特に約１９３ｎｍで低フルエンス依存性透過率を持つ合成シリカ材料およびその製造方法が本願に開示されている。このガラスは、約２４８ｎｍで稼働されたときに、２９０および３９０ｎｍで低レベルの蛍光を発することが望ましいであろう。このガラスは、低レベルのＬＩＷＦＤ、［ＳｉＨ^*］および／または［ＯＤＣ］を示すことが望ましいであろう。
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【課題】 鉛を含有しないにもかかわらず、十分に低融点で、耐水性・耐久性にも優れ、安価に製造可能な低融点封着ガラス及び低融点封着剤を開発する。
【解決手段】 鉛を含有しないリン酸スズガラスであって、Ｐ_２Ｏ_５を２６．５〜２７．５mol％、Ａｌ_２Ｏ_３を１．５〜２．５mol％、ＳｎＯを７０．５〜７１．５mol％含有することを特徴とする低融点封着ガラスである。Ｐ_２Ｏ_５量を極力抑え、ＳｎＯを多量に配合すると共にＡｌ_２Ｏ_３を少量加えることで低融点と高い耐水性・耐久性を実現している。低融点封着ガラスの粉末にペースト化剤を加えて低融点封着剤とする場合、ペースト化剤はエチレングリコール、ポリエチレングリコール又はグリセリンとすることが、緻密なガラス層が形成できて好ましい。 （もっと読む）

【課題】鉛、すなわち環境に有害な物質を排除したシーリングガラス組成物、また、同物質を用いたフラットパネルディスプレイ装置を提供すること。
【解決手段】本発明のシーリングガラス組成物は、Ｓｂ₂Ｏ₃２０モル％乃至５０モル％、Ｂ₂Ｏ₃３０モル％乃至７０モル％、ＳｉＯ₂５モル％乃至１５モル％、及びＡｌ₂Ｏ₃０モ
ル％乃至１５モル％を含む。本発明のフラットディスプレイ装置は前面パネルと背面パネルを有し、それらはその間に所定の間隔を有してシーリングガラス組成物と一緒に組み合わせられる。 （もっと読む）

本発明は、β−石英および／またはβ−スポジュメンの新規のガラスセラミック、新規のガラスセラミックから製造された物品、新規のガラスセラミックの前駆体であるリチウムアルミノシリケートガラス、新規のガラスセラミックおよび新規のガラスセラミックから製造された物品を調製する方法に関する。本発明は、ガラスセラミックのガラス前駆体の清澄剤としてのＳｎＯ₂およびＢｒの同時使用に関する。 （もっと読む）

【課題】 寸法精度の高い画像表示装置用スペーサを提供する。
【解決手段】 下記Ａ成分〜Ｅ成分を有し、ガラス転移点温度が５５０℃以上で、熱膨張係数が７４〜９４×１０^-7／℃で、且つ、屈服点とガラス転移点との温度差が５０℃以上であるガラス基材をスペーサとする。Ａ成分：３０〜６０ｗｔ％のＳｉＯ₂、Ｂ成分：２〜２０ｗｔ％のＢ₂Ｏ₃、Ｃ成分：０〜２０ｗｔ％のＭｇＯ、０〜３０ｗｔ％のＣａＯ並びにそれぞれ０〜５０ｗｔ％のＳｒＯ及びＢａＯから選択されるいずれか一種又は二種以上の合計量が２０〜６０ｗｔ％、Ｄ成分：それぞれ０〜１０ｗｔ％のＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ及びＣｓ₂Ｏから選択されるいずれか一種又は二種以上の合計量が０．６〜１５ｗｔ％、Ｅ成分：０〜１５ｗｔ％のＡｌ₂Ｏ₃、０〜１５ｗｔ％のＺｎＯ、０〜１０ｗｔ％のＺｒＯ₂及び０〜３０ｗｔ％のＬｎ₂Ｏ₃（但し、ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ、Ｙｂを示す）から選択される一種又は二種以上。 （もっと読む）

固体酸化物燃料電池における絶縁接合部として特に有用である、頻繁な熱サイクルを受ける高温作動環境において気密性のままである、二つの部品の間に形成されるシール。第一の金属部品が補強材に取り付けられる。ガラス形成材料が第一の金属部品と第二の部品との間に配置され、ガラスを、ガラス形成材料を溶融させるのに適した温度まで加熱することにより、第一の金属部品と第二の部品との間にシールが形成される。ガラスは、補強材の少なくとも一部を封入および結合し、それによってシール全体に大きな強度を付与する。セラミック材料をガラス形成材料に添加して、第一の金属部品と第二の部品との間の絶縁バリヤの形成を支援し、加熱工程中のガラスの粘度を調整することもできる。

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本発明は、その化学組成が、別途定められる範囲内で下記の成分（質量百分率で表した）、すなわちSiO₂を58〜72質量％、TiO₂を0.8〜3質量％、B₂O₃を2〜15質量％、Al₂O₃を10〜25質量％、CaOを5〜12質量％、MgOを0〜3質量％、BaOを0〜6質量％、SrOを0〜4質量％、ZnOを0〜3質量％、およびR₂Oを0〜1質量％含むガラス基板に関する。 （もっと読む）

フラットパネルディスプレイ装置、例えば、アクティブマトリクス型液晶ディスプレイ（ＡＭＬＣＤ）用の基板を製造するために使用できるガラスが開示されている。そのガラスは、１．０モルパーセントから３．０モルパーセントの範囲にあるＭｇＯ濃度および１．００以上のΣ［ＲＯ］／［Ａｌ₂Ｏ₃］比を有し、ここで、［Ａｌ₂Ｏ₃］は、Ａｌ₂Ｏ₃のモルパーセントであり、Σ［ＲＯ］はＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯおよびＢａＯのモルパーセントの合計と等しい。これらの組成の特徴は、前記ガラスを製造するために用いられるバッチ材料の溶融特性を改善することが分かっており、これにより転じて、ガラスを、環境によりやさしい清澄剤、例えば、ヒ素および／またはアンチモンではなくスズで清澄（精錬）することができる。
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マイクロリソグラフィ用、特に液浸リソグラフィ用の投影レンズ（５）は１９０ｎｍを超える動作波長用に設計され、このレンズは、５０ｐｐｍ未満の、特に１０ｐｐｍと５０ｐｐｍとの間のＯＨ含有率と、および１．５×１０^１６と２×１０^１８分子／ｃｍ^３との間の、好ましくは２×１０^１６と１×１０^１８分子／ｃｍ^３との間の、特に５×１０^１６と２×１０^１７分子／ｃｍ^３との間の水素含有量とを有する石英ガラスから作製された少なくとも１つの光学素子を備え、この光学素子は、液浸リソグラフィ用のマイクロリソグラフィ露光装置（１）の中の投影レンズ（５）の端部素子（１４）であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 画像表示装置の表示パネルにおけるスペーサを固定するためのＰｂフリーの導電性接合材のための導電性ガラス組成物を提供する。
【解決手段】 ＭＶｘＯｙ（M：Ａｇ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｌｉ，Ｓｒ，Ｃａ）、（x：１〜１０，y：２〜３０）を含有する。ＭＶｘＯｙとして、例えば、ＡｇＶ₇Ｏ₁₈またはＡｇ₂Ｖ₄Ｏ₁₁を用いる。 （もっと読む）

【課題】パネル軽量化のために密度を低くし、かつ、耐熱衝撃性を上げるために熱膨張係数を低くしても、化学的耐久性が高い高歪点のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】歪点が５８５℃以上、密度が２．６５ｇ／ｃｍ³以下、熱膨張係数が６０×１０^-7／℃以上７５×１０^-7／℃未満であり、ＪＩＳ−Ｒ３５０２に準拠した方法で測定されるアルカリ溶出量が０．３ｍｇ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 化学的耐久性、低熱膨張性、高歪み点、低比重、高ヤング率などの特性を有し、しかも泡などの欠陥が少なく製造安定性に優れる無アルカリガラスを提供する。
【解決手段】 30〜300℃における平均熱膨張係数が30〜35×10^-7/℃、歪み点が670℃以上、ヤング率が70ＧＰａ以上、比重が2.4未満、液相温度が1200℃未満、10^1.5Ｐａ・ｓの粘度を示す温度が1600℃未満、50℃の濃度1モル/Ｌの硝酸水溶液に50時間浸漬した際の質量減少が1ｍｇ/ｃｍ²未満である無アルカリガラス、および実質的にＢａＯ、ＺｎＯおよびＰｂＯを含まず、ＳｉＯ₂ 65.0〜70.0モル％、Ａｌ₂Ｏ₃ 9.5〜12.5モル％、Ｂ₂Ｏ₃ 8.5〜11.5モル％(ただし、ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃＋Ｂ₂Ｏ₃ 87.5〜90.0モル％)、Ｂ₂Ｏ₃/(ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃) 0.12〜0.14、ＭｇＯ 2.5〜4.0モル％未満、ＣａＯ 5.0〜10.0モル％、ＳｒＯ 0.1〜2.5モル％(ただし、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ 10.0〜12.5モル％)を含む無アルカリガラスである。 （もっと読む）

【課題】
当該誘電体前駆層転写用フィルム自体及びこのフィルムから得られるプラズマディスプレイパネルが環境を汚染する恐れが無いプラズマディスプレイパネル用誘電体前駆層転写フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】
透明支持フィルム、及びその表面上に設けられたガラスフリット及びバインダ樹脂を含むプラズマディスプレイパネル用誘電体層の前駆層を含むプラズマディスプレイパネル用誘電体前駆層転写用フィルムであって、ガラスフリットがその骨格成分中に鉛及び／又は鉛化合物を含まず、且つバインダ樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）が４５℃以下であること特徴とするプラズマディスプレイパネル用誘電体前駆層転写用フィルム。 （もっと読む）

【課題】 画像表示装置の表示パネルにおけるスペーサを固定するためのＰｂフリーの導電性接合材を提供する。
【解決手段】 Ｖ₂Ｏ₅を主成分とするガラスに、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｕ、Ｆｅ−Ｎｉ合金のうちの何れかの金属粒子又は導電性セラミックス粒子の１又は２以上を含有する。導電性セラミックス粒子は、ＴｉＣ、ＳｉＣ、ＷＣ、ＺｎＯ、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＦｅＯ、Ｆｅ₃Ｏ₄であり、金属粒子又は導電性セラミックス粒子の含有率は１０乃至５０体積％とした。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板電極を被覆したときにその電極近傍に大きな泡が残存しにくくなるもの、または結晶が析出しにくいものの提供。
【解決手段】軟化点が６５０℃以下かつ１５０℃における比抵抗が１０^１２Ω・ｃｍ以上でありＰｂＯおよびＢｉ_２Ｏ_３のいずれも含有しない酸化物ガラスからなり、ＺｎＯを含有しない、またはＺｎＯを含有する場合その含有量が１０モル％以下である電極被覆用ガラス。前記電極被覆用ガラスであって、そのガラスの質量平均粒径が５μｍ以下である粉末について（軟化点−５０℃）以上（軟化点＋３０℃）以下の温度に３０分間保持する焼成を行ったときに結晶析出が認められない電極被覆用ガラス。５０〜３５０℃における平均線膨張係数が７０×１０^−７〜９０×１０^−７／℃である前記電極被覆用ガラス。１ＭＨｚにおける比誘電率が９以下である前記電極被覆用ガラス。 （もっと読む）

【課題】 電子部品実装用基板、電子デバイス用基板、液晶セルおよび光学素子に用いられる、化学的耐久性、低膨張性、耐熱性、高透過性、高強度性、軽量性などに優れる無アルカリガラスからなるガラス部材を提供する。
【解決手段】 （ａ）電子部品実装用基板を作製するためのガラス基板、（ｂ）半導体基板と接合するためのガラス基板、（ｃ）液晶表示装置における、駆動基板に対向して配置するための対向用ガラス基板、または（ｄ）光学素子用窓材からなるガラス部材であって、３０〜３００℃における平均熱膨張係数が３０〜３５×１０^−７／℃、歪み点が６７０℃以上、ヤング率が７０ＧＰａ以上、比重が２．４未満、液相温度が１２００℃未満、１０^１．５Ｐａ・ｓの粘度を示す温度が１６００℃未満、５０℃の濃度１モル／Ｌの硝酸水溶液に５０時間浸漬した際の質量減少が１ｍｇ／ｃｍ^２未満である無アルカリガラスからなるガラス部材である。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材の表面の少なくとも一部分に結晶化層を積層している結晶化層積層ガラス、およびガラス基材の表面に積層された結晶化層の少なくとも一部分の厚みが他の部分とは異なっている結晶化層積層ガラス、および結晶化層積層ガラスを用いた磁気ディスク用ガラス基板、および端面部位の少なくとも一部に結晶化層を持つ磁気ディスク用ガラス基板の提供。
【解決手段】ガラスの母材となる出発原料と必要に応じて添加剤とを所定量電子天秤にて計量して混合して、るつぼで溶融し冷却してガラスとし、再加熱によりガラス表面に結晶化層を積層させて、主表面を部分的に研磨することにより結晶化層積層ガラスを製造する。これを用いて磁気ディスク用ガラス基板などとする。 （もっと読む）

本発明は、ＳｉＯ_２：５５〜７０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３：０〜１重量％、ＺｒＯ_２：０．１〜５重量％、Ｎａ_２Ｏ：０．１〜５重量％、Ｋ_２Ｏ：７〜１３重量％、ＭｇＯ：７〜１４重量％、ＣａＯ：０〜４重量％、ＳｒＯ：７〜１２重量％及びＳＯ_３：０．０１〜０．５重量％を含むガラス基板組成物に関する。上記組成物を使用して製造されたガラス基板は変形点が５７０℃以上であるので、高温の焼成にも熱変形が少なく、溶融温度が１４６０℃未満であることから、燃料費増加及び耐火物寿命短縮などの不利な点がなく、５０〜３５０℃温度範囲で熱膨張係数が８０〜９５×１０^−７／℃を有する。従って、本発明に係るガラスは基板用に適する。 （もっと読む）

【課題】 繊維径の制御が可能で、巻き取り工程で切断しないバサルト長繊維を製造する。又、玄武岩（バサルト）原石に対し、網目状形成体、ガラス修飾体を形成・維持し、バサルト繊維の結晶化及び固着を抑制すること、及びバサルト繊維の耐熱性を従来の７５０℃から８５０〜９００℃まで大幅に向上させ、かつ従来品と比べて大幅な低コスト化を達成する。
【解決手段】 玄武岩を原料とし、該玄武岩を粉砕する工程と、該粉砕物を洗浄する工程と、該洗浄物を溶融する工程と、該溶融物を繊維化する工程と、該繊維を引き揃え、巻き取る工程とからなり、該溶融する工程における溶融物の温度が１４００〜１６５０℃であり、且つ溶融物の粘度をηとするとｌｏｇηが２．１５〜２．３５ｄＰａ・ｓ、より望ましくは２．２〜２．３ｄＰａ・ｓであることを特徴とするバサルト長繊維の製造方法。 （もっと読む）

【課題】近赤外領域において急峻な吸収端部とともに低い透過率を有し、かつ可視領域における非常に均一な高い透明性、そして高温及び高湿度に対する暴露条件下における優れた化学的耐久性を有するフィルターガラス用アルミノリン酸ガラスを提供すること。
【解決手段】ガラスを、酸化物基準で重量％で表して、６５〜８０のＰ_２Ｏ_５、４〜２０のＡｌ_２Ｏ_３、０〜＜５．５のＢ_２Ｏ_３、０〜２．１のＬａ_２Ｏ_３、０〜２．１のＹ_２Ｏ_３、０〜３のＳｉＯ_２、＞２〜１２．５のＬｉ_２Ｏ、０〜６のＮａ_２Ｏ、０〜４のＫ_２Ｏ、０〜２．５のＲｂ_２Ｏ、０〜２．５のＣｓ_２Ｏ、０〜７．９のＭｇＯ、０〜５のＣａＯ、０〜５のＳｒＯ、０〜１０のＢａＯ、０〜８のＺｎＯ、０〜５のＺｒＯ_２、５〜１５のＣｕＯ、そして０〜０．５のＶ_２Ｏ_５から構成し、また、アルカリ土類金属酸化物＋ＺｎＯの総和（ΣＲ'Ｏ）を＜１８とし、かつＣｕＯ＋Ｖ_２Ｏ_５の総和を５〜１５とする。 （もっと読む）