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光学ガラスの製造方法
【課題】 耐ソーラリゼーションに優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 重量で、P2O5 5〜60%、TiO2 0〜25%、B2O3 0〜20%、SiO2 0〜30%、Nb2O5 5〜60%、Ta2O5 0〜20%、WO3 0〜10%、Bi2O3 0〜10%、ZrO2 0〜 5%、Al2O3 0〜 5%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜20%、La2O3+Y2O3+Gd2O3 0〜20%、ZnO 0〜20%、Li2O+Na2O+K2O 0〜35%、ただし、Li2O 0〜 8%、Na2O+K2O 0〜35%、および上記金属元素の1種または2種以上の酸化物の一部または全部と置換した弗化物(F)として合計0〜8%含有する光学ガラスにおいて、MoO3の含有量を測定し、MoO3の含有量が重量で30ppmを超える場合は、MoO3の含有量を重量で30ppm以下に減少させる。
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珪酸塩ガラスの製造方法
【課題】 ガラス原料中のS量を制限しなくても、泡品位に優れた珪酸塩ガラス、特にLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスの作製に用いられるLi2O−Al2O3−SiO2系結晶性ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 S含有量をSO3換算で15ppm以上含有するガラス原料を用いて珪酸塩ガラスを製造する珪酸塩ガラスの製造方法であって、平均粒径45〜180μmのSiO2原料を使用することを特徴とする。
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中空状ガラス球用組成物
【課題】本発明は、中空状ガラス球を形成するガラスの溶融成形性を向上させ、且つアルカリ溶出量が極めて少なく、化学的耐久性が良好な中空状ガラス球用のガラス組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】中空状ガラス球を形成するガラスを
SiO2 :30〜55質量%
B2O3 :3〜7質量%
ZnO :10質量%超〜30質量%
Al2O3 :5〜16質量%
MgO :0〜10質量%
CaO :20〜35質量%
SrO :0〜10質量%
BaO :0〜10質量%
SO3 :0.75〜3.5質量%
の組成物を含み、該組成物の合計が95〜100質量%からなる実質的にアルカリを含有しないガラスとすること。
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強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
【課題】 固体撮像装置に使用するカバーガラスをイオン交換するに際し、その処理時間を短縮できるため、生産性を向上することが可能な強化ガラス基板と、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の強化ガラス基板の製造方法は、アルカリ金属酸化物を含有し、30〜380℃の温度範囲における熱膨張係数が30〜100×10−7/℃のガラスとなるように原料を調製する工程、該原料を溶融容器内で溶融した後、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成形する工程、成形した板状ガラスをイオン交換することによって、その表面に圧縮応力層を形成する工程、からなることを特徴とする。
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希土類アルミノホウケイ酸ガラス組成物
【課題】固体レーザー媒質としての使用に好適なアルミノホウケイ酸塩をベースとしたガラス組成物を提供する。
【解決手段】アルミノホウケイ酸塩をベースとしたガラスはレーザー発振イオン用の希土類イオンの発光帯域幅を示す。完全には分かっていないが、発光帯域幅を拡大することは、ガラスマトリックス中の有効量のランタニドイオンの存在によって達成されると考えられる。加えて、ヤング率、破壊靭性及び硬度の高い値のために、透明な防弾窓材料としても好適である。
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ガラス板
【課題】高強度と視域制御機能を両立し得るガラス板を創案することにより、3Dディスプレイの高精細化、高輝度化、低消費電力化に寄与すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量%で、SiO2 40〜80%、Al2O3 0〜30%、B2O3 0〜15%、アルカリ金属酸化物(Li2O、Na2O、K2Oの一種又は二種以上) 0〜25%、アルカリ土類金属酸化物(MgO、CaO、SrO、BaOの一種又は二種以上) 0〜15%を含有し、且つ二次元ディスプレイの一部又は全部を覆う視域制御部材に用いることを特徴とする。
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無鉛半導体封入用ガラス
【課題】 外観検査の自動化が容易であり、しかも清澄性及び半導体素子の封入性に優れた無鉛半導体封入用ガラスを創案することを技術的課題とする。
【解決手段】 106dPa・sの粘度の温度が670℃以下であり、ガラス組成として、CeO2の含有量が0.01〜6質量%であり、且つSb2O3の含有量が0.1質量%以下であることを特徴とする。
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封着用ガラス
【課題】低温での信頼性に優れる封着性を維持しつつ、封着後のガラス(封着部)の耐候性を向上させた封着用ガラスを提供する。
【解決手段】封着用ガラスは、酸化物基準のモル%表示で、30〜33%のP2O5と、63〜69%のSnOと、0〜3%のZnOと、0.1〜3%のWO3、TeO2、GeO2、Ga2O3、In2O3、La2O3、CaO、及びSrOからなる群より選ばれる少なくとも1種とを含むガラス組成物からなり、ガラス転移温度が250℃以下である。
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ガラス体を製造する方法及びEUVリソグラフィ用の光学部材を製造する方法
【課題】より均一な濃度分布を有する金属ドーパントを含有する石英ガラス体を製造する方法を提供する。
【解決手段】ケイ素化合物と、ドーパントとなる金属を含む化合物と、をバーナーの火炎中で加水分解してガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を基材に堆積、成長させる工程を含むガラス体を製造する方法であって、ケイ素化合物のガス、ドーパントとなる金属を含む化合物のガス、並びに、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの一方を含む、原料混合ガスをバーナーの中央に位置する中央ノズル(A)に供給し、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの他方のガスを、バーナーの中央ノズルとは異なるノズル(B)に供給し、さらにノズル(A)、(B)とは異なるノズルに、任意に可燃性ガス又は支燃性ガスを供給することからなり、原料混合ガスの流速は、中央ノズル(A)以外のノズルから供給される可燃性ガス又は支燃性ガスのうち、最大の流速のものの50%以上90%以下であることを特徴とする、ガラス体を製造する方法を開示する。
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光加熱封着用ガラス、封着材料層付きガラス部材、及び電子デバイスとその製造方法
【課題】レーザ封着に代表される光加熱封着に適用する際に、広い波長域で十分な光吸収率を有すると共に、封着温度を低温化することを可能にした封着用ガラスを提供する。
【解決手段】封着用ガラスは、酸化物基準のモル%表示で、27〜33%のP2O5、50〜70%のSnO、0.5〜3%のTeO2、0〜10%のZnO、0〜5%のCaO、0〜5%のSrO、0〜5%のB2O3、0〜5%のGa2O3、0〜3%のGeO2、0〜3%のIn2O3、0〜3%のLa2O3、及び0〜3%のWO3を含むガラス組成物からなる。封着用ガラスはレーザ光等の光ビームで加熱する封着工程に適用され、電子デバイス1の封着層6の形成に使用される。
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プラズマディスプレイパネル用誘電体材料
【課題】 600℃以下の温度で焼成することができ、焼成時に分相せず、Ag電極との反応による黄変が少なく、高い透過率と低い誘電率を有する誘電体層を得ることが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体材料及びそれを用いて形成された誘電体層を備えてなるプラズマディスプレイパネル用ガラス板を提供することである。
【解決手段】 本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、B2O3−SiO2系ガラス粉末からなるプラズマディスプレイパネル用誘電体材料であって、該ガラス粉末が、実質的にPbOを含まず、モル百分率で、B2O3 26〜45%、SiO2 42超〜57%、Al2O3 1〜8%、Na2O 0〜10%、K2O 1〜15%、Na2O+K2O 4〜20%、ZnO 0〜5%、CuO+MoO3+CeO2+MnO2+CoO 0〜6%含有するガラスからなることを特徴とする。
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ガラスの製造方法
【課題】溶融ガラスMによる耐熱容器1の損傷を効果的に抑制することができるガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス原料を耐熱容器1に入れて炉内で溶融する溶融工程と、耐熱容器1内の溶融ガラスMを炉外で撹拌する撹拌工程と、を含むガラスの製造方法において、炉から取り出した耐熱容器1を、この耐熱容器1の外側面を支える支持部材2を介して底部12を浮かせた状態で載置面3の上方に載置して撹拌工程を行うようにした。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、SiO2成分と、Ta2O5成分、Nb2O5成分、Na2O成分及びBaO成分からなる群から選択される1種以上と、を含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.00160×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75573)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.00250×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00340×νd+0.70000)の関係を満たす。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いプリフォーム材をより安価に得られる光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB2O3成分を10.0〜50.0%、La2O3成分を5.0〜30.0%を含有し、Ta2O5成分の含有量が5.0%以下である。プリフォーム材は、この光学ガラスからなる。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とする。
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ガラス組成物および基板上にそれを具備する部材
【課題】高屈折率で低温軟化性を有し、かつ平均熱膨張係数の小さなガラス組成物、および基板上にそれを具備する部材を提供する。
【解決手段】本発明のガラス組成物は、屈折率(nd)が1.88以上2.20以下、ガラス転移温度(Tg)が450℃以上515℃以下、および50℃から300℃までの平均熱膨張係数(α50−300)が60×10−7/K以上90×10−7/K以下であって、Bi2O3の含有量は酸化物基準のモル%表示で5〜30%であり、ZnOの含有量は酸化物基準のモル%表記で4〜40%であることを特徴とする。
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携帯機器用カバーガラスのガラス基材
【課題】主表面と、端面とで構成されるエッジ部が鋭利な形状とならず、しかも機械的強度が高い携帯機器用カバーガラスのガラス基材を提供する。
【解決手段】板状のガラス基板1をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、主表面11,12及び端面13を持つ携帯機器用カバーガラスのガラス基材1であって、前記主表面11,12と前記端面13とで構成されるエッジ部14は、UL(Underwriters Laboratories)−1439に準拠するシャープエッジテストで表面から2層が切断されないエッジであり、前記ガラス基材1は、イオン交換処理により化学強化されたガラスとする。
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バナジン酸塩ガラスの微粉末の製造方法および製造装置
【目的】本発明は、バナジウムを主成分とする導電性ガラスの微粉末を製造する、バナジン酸塩ガラスの微粉末の製造方法および製造装置に関し、簡易な製造方法かつ多量かつ安価にナノサイズレベルの微粉末を製造することを目的とする。
【構成】導電性ガラスのバルクから製造した粉末を、当該粉末が溶解する溶液中に入れて超音波を印加して粉末同士の凝集を防止して微粉末化を均一かつ促進する微粉末化ステップを有する導電性ガラスの微粉末の製造方法である。
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導体形成用無鉛ガラス組成物
【課題】導体形成用としてより優れた特性を発揮できるZnO−B2O3系結晶化ガラス組成物を提供する。
【解決手段】モル%で1)SiO2:7〜17%、2)B2O3:30〜40%、3)ZnO:40〜50%ならびに4)Li2O、Na2O及びK2O少なくとも1種:6〜13%を含むことを特徴とする導体形成用無鉛ガラス組成物に係る。
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ディスプレイ装置用のガラスおよびガラス板
【課題】低温かつ短時間で化学強化できるディスプレイ装置用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を61〜72%、Al2O3を8〜17%、Li2Oを6〜18%、Na2Oを2〜15%、K2Oを0〜8%、MgOを0〜6%、CaOを0〜6%、TiO2を0〜4%、ZrO2を0〜2.5%含有し、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計R2Oが15〜25%、Li2Oの含有量とR2Oの比Li2O/R2Oが0.35〜0.8、MgOおよびCaOの含有量の合計が0〜9%であるディスプレイ装置用ガラス。
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固体撮像装置用カバーガラス
【課題】ガラスのヤング率が高く、またシリコンと広い温度範囲で熱膨張係数が近似したCSPにて製造される固体撮像装置に特に好適に使用できる固体撮像装置用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】質量%で、SiO2 56〜66%、Al2O3 9〜26%、B2O3 1〜11%、MgO 0〜6%、CaO 0〜6%、ZnO 4〜13%、Li2O 0〜4.0%、Na2O 0〜5.0%、K2O 0〜6.0%、ただし、Li2O+Na2O+K2O 1%以上を含有し、30〜300℃の範囲における平均熱膨張係数が30〜38×10−7K−1、ヤング率が78GPa以上の固体撮像装置用カバーガラスである。
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