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Fターム[4G062DC01]に分類される特許
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ガラス、ガラス基板ブランクスおよびガラス基板それぞれの製造方法
【課題】 高度の品質が要求される情報記録媒体用ガラス基板に好適に用いられるガラスの製造方法、この方法で得られたガラスを用いてガラス基板ブランクスおよびガラス基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】 ガラス原料をガラス溶解装置で溶解し、アルカリ金属元素を含むガラスを製造する方法において、前記溶解装置として、ガラス接触部分の材料がジルコニウムを含み、かつ実質的にアルカリ金属元素を含まない材料で構成されたものを用いるガラスの製造方法、この製造方法で得られたガラスをプレス成形またはフロート成形するガラス基板ブランクスの製造方法、および該ガラス基板ブランクスに研削、研磨加工を施すガラス基板の製造方法である。
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半導体封止用ガラス、半導体封止用外套管及び半導体電子部品
【課題】高耐熱性を有し、且つPbO等の有害成分を含まなくても、低温封止性を有する半導体封止用ガラスを提供する。
【解決手段】歪点が650℃以上であり、且つ104dPa・sにおける温度が1200℃未満であることを特徴とし、具体的には、ガラス組成として、質量%で、SiO230〜50%、Al2O30〜10%、CaO+SrO(CaO、SrOの合量)0〜20%、BaO15〜35%、ZrO2+TiO2(ZrO2、TiO2の合量)0〜25%、La2O3+Nb2O5(La2O3、Nb2O5の合量)0〜20%を含有する。
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ガラスフリット複合材料およびそれを用いた半導体装置
【課題】乗用車やトラック等に搭載されるパワー半導体装置は、エポキシ樹脂、シリカやアルミナ、フェライト複合体等の無機充填材からなる封止材により封止されているが、近年半導体装置の発熱が増加し、封止材が250℃の連続加熱または−50℃〜250℃の熱衝撃により半導体素子と封止材、および半導体素子が実装されているパッケージ内壁と封止材が剥離および封止するための封止材の厚みが1mm以上でもクラックが生じないガラスフリット複合材料およびそれを用いた半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、前記課題を解決すべくなされたものであり無機材料で耐熱性、絶縁性に優れた鉛を含有しないガラスフリット1〜30wt%、コージライト30〜90wt%、熱硬化性のシリコーン3〜40wt%、1〜1000ppmのアルカリ金属を含むシリカ1〜20wt%を含有する事を特徴とするガラスフリット複合材料。
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閉塞材料を有するフィルター材料
歯科用途および歯列矯正用途におけるセラミックの使用
【課題】歯科用途および歯列矯正用途における非晶質ガラスおよびガラス−セラミック材料、硬化性樹脂と非晶質ガラスまたはガラス−セラミックとの混合物を含む歯科材料その使用方法、を提供する。
【解決手段】Al2O3と、B2O3、GeO2、P2O5、SiO2、TeO2、V2O5などあるいはREO、Y2O3、あるいはZrO2、HfO2を含む非晶質ガラスおよびガラス−セラミックを含む物品。ここでREOという用語は、希土類酸化物を示す。
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合成シリカガラス及びその製造方法
【課題】耐失透性に優れ、各種合成シリカ材料に好適で、特に、放電灯用のバルブ材として好適に用いられる耐失透性合成シリカガラス及びその製造方法を提供することを目的とする。また、ランプ寿命を長く保持できる放電灯用合成シリカガラス製バルブ、該バルブを用いた放電灯装置、及び放電灯用合成シリカガラス製バルブの製造方法を提供する。
【解決手段】250nmでの酸素欠損型欠陥量が吸収係数で0.01〜2/cm、Cl含有量が10ppmを超え10000ppm以下、OH基含有量が10ppm以下、アルカリ金属の合計含有量が10ppm以下、水素分子濃度が1×1016分子/cm3以下、及び1100℃での粘度が1014〜1016ポアズであるようにした。
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ガラスペースト
【課題】本発明は、SnO含有ガラス粉末との適合性が良好なビークル、特にバインダーを創案することにより、焼成時にSnO含有ガラス粉末のガラス組成中のSnOがSnO2に酸化し難く、電子部品等に必要な気密性や封着強度を確保し得るガラスペーストを作製すること。
【解決手段】本発明のガラスペーストは、封着材料とビークルを含有するガラスペーストにおいて、封着材料がSnO含有ガラス粉末を含み、且つビークルが脂肪族ポリプロピレンカーボネートと溶媒を含むことを特徴とする。
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ガラス組成物及びそれを用いた光学装置
【課題】本発明によれば、紫外光において、真性複屈折率が低いかあるいは存在しないガラス化状態を安定して得ることができるガラス組成物を提供する。
【解決手段】Lu、Si及びAlを含有する酸化物であり、LuとSiとAlを陽イオン%で示した三相図において、以下に記す陽イオン%で示した6組成点で囲まれた組成域(記号“◎”で囲まれた範囲)に含まれるガラス組成物。
32.3LuO3/2・30.0SiO2・37.7AlO3/2、
32.3LuO3/2・37.7SiO2・30.0AlO3/2、
20.8LuO3/2・55.0SiO2・24.2AlO3/2、
10.0LuO3/2・45.0SiO2・45.0AlO3/2、
20.8LuO3/2・24.2SiO2・55.0AlO3/2、
及び30.0LuO3/2・25.0SiO2・45.0AlO3/2
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜71%、Al2O3 3〜21%、Li2O 0〜3.5%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜15%を含有すると共に、未研磨の表面を有し、端面部に面取り加工又はエッチング処理がなされていることを特徴とする。
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耐酸性を有する無鉛低融点ガラス
【課題】耐酸性に優れ、Ag+のマイグレーションが生じ難い、低融点の無鉛ガラスを提供する。
【解決手段】アルカリ金属酸化物を含まない無鉛低融点ガラスであって、酸化物換算で、Bi2O3を55〜75重量%、SiO2を15〜35重量%、ZrO2 を1〜10重量%、BaO、MgO、CaO及びSrOからなる群から選ばれた少なくとも一種を合計で1〜10重量%、B2O3 を0〜2重量%、Al2O3 を0〜5重量%、TiO2 を0〜5重量%含有し、且つ、(SiO2、ZrO2、Al2O3及びTiO2の合計量)/(BaO、MgO、CaO、SrO及びB2O3の合計量)(重量比)=2〜6である、軟化点が600℃以下の低融点ガラス。
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焼結体およびその製造方法、光触媒、ガラス粉粒体混合物、並びに、スラリー状混合物
【課題】ガラスを原料として、2種以上の異なる光触媒化合物を必要十分な量で含有し、優れた光触媒活性を有する光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 焼結体の製造方法は、組成が異なる2種以上のガラス粉粒体を混合して混合物を作製する工程と、混合物を加熱し、光触媒活性を有する結晶を含むガラスセラミックスの焼結体を作製する工程と、を備えている。得られる焼結体は、TiO2結晶、WO3結晶、ZnO結晶、RnNbO3結晶、RnTaO3結晶(ここで、Rnはアルカリ金属を意味する)、及びこれらの固溶体からなる群より選択される2種以上の結晶を含むことができる。
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貫通電極付きガラス板の製造方法および電子部品
【課題】電子基板として適する貫通電極を有するガラス板を製造する方法であって、貫通電極を精度よく、且つ高密度に形成できる方法を提供する。
【解決手段】波長λのレーザパルス11をレンズで集光してガラス板12に照射し、レーザパルス11が照射された部分に変質部13を形成する工程と、ガラス板12に対するエッチングレートよりも変質部13に対するエッチングレートが大きいエッチング液を用いて少なくとも変質部13をエッチングしてガラス板12に孔を形成する工程と、貫通電極を構成する導電性材料を前記孔の内部に配置する工程とを含む製造方法とする。レーザパルス11のパルス幅は1ns〜200nsの範囲にあり、波長λは535nm以下、波長λにおけるガラス板12の吸収係数は50cm-1以下、レンズの焦点距離L(mm)をレンズに入射する際のレーザパルス11のビーム径D(mm)で除した値は7以上とする。
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LAS系結晶性ガラスの製造方法
【課題】ガラス溶融時におけるハロゲンの清澄能力を高めることで、泡品位に優れたLAS系結晶性ガラスを得る方法を提供する。
【解決手段】原料バッチを溶融することにより、組成として質量%で、SiO2 55〜75%、Al2O3 17〜27%、Li2O 3〜6%、MgO 0〜2%、ZnO 0〜2%、TiO2 2〜5.5%、ZrO2 0〜3%、希土類酸化物 0.03〜1%、ハロゲン 0.01〜0.2%を含有し、実質的にAs2O3およびSb2O3を含有しないLAS系結晶性ガラスを製造するための方法であって、原料バッチ中に希土類酸化物を0.03〜1%かつハロゲンを0.05〜1%含有することを特徴とするLAS系結晶性ガラスの製造方法。
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ガラス板
【課題】530〜570℃の歪点を有し、且つガラス板中のアルカリ成分と電極が反応し難いガラス板を創案し、ディスプレイの低価格化を推進すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量%で、SiO2 55〜70%、Al2O3 0〜6%未満、MgO 0〜8%、CaO 0〜8%、SrO 10〜20%、BaO 0〜8%、SrO+BaO(SrO、BaOの合量) 10〜25%、MgO+CaO+SrO+BaO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 10〜30%、Na2O 1〜9%未満、K2O 6超〜15%、Na2O+K2O(Na2O、K2Oの合量) 9〜15%、ZrO2 0〜5%、Al2O3+ZrO2(Al2O3、ZrO2の合量) 0〜6%未満を含有し、且つ歪点が530〜570℃であることを特徴とする。
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反射防止膜付き防火保護板ガラス、反射防止膜付き防火保護合わせガラス、および特定防火設備
【課題】透過する画像にゆがみが生じない反射防止膜付き防火保護板ガラス、反射防止膜付き防火保護合わせガラス、及びこれらの何れかを用いた特定防火設備を提供する。
【解決手段】反射防止膜付き防火保護板ガラス10は、30〜750℃の温度範囲において−10〜10×10−7/Kの平均線膨張係数を有する結晶化ガラス製の耐熱板ガラス11の透光面11a(11b)に、反射防止膜12が形成され、表面粗さのRa値が0.03μm以下であり、かつJIS R3106に規定の可視光反射率が0.4%以下である。また、反射防止膜付き防火保護合わせガラスは、複数枚の板ガラスの少なくとも1枚が、防火保護板ガラス10である。また、特定防火設備は、全ての遮炎有効部位の厚みが1.6mm以上の枠体の溝部に、防火保護板ガラス10が6.5mm以上のみ込まれており、枠体の溝部と防火保護板ガラス10の間が耐熱性の材料で封止されている。
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複合体、光触媒機能性部材、及び親水性成部材
【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備えるものであって、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル%で、TiO2成分を5.0%以上99.0%以下、並びに、SiO2成分、B2O3成分、P2O5成分及びGeO2成分からなる群より選択される1種以上を合計で1.0%以上85.0%以下含有し、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層の日本工業規格JIS R 1703−2:2007に基づくメチレンブルーの分解活性指数が3.0nmol/L/min以上である。
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反応性セラミック化によるゼノタイムセラミックの製造
YP−ガラスとY原料物質との反応を含む、YPO4セラミックを製造するための反応性セラミック化方法。本発明は、とりわけ、比較的低温、比較的短時間、および低コストで、純粋相のYPO4セラミック材料を合成するのに用いることができる。本発明は、例えば、大きい寸法のガラスシートを製造するためのフュージョンダウンドロー法におけるアイソパイプに適した大きいYPO4ブロック片の製造に使用することができる。
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TiO2を含有するシリカガラスおよびその製造法
【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるTiO2を含有するシリカガラスの製造方法の提供。
【解決手段】TiO2を含有するシリカガラスの製造方法であって、(a)ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質ガラス体を形成する工程と、(b)多孔質ガラス体をフッ素含有雰囲気下にて保持し、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、(c)フッ素を含有した多孔質ガラス体を、透明ガラス化温度まで昇温して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程と、(d)フッ素を含有した透明ガラス体を、軟化点以上の温度に加熱して所望の形状に成形し、フッ素を含有した成形ガラス体を得る工程と、(e)成形ガラス体を500℃を超える温度にて5時間以上保持した後に500℃まで10℃/hr以下の平均降温速度で降温するアニール処理を行う工程、を含む製造方法。
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高温ガラスソルダー及びその使用
【課題】約1100℃以下のろう付け温度で加工でき、かつろう付け工程の終了後に約900℃までの作動温度で使用できる高温度用ガラスソルダーを提供する。
【解決手段】20℃〜300℃の温度範囲での線熱膨張α(20-300)を8×10-6K-1〜11×10-6K-1の範囲で有し、質量%で10〜45%未満のBaO、0〜25%のSrO(20〜65%のBaO+SrO)、10〜31%のSiO2、2%未満のAl2O3、0〜10%のCs2O、0〜30%のRO、0〜30%のR2O3、0〜20%のR2Oからなるガラスソルダー。(ROはアルカリ土類金属酸化物、R2O3はB2O3等からなる酸化物、R2OはTi2O等の酸化物からなる。)
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高い弾性率を有するアルミノケイ酸リチウムガラス及びその製造方法
本発明は、アルミノケイ酸リチウムガラス及びアルミノケイ酸リチウムガラスを製造する方法に関し、該ガラスは、(mol%で)以下の組成:60〜70 SiO2、10〜13 Al2O3、0.0〜0.9 B2O3、9.6〜11.6 Li2O、8.2〜<10 Na2O、0.0〜0.7 K2O、0.0〜0.2 MgO、0.2〜2.3 CaO、0.0〜0.4 ZnO、1.3〜2.6 ZrO2、0.0〜0.5 P2O5、0.003〜0.100 Fe2O3、0.0〜0.3 SnO2、0.004〜0.200 CeO2を有する。以下の比率及び条件:(Li2O+Al2O3)/(Na2O+K2O)>2、0.47<Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)<0.70、0.8<CaO+Fe2O3+ZnO+P2O5+B2O3+CeO2<3(式中、6つの酸化物のうち少なくとも4つが含まれる)が、本発明によるガラスに適用される。このようなアルミノケイ酸リチウムガラスは、少なくとも82GPaの弾性率を有する。その上、それは、540℃未満のガラス転移温度Tg及び/又は1150℃未満の加工温度を有する。ガラスは、フロートプロセスを用いた成形に好適であり、少なくとも550N/mm2の曲げ強度を有し得るように化学的及び/又は熱的に強化することができる。 (もっと読む)
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