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Fターム[4G062MM10]の内容

ガラス組成物 (224,797) | 分野・用途 (4,326) | 封着、接合 (360) | 非金属の (91)

Fターム[4G062MM10]に分類される特許

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【課題】電子部品において、製造歩留まり、性能及び信頼性が、実用上使用できる水準を満たす電子部品を提供することである。
【解決手段】電子部品電極用ガラス組成物は、金属粒子と、ガラス相とを有する電極がシリコン基板に形成された電子部品であって、該電極中の該ガラス相が少なくともバナジウム、アンチモン、及びホウ素の酸化物を含み、さらにリン、テルル、バリウム及びタングテンの酸化物のうち1種以上を含み、前記リンの含有量が、酸化物換算で10質量%未満であり、該ガラス中の鉛含有量が1000ppm以下である酸化物ガラスであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】480℃以上で一次焼成しても、失透することがなく、その後に供される二次焼成で良好な流動性および封着強度を確保することが可能なビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供すること。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、下記酸化物換算のモル%で、Bi 30〜50%、B 20〜35%、ZnO 10〜25%、BaO 1〜15%、BaO+SrO+MgO+CaO 3〜15%のガラス組成を含有し、且つモル分率でBi/B 1.0〜1.75(但し、1.75は含まない)、ZnO/(BaO+SrO+MgO+CaO) 1.0〜3.5の関係を満たすことに特徴付けられる。 (もっと読む)


【課題】従来の方法では排気工程を高温にできないため、低コストでかつ信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを得られなかった。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルの封着材は、前面板と、背面板とを対向配置して周囲を封着するためのプラズマディスプレイパネルの封着材であって、フィラー、フリットガラス、樹脂および有機溶剤を含み、前記フリットガラスは、酸化ビスマスを含む硼珪酸系ガラスであり、粒径が10nm以上1000nm以下であり、前記フィラーは、コージライト、フォルステライト、β−ユークリプタイト、ジルコン、ムライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化モリブデン、酸化スズ、酸化アルミニウム、石英ガラスの少なくともいずれかであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス組成物の焼成後に生じるベース基板との段差を平坦化して、キャビティの内部と外部の導通性を確保することができるガラスパッケージの製造方法、ガラスパッケージ、圧電振動子、発振器、電子機器、及び電波時計を提供する。
【解決手段】貫通孔21,22と金属芯材31との間に充填された結晶性ガラス体32は、酸化物換算の質量%表示でBi2360〜80%、SiO25〜20%、Al230.5〜8%、B230.5〜13%、及びZnO0〜12%を含有するビスマス系ガラス組成物を焼成により焼結してなるものであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】熱処理後に高い熱膨張係数を示すとともに、流動性に優れ、また、長期間に亘って高温に晒されても、接着箇所の気密性や接着性の低下や、ガラス成分の揮発が発生しにくい結晶性ガラス組成物を提供する。
【解決手段】熱処理によって、主結晶としてMgO系結晶を析出する結晶性ガラス組成物であって、ガラス組成としてモル%で、La+Nb+Y+Ta+Yb 0.1〜30%を含有し、かつ、RO(RはLi、NaまたはKを示す)およびPを実質的に含有しないことを特徴とする結晶性ガラス組成物。 (もっと読む)


【課題】本発明の技術的課題は、レーザ封着の際に、ガス成分が放出され難い封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。また、本発明の封着材料は、ガラス粉末を含む封着材料において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
従来のケイ酸塩系ガラスは熱伝導率が大きく、サーマルヘッドの低消費電力化が図れなかった。
【解決手段】
モル%で、Pを50〜68%、CeOを15〜39%、Bを2〜7%、Pr11を0.2〜0.5%含み、CeOに対するPのモル比が1≦P/CeO<4の関係を満たすリン酸塩系ガラス、またはPを50〜65%、CeOを5〜15%、Bを3〜8%、Alを0〜10%、BaOを0〜9%およびPr11を含み、CeOに対するPのモル比が4≦P/CeOの関係を満たすリン酸塩系ガラスは熱伝導率が小さいので、サーマルヘッドのグレーズ層に用いることにより低消費電力化が図れる。また、熱膨張係数がセラミックス基板と等しいので、セラミックス基板との剥離が起こりにくく、耐熱性に優れる。 (もっと読む)


【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が無機粉末と顔料を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が10〜35体積%であり、封着材料層の表面粗さRaが0.5μm未満であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】従来の低融点鉛ガラスと同等以下の焼成温度で軟化流動可能な無鉛ガラス組成物を提供する。また、その特性に加えて、良好な熱的安定性や良好な化学的安定性を有する無鉛ガラス組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る無鉛ガラス組成物は、成分を酸化物で表したときにAg2OとV2O5とTeO2とを少なくとも含有し、Ag2OとV2O5とTeO2との合計含有率が75質量%以上であることを特徴とする。好ましくは、10〜60質量%のAg2Oと、5〜65質量%のV2O5と、15〜50質量%のTeO2とを含有する。 (もっと読む)


【課題】電気化学セルを安定した状態で導電性接続部材に接合した接合構造を有する電気化学リアクターを提供すること。
【解決手段】本発明によって提供される電気化学リアクター(20)は、固体電解質を備える電気化学セル(10)と導電性接続部材(24)との接合が、該セルと該接続部材との直接的な接触を回避して該セルと該接続部材との間に配置された導電性接合材(30)を介して行われており、その接合材は、ガラスマトリックスと導電性粒子とを有し、ここで該ガラスマトリックスは酸化物換算の質量比で以下の組成:
SiO 60〜75質量%;
Al 5〜15質量%;
NaO及び/又はKO 15〜25質量%;
CaO及び/又はMgO 1〜5質量%;
から実質的に構成されている。 (もっと読む)


【課題】溶融性、成形性、耐失透性が高いと共に、複数回の熱処理工程を経ても、ガラス基板間の間隙寸法を均一化し得る封着用ガラスビーズ及びこれを用いた封着材料を創案する。
【解決手段】本発明の封着材料は、少なくともガラス粉末とガラスビーズとを含む封着材料において、ガラスビーズの平均粒子径D50が35〜270μmであり、ガラスビーズが、ガラス組成として、質量%で、SiO 50〜70%、Al 0〜10%、NaO+KO 1〜20%、MgO+CaO 0〜20%、SrO+BaO 3〜30%を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】原料の一部が未反応になる事態を防止しながら、従来よりも低温で作製可能であり、しかも封着材料等の熱膨張係数を適正に低下させ得る耐火性フィラーを創案する。
【解決手段】本発明の耐火性フィラーは、主結晶(最も析出量が多い結晶)として、ウイレマイトが析出している耐火性フィラーにおいて、組成として、モル%で、ZnO 50〜80%、SiO 10〜40%、Al 0.1〜10%を含有すると共に、ウイレマイト:Al系結晶の割合が、モル比で、100:0〜99:1であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料を創案することにより、有機EL素子パッケージを利用した有機ELデバイス等の長期信頼性を高める。
【解決手段】本発明の封着材料は、少なくともSnO含有ガラス粉末、耐火性フィラー、及び顔料を含む封着材料であって、(SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50)/(耐火性フィラーの平均粒径D50)比が0.6〜4であり、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 封着に適した流動性と、熱処理後に高い熱膨張係数を示すと共に、長期間に亘って高温に晒されても、接着箇所の気密性や接着性の低下や、ガラス成分の揮発による燃料電池の発電特性の劣化が起こり難く、安定した耐熱性を有する材料を提供することである。
【解決手段】 本発明の高膨張結晶性ガラス組成物は、モル%で、SiO 30超〜50%未満、MgO 10〜50%、BaO 5〜40%、CaO 0〜20%、SrO 0〜10%、B 0〜15%、ZnO 0〜15%、Al 0〜6%、ZrO 0〜3%、SnO 0〜3%からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 MEMS(マイクロエレクトロニクスメカニカルシステム)などの製造に好適な、シリコンウエハなどと低温で陽極接合が可能なガラスを提供すること。さらに好ましくは低温かつ低電圧で陽極接合が可能なガラスを提供すること。
【解決手段】 酸化物基準のモル%で0.1%〜20%のNaO、0.1%〜50%のPの各成分を含有する陽極接合用ガラス。より好ましくは酸化物基準のモル%で、30%〜90%のSiO、0%〜50%のB、0%〜50%のAlの各成分を含有する請求項1に記載の陽極接合用ガラス。 (もっと読む)


【課題】2枚のガラス基板間にスペーサを配置して封止する際に、レーザ封着によるスペーサやガラス基板のクラックや割れ等の発生を抑制することによって、封止性やその信頼性を高めた電子デバイスとその製造方法を提供する。
【解決手段】電子デバイスは、第1のガラス基板2と第2のガラス基板3とこれらガラス基板2、3間に設けられる電子素子部とを具備する。第1のガラス基板2と第2のガラス基板3との間は、スペーサ6と第1の封着層7と第2の封着層8とで封着される。第2の封着層8はレーザ光を吸収する第2の封着用ガラス材料のレーザ光による溶融固着層からなる。第2の封着層8はガラス基板2、3の積層方向を含む断面において、第1の封着層7と該積層方向に重ならないように配置されている。 (もっと読む)


【課題】二次焼成工程で良好に軟化流動した後に、結晶が十分に析出する結晶性封着材料を提供する。
【解決手段】ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラーを含む結晶性封着材料において、ビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、モル%で、Bi30〜40%、B15〜25%、ZnO30〜40%、CuO0〜25%、Fe0〜5%を含有し、且つ耐火性フィラーとして、ZnO含有耐火性フィラー及びコーディエライトを含むことを特徴とする結晶性封着材料。 (もっと読む)


【課題】耐熱性および耐候性に優れた半導体発光素子デバイス等の製品を製造することが可能な接合材料を提供する。
【解決手段】軟化点500℃以下のガラスフィルムからなることを特徴とする接合材料、および当該接合材料を複数の被接合部材間に設置し、接合材料の軟化点より低い温度で加熱接合することを特徴とする部材接合方法。 (もっと読む)


【課題】乗用車やトラック等に搭載されるパワー半導体装置は、エポキシ樹脂、シリカやアルミナ、フェライト複合体等の無機充填材からなる封止材により封止されているが、近年半導体装置の発熱が増加し、封止材が250℃の連続加熱または−50℃〜250℃の熱衝撃により半導体素子と封止材、および半導体素子が実装されているパッケージ内壁と封止材が剥離および封止するための封止材の厚みが1mm以上でもクラックが生じないガラスフリット複合材料およびそれを用いた半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、前記課題を解決すべくなされたものであり無機材料で耐熱性、絶縁性に優れた鉛を含有しないガラスフリット1〜30wt%、コージライト30〜90wt%、熱硬化性のシリコーン3〜40wt%、1〜1000ppmのアルカリ金属を含むシリカ1〜20wt%を含有する事を特徴とするガラスフリット複合材料。 (もっと読む)


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