【課題】 ガラス原料中のＳ量を制限しなくても、泡品位に優れた珪酸塩ガラス、特にＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスの作製に用いられるＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶性ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 Ｓ含有量をＳＯ_３換算で１５ｐｐｍ以上含有するガラス原料を用いて珪酸塩ガラスを製造する珪酸塩ガラスの製造方法であって、平均粒径４５〜１８０μｍのＳｉＯ_２原料を使用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 固体撮像装置に使用するカバーガラスをイオン交換するに際し、その処理時間を短縮できるため、生産性を向上することが可能な強化ガラス基板と、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の強化ガラス基板の製造方法は、アルカリ金属酸化物を含有し、３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が３０〜１００×１０^−７／℃のガラスとなるように原料を調製する工程、該原料を溶融容器内で溶融した後、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成形する工程、成形した板状ガラスをイオン交換することによって、その表面に圧縮応力層を形成する工程、からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】固体レーザー媒質としての使用に好適なアルミノホウケイ酸塩をベースとしたガラス組成物を提供する。
【解決手段】アルミノホウケイ酸塩をベースとしたガラスはレーザー発振イオン用の希土類イオンの発光帯域幅を示す。完全には分かっていないが、発光帯域幅を拡大することは、ガラスマトリックス中の有効量のランタニドイオンの存在によって達成されると考えられる。加えて、ヤング率、破壊靭性及び硬度の高い値のために、透明な防弾窓材料としても好適である。 （もっと読む）

【課題】高強度と視域制御機能を両立し得るガラス板を創案することにより、３Ｄディスプレイの高精細化、高輝度化、低消費電力化に寄与すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、アルカリ金属酸化物（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの一種又は二種以上） ０〜２５％、アルカリ土類金属酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの一種又は二種以上） ０〜１５％を含有し、且つ二次元ディスプレイの一部又は全部を覆う視域制御部材に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 耐ソーラリゼーションに優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 重量で、Ｐ₂Ｏ₅ ５〜６０％、ＴｉＯ₂ ０〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜２０％、ＳｉＯ₂ ０〜３０％、Ｎｂ₂Ｏ₅ ５〜６０％、Ｔａ₂Ｏ₅ ０〜２０％、ＷＯ_３ ０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＺｒＯ₂ ０〜 ５％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜 ５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜２０％、Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃ ０〜２０％、ＺｎＯ ０〜２０％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０〜３５％、ただし、Ｌｉ₂Ｏ ０〜 ８％、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０〜３５％、および上記金属元素の１種または２種以上の酸化物の一部または全部と置換した弗化物（Ｆ）として合計０〜８％含有する光学ガラスにおいて、ＭｏＯ_３の含有量を測定し、ＭｏＯ₃の含有量が重量で３０ｐｐｍを超える場合は、ＭｏＯ_３の含有量を重量で３０ｐｐｍ以下に減少させる。 （もっと読む）

【課題】 ６００℃以下の温度で焼成することができ、焼成時に分相せず、Ａｇ電極との反応による黄変が少なく、高い透過率と低い誘電率を有する誘電体層を得ることが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体材料及びそれを用いて形成された誘電体層を備えてなるプラズマディスプレイパネル用ガラス板を提供することである。
【解決手段】 本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス粉末からなるプラズマディスプレイパネル用誘電体材料であって、該ガラス粉末が、実質的にＰｂＯを含まず、モル百分率で、Ｂ_２Ｏ_３ ２６〜４５％、ＳｉＯ_２ ４２超〜５７％、Ａｌ_２Ｏ_３ １〜８％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ １〜１５％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ４〜２０％、ＺｎＯ ０〜５％、ＣｕＯ＋ＭｏＯ_３＋ＣｅＯ_２＋ＭｎＯ_２＋ＣｏＯ ０〜６％含有するガラスからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】より均一な濃度分布を有する金属ドーパントを含有する石英ガラス体を製造する方法を提供する。
【解決手段】ケイ素化合物と、ドーパントとなる金属を含む化合物と、をバーナーの火炎中で加水分解してガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を基材に堆積、成長させる工程を含むガラス体を製造する方法であって、ケイ素化合物のガス、ドーパントとなる金属を含む化合物のガス、並びに、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの一方を含む、原料混合ガスをバーナーの中央に位置する中央ノズル（Ａ）に供給し、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの他方のガスを、バーナーの中央ノズルとは異なるノズル（Ｂ）に供給し、さらにノズル（Ａ）、（Ｂ）とは異なるノズルに、任意に可燃性ガス又は支燃性ガスを供給することからなり、原料混合ガスの流速は、中央ノズル（Ａ）以外のノズルから供給される可燃性ガス又は支燃性ガスのうち、最大の流速のものの５０％以上９０％以下であることを特徴とする、ガラス体を製造する方法を開示する。 （もっと読む）

【課題】レーザ封着に代表される光加熱封着に適用する際に、広い波長域で十分な光吸収率を有すると共に、封着温度を低温化することを可能にした封着用ガラスを提供する。
【解決手段】封着用ガラスは、酸化物基準のモル％表示で、２７〜３３％のＰ₂Ｏ₅、５０〜７０％のＳｎＯ、０．５〜３％のＴｅＯ₂、０〜１０％のＺｎＯ、０〜５％のＣａＯ、０〜５％のＳｒＯ、０〜５％のＢ₂Ｏ₃、０〜５％のＧａ₂Ｏ₃、０〜３％のＧｅＯ₂、０〜３％のＩｎ₂Ｏ₃、０〜３％のＬａ₂Ｏ₃、及び０〜３％のＷＯ₃を含むガラス組成物からなる。封着用ガラスはレーザ光等の光ビームで加熱する封着工程に適用され、電子デバイス１の封着層６の形成に使用される。 （もっと読む）

【課題】所定の光学定数を有し、ガラス転移温度が低く、ＩＳＯ試験法耐酸性に優れ、
液相温度における粘度が高く、透過率に優れ、精密プレスモールド成形に適した光学ガラ
スの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光学ガラスの製造方法は、ＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅、ＷＯ_３、ＴｉＯ_２、ＺｎＯ、及びＬｉ₂Ｏを含有する原料を準備し、原料をるつぼに投入し、溶融し、徐冷することによって光学ガラスを得る工程を含み、光学ガラスは、屈折率（ｎ_d）が１．８５を超え、アッベ数（ν_d）が４０以上の範囲の光学定数を有し、必須成分として酸化物基準の質量％でＳｉＯ₂ ３〜８％、Ｂ₂Ｏ₃ ５〜１９．５％、Ｌａ₂Ｏ₃ １５〜５０％、Ｇｄ₂Ｏ₃ ０．１〜２５％、Ｔａ₂Ｏ₅ １０％を超え２５％、ＷＯ_３ １．５〜６％、ＴｉＯ_２ ０〜１％、ＺｎＯ ０．１％以上であり、Ｌｉ₂Ｏを含有し、実質的に鉛成分、ヒ素成分を含まず、ガラス転移温度（Ｔｇ）が６３０℃以下である。 （もっと読む）

【課題】 外観検査の自動化が容易であり、しかも清澄性及び半導体素子の封入性に優れた無鉛半導体封入用ガラスを創案することを技術的課題とする。
【解決手段】 １０^６ｄＰａ・ｓの粘度の温度が６７０℃以下であり、ガラス組成として、ＣｅＯ_２の含有量が０．０１〜６質量％であり、且つＳｂ_２Ｏ_３の含有量が０．１質量％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低温での信頼性に優れる封着性を維持しつつ、封着後のガラス（封着部）の耐候性を向上させた封着用ガラスを提供する。
【解決手段】封着用ガラスは、酸化物基準のモル％表示で、３０〜３３％のＰ₂Ｏ₅と、６３〜６９％のＳｎＯと、０〜３％のＺｎＯと、０．１〜３％のＷＯ₃、ＴｅＯ₂、ＧｅＯ₂、Ｇａ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、ＣａＯ、及びＳｒＯからなる群より選ばれる少なくとも１種とを含むガラス組成物からなり、ガラス転移温度が２５０℃以下である。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、ＳｉＯ_２成分と、Ｔａ_２Ｏ_５成分、Ｎｂ_２Ｏ_５成分、Ｎａ_２Ｏ成分及びＢａＯ成分からなる群から選択される１種以上と、を含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６０×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５５７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００３４０×ν_ｄ＋０．７００００）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いプリフォーム材をより安価に得られる光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５０．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％を含有し、Ｔａ_２Ｏ_５成分の含有量が５．０％以下である。プリフォーム材は、この光学ガラスからなる。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】高屈折率で低温軟化性を有し、かつ平均熱膨張係数の小さなガラス組成物、および基板上にそれを具備する部材を提供する。
【解決手段】本発明のガラス組成物は、屈折率（ｎ_ｄ）が１．８８以上２．２０以下、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）が４５０℃以上５１５℃以下、および５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）が６０×１０^−７／Ｋ以上９０×１０^−７／Ｋ以下であって、Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量は酸化物基準のモル％表示で５〜３０％であり、ＺｎＯの含有量は酸化物基準のモル％表記で４〜４０％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】主表面と、端面とで構成されるエッジ部が鋭利な形状とならず、しかも機械的強度が高い携帯機器用カバーガラスのガラス基材を提供する。
【解決手段】板状のガラス基板１をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、主表面１１，１２及び端面１３を持つ携帯機器用カバーガラスのガラス基材１であって、前記主表面１１，１２と前記端面１３とで構成されるエッジ部１４は、ＵＬ（Underwriters Laboratories）−１４３９に準拠するシャープエッジテストで表面から２層が切断されないエッジであり、前記ガラス基材１は、イオン交換処理により化学強化されたガラスとする。 （もっと読む）

【目的】本発明は、バナジウムを主成分とする導電性ガラスの微粉末を製造する、バナジン酸塩ガラスの微粉末の製造方法および製造装置に関し、簡易な製造方法かつ多量かつ安価にナノサイズレベルの微粉末を製造することを目的とする。
【構成】導電性ガラスのバルクから製造した粉末を、当該粉末が溶解する溶液中に入れて超音波を印加して粉末同士の凝集を防止して微粉末化を均一かつ促進する微粉末化ステップを有する導電性ガラスの微粉末の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】導体形成用としてより優れた特性を発揮できるＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３系結晶化ガラス組成物を提供する。
【解決手段】モル％で１）ＳｉＯ_２：７〜１７％、２）Ｂ_２Ｏ_３：３０〜４０％、３）ＺｎＯ：４０〜５０％ならびに４）Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏ少なくとも１種：６〜１３％を含むことを特徴とする導体形成用無鉛ガラス組成物に係る。 （もっと読む）

【課題】溶融ガラスＭによる耐熱容器１の損傷を効果的に抑制することができるガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス原料を耐熱容器１に入れて炉内で溶融する溶融工程と、耐熱容器１内の溶融ガラスＭを炉外で撹拌する撹拌工程と、を含むガラスの製造方法において、炉から取り出した耐熱容器１を、この耐熱容器１の外側面を支える支持部材２を介して底部１２を浮かせた状態で載置面３の上方に載置して撹拌工程を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】加熱される金属素材の表面にスケールが生成されるのを従来よりも抑制できる酸化防止剤を提供する。
【解決手段】軟化点の異なる複数のガラスフリットと、６００℃以下の融点を有する無機化合物とを含有する酸化防止剤。無機化合物は、主として６００℃前後の低温域で軟化する。複数のガラスフリットは、主として６００℃〜１３００℃の温度域で軟化する。そのため、酸化防止剤は、広い温度域で金属素材表面を覆い、金属素材表面が酸化してスケールを生成するのを抑制する。 （もっと読む）

【課題】 ＭＥＭＳ（マイクロエレクトロニクスメカニカルシステム）などの製造に好適な、シリコンウエハなどと低温で陽極接合が可能なガラスを提供すること。さらに好ましくは低温かつ低電圧で陽極接合が可能なガラスを提供すること。
【解決手段】 酸化物基準のモル％で０．１％〜２０％のＮａ_２Ｏ、０．１％〜５０％のＰ_２Ｏ_５の各成分を含有する陽極接合用ガラス。より好ましくは酸化物基準のモル％で、３０％〜９０％のＳｉＯ_２、０％〜５０％のＢ_２Ｏ_３、０％〜５０％のＡｌ_２Ｏ_３の各成分を含有する請求項１に記載の陽極接合用ガラス。 （もっと読む）