末を含む無機粉末 ８０〜９９．７質量％と、顔料 ０．３〜２０質量％とを含有し、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】粘性状態でプレスすることによって、プロセスが実質的に亀裂も傷も含まないコーティングを形成するプロセスで、酸化ジルコニウムセラミックにコーティングされ得るガラスセラミックを提供すること。
【解決手段】特に粘性状態でプレスすることによって、酸化ジルコニウムセラミックに有利に塗布され得、そしてこの酸化ジルコニウムセラミックとしっかりした結合を形成し得る、ケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラスが提供される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、化学強化後に精密研磨した場合でも、平滑性と平坦性のよい情報記録媒体用ガラス基板を得ることができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス素板として、ＭｇＯとＣａＯとのアルカリ土類金属と、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏとのアルカリ金属とを含み、アルカリ土類金属に対するアルカリ金属の質量比が、０．１＜（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）＜０．８０の範囲にあるガラス素材からなるものを用いて行ない、円板状の情報記録媒体用ガラス基板１ａを得る。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 亜鉛成分を含む結晶相を有し、光触媒活性を有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％でＺｎＯ成分を１０〜７０％含有してもよく、さらにＳｉＯ_２成分、ＧｅＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、及びＰ_２Ｏ_５成分からなる群より選択される１種以上の成分３０〜８０％を含有してもよい。このガラスセラミックスは、粉粒状、ファイバー状、スラリー状混合物、焼結体、基材との複合体などの形態をとることが出来る。 （もっと読む）

【課題】屈折率が容易に変更可能であるが、他の特性は実質的に損なわれない、ケイ酸リチウムベースのガラスセラミックを提供すること。
【解決手段】本発明は、少なくとも８．５重量％の遷移金属酸化物を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックであって、該遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、４１〜７９の原子番号を有する遷移金属の酸化物およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される、ケイ酸リチウムガラスセラミックを提供する。 （もっと読む）

【課題】多孔質ガラス体へのフッ素の導入を４００℃以下の低温で実施ができ、かつ安定して、最終的に得られる合成石英ガラスのフッ素濃度を１０００質量ｐｐｍ以上とすることができる合成石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を、基材に堆積、成長させて、多孔質ガラス体を形成する工程と、（ｂ）多孔質ガラス体を、反応槽内にて、圧力Ｐ_ｂ１および温度４００℃以下のフッ素単体（Ｆ_２）含有雰囲気下に保持し、ついで、同反応槽内にて、前記圧力Ｐ_ｂ１よりも低い圧力Ｐ_ｂ２および温度４００℃以下の条件下に保持して、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、（ｃ）フッ素を含有した多孔質ガラス体を、ガラス化炉内にて、透明ガラス化温度まで加熱して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程とを有する合成石英ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％で、Ｐ_２Ｏ_５成分、ＳｉＯ_２成分及びＢ_２Ｏ_３成分からなる群より選択される１種以上を合計で５．０％以上４０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１０．０％以上６０．０％以下含有し、ソラリゼーション（波長４５０ｎｍにおける分光透過率の劣化量）が５．０％以下である。光学素子は、この光学ガラスからなる。また、ガラス成形体の製造方法は、この光学ガラスを用い、軟化した前記光学ガラスに対して金型内でプレス成形を行う。 （もっと読む）

【課題】塩素もしくは塩化物と反応し難く、耐塩化物性に優れ、かつ耐熱性を有したガラス組成物に関するもので、塩素成分を含む高温の溶融塩による腐食から、ステンレス鋼等を保護する皮膜を形成するための皮膜形成用ガラス組成物及びその利用方法を提供すること。
【解決手段】モル％で表して、Ｐ_２Ｏ_５が３０〜８０、Ｆｅ_２Ｏ_３が０〜５０、Ａｌ_２Ｏ_３が０〜３０、Ｂ_２Ｏ_３が０〜１５、ＴｉＯ_２が０〜４０、ＺｒＯ_２が０〜１０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏから選択される１種以上の合計）が０〜１５、Ｒ’Ｏ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯから選択される１種以上の合計）が０〜１５で、かつ、Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２が１〜６５、Ｒ_２Ｏ＋Ｒ’Ｏが０〜２０からなる軟化点が５５０℃以上で、かつ、塩素または塩化物に対する耐性に優れた皮膜形成用ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】それ自身白色乃至青色に発光するガラス、また、そのようなガラスを被覆した発光素子及び発光装置を提供する。
【解決手段】発光ガラスは、紫外線領域の光による励起によって蛍光を発するガラスであって、ＳｎＯ_ｘ及びＰ_２Ｏ_５を含有し、かつＳｎ原子の全量に対するＳｎ^２＋の存在率が５〜９５％である。発光素子及び発光装置は、そのようなガラスで半導体発光素子の主表面を被覆してなる。 （もっと読む）

【課題】歪除去及び純化を効果的に行うことのできる合成シリカガラス体の熱処理方法を提供し、紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光の照射に対して長期間、優れた光透過性を示す合成シリカガラス製光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】被処理物である合成シリカガラス体５０の歪除去及び純化を行う熱処理方法であって、前記被処理物の外表面の全てをＡｌ濃度１０ｐｐｍ〜３０ｐｐｍ、且つＮａ濃度５０ｐｐｂ未満のＳｉＯ_２質粉体２０によって接触状態で被覆し、９００℃〜１３００℃の温度範囲で３０分〜８００時間の熱処理を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】溶融ガラスからプレス成形により磁気記録媒体基板用のガラスブランクを作製するガラスブランクの製造方法において、プレス成形直前の溶融ガラス塊の粘度分布を均一化することにより、板厚偏差が小さく、高い平坦度を有するガラスブランクを製造する方法を提供する。
【解決手段】ガラス流出口より流出する溶融ガラス流を空中に垂下させた状態で切断し、溶融ガラス塊を分離、落下させ、平坦なプレス成形面によりプレスして薄板ガラスに成形する際に、分離時の溶融ガラス塊の水平断面における最大径Ａに対する鉛直方向の長さＢの比Ｂ／Ａが０．５〜５の範囲内になるようにガラス流出口の口径を定めるとともに、溶融ガラスの流出粘度が５００〜１０５０ｄＰａ・ｓの範囲で一定となるよう溶融ガラスの流出温度を制御するガラスブランクの製造方法。 （もっと読む）