【課題】半導体製造に用いられかつプラズマ耐食性に優れたドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料としてプラズマ耐食性に優れかつ２種以上のドープ元素を併せて０．１〜２０質量％含有するドープ石英ガラスをベルヌイ法で石英粉から製造する方法であって、前記石英粉が、２種以上のドープ元素を併せて０．１〜２０質量％含有し、前記ドープ元素が、Ｎ、Ｃ及びＦからなる群から選択される１種以上の第１の元素と、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選択される１種以上の第２の元素とを含む混合石英粉であり、該混合石英粉を加熱溶融落下させ石英ガラスインゴットを作成する際、該石英ガラスインゴット表面温度を、１８００℃以上に加熱するようにした。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れた伝熱性部材を提供する。
【解決手段】低軟化点を有する非晶質体（Ａ）を含むバインダから少なくとも形成された基材と、前記基材中に含有された熱伝導性粒子（Ｂ）とを有する伝熱性部材。前記バインダは、有機高分子材料を実質的に含まないことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±１０％以内の凹凸パターンを形成することができるＴｉＯ2含有石英ガラス基板の提供。
【解決手段】１５〜３５℃における熱膨張係数が±２００ｐｐｂ／℃以内であり、ＴｉＯ₂濃度が４〜９ｗｔ％であり、転写パターンを形成する側の基板表面から深さ５０μｍまでの表面近傍領域におけるＴｉＯ₂濃度分布が、±１ｗｔ％以内であることを特徴とするＴｉＯ₂含有石英ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】 樹脂と複合化した際に耐熱水性に優れたガラス繊維とさらにこのガラス繊維を用いたガラス繊維強化樹脂材を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明のガラス繊維は、質量％で、ＳｉＯ_２ ４５〜６５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ７〜１８％、Ｂ_２Ｏ_３ ３〜１１％、Ｒ_２Ｏ（但し、Ｒ_２ＯはＬｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合量を表す） ０〜０．２％、ＭｇＯ ０〜５％、ＣａＯ ５〜２７％、ＳｒＯ ０〜６％、ＢａＯ ０〜２％、の組成を含有し、質量比で、Ｒ_２Ｏ／ＳｉＯ_２が０．００５０以下、Ｂ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２が０．０５５〜０．１６０であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】熱的耐久性および機械的強度に優れ、かつ、外観として高級感があり、優れた意匠性を付与することが可能な結晶化ガラス物品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶性ガラス小体を集積し、熱処理により融着一体化かつ結晶化させてなる結晶化ガラス物品であって、Ｌｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶を２０〜７０質量％を含み、かつ、ＲＯ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶（Ｒ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）またはＲ’_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶（Ｒ’＝Ｎａ、Ｋ）を１〜７５質量％を含むことを特徴とする結晶化ガラス物品。 （もっと読む）

【課題】６００℃〜９００℃の中間温度範囲にある封止温度で水素ガス透過に対して耐性がある封止材料を提供する。
【解決手段】モル％で、２０〜３０％のＳｉＯ₂、０〜１５％のＳｒＯ、０〜８％のＫ₂Ｏ、０〜６％のＭｇＯ、２０〜３０％のＣａＯ、０〜１０％のＡｌ₂Ｏ₃、３５〜４５％のＢ₂Ｏ₃の組成を有し、アルカリの総量が１０モル％未満であるガラスフリットを含む封止材料。 （もっと読む）

【課題】原料の一部が未反応になる事態を防止しながら、従来よりも低温で作製可能であり、しかも封着材料等の熱膨張係数を適正に低下させ得る耐火性フィラーを創案する。
【解決手段】本発明の耐火性フィラーは、主結晶（最も析出量が多い結晶）として、ウイレマイトが析出している耐火性フィラーにおいて、組成として、モル％で、ＺｎＯ ５０〜８０％、ＳｉＯ_２ １０〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０．１〜１０％を含有すると共に、ウイレマイト：Ａｌ系結晶の割合が、モル比で、１００：０〜９９：１であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面品位を向上させることができ、且つ耐失透性が良好な太陽電池用ガラス基板を得ること。
【解決手段】本発明の太陽電池用ガラス基板は、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ３０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０〜２５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＺｒＯ_２ ０〜８％を含有し、且つ３０〜３８０℃における熱膨張係数が５０〜９５×１０^−７／℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Ｇの製造方法であって、溶融したガラスの塊ＧＧを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型１２１，１２２の面１２１ａ，１２２ａで前記塊ＧＧを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Ｇを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Ｇを加工する加工工程と、を有し、前記塊ＧＧの落下方向の速度成分について、前記一対の型１２１，１２２に対する前記塊ＧＧの相対速度を０に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊ＧＧが落下する方向に前記一対の型１２１，１２２が移動しながら、前記塊ＧＧを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Ｇの製造方法。 （もっと読む）

【課題】製造時におけるガラス溶融の熱履歴が変動した場合であっても可視光透過特性のばらつきが小さく、かつ、長期にわたる使用によっても色合いが変化しにくい結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７３％、Ａｌ_２Ｏ_３ １７〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ ２〜５％、ＴｉＯ_２ ２．５〜５．５％、ＺｒＯ_２ ０〜２．３％、ＳｎＯ_２ ０．２〜０．９％、Ｖ_２Ｏ_５ ０．００５〜０．０９％を含有し、Ａｓ_２Ｏ_３およびＳｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しないことを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを０．５ｎｍ以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス（MW-Rq）を０．５ｎｍ以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび／またはギブサイトを含むものを使用する。 （もっと読む）

【課題】 Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３を含まないにも関わらず、電気リボイルによる泡不良を抑制することが可能なＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 白金又は白金合金装置を含む溶融設備を使用するとともに、電気による加熱を用いてＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスを製造するＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスの製造方法において、得られる結晶化ガラス中のＣｌ含有量が５０ｐｐｍ以上となるようにガラス原料にＣｌ化合物を添加することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高温環境に晒された後でもガスリークを好適に防止できるＳＯＦＣの接合部を構成するための接合材を提供する。
【解決手段】
本発明によると、固体酸化物形燃料電池システムを構成する部材間を接合するためのガラスを主体とする接合材が提供される。この接合材は、ガラスマトリックス中に、クリストバライト結晶及び／又はリューサイト結晶が析出しており、接合材全体を１００ｖｏｌ％として結晶の含有率が０．５〜５ｖｏｌ％であり、熱膨張係数が９×１０^―６〜１２×１０^−６／Ｋであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
従来、半導体熱処理治具に一般に使用されてきた天然シリカ熔融石英ガラスは金属不純物、特に銅の拡散阻止能を持たない。金属不純物阻止能を有し、高温粘性の高い石英ガラスを提供する。
【解決手段】
高純度の合成シリカ粉を中性不活性雰囲気中結晶化した後に電気炉中溶解やプラズマ溶解することにより、酸素欠乏欠陥ＯＤＣＩＩ含有量を１０×１０^１５個／ｃｍ^３以下にし、かつＳｉ孤立電子対含有量を２×１０^１５個／ｃｍ^３以下にし、さらに含有Ｎａ濃度を０．０３ｗｔ．ｐｐｍ以下に抑えことにより、金属不純物拡散阻止能を有し、半導体熱処理時に粘性率の高い石英ガラスが得られる。 （もっと読む）

【課題】材料内部における物性の均一性や、異なる製造ロット間での物性の再現性に優れた結晶化ガラス、および、そのような結晶化ガラスを高い歩留まりで容易に低コストで製造する方法を提供すること。
【解決手段】結晶化ガラスの製造方法であって、原ガラスの屈伏点をＡｔ（℃）とする時、原ガラスをＡｔ（℃）から（Ａｔ＋１２０）℃の温度範囲で熱処理する結晶化前工程と、結晶化前工程の後、前記結晶化前工程より高い温度で熱処理する結晶化工程と、を少なくとも含む結晶化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３の代替清澄剤としてＳｎＯ_２を用いたＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスにおいて、Ｆｅ_２Ｏ_３やＴｉＯ_２等に起因する黄色の着色が少なく、かつ、優れた透明感を有する結晶化ガラスを得る。また、低熱膨張特性および低誘電損失特性を達成しやすい白色のＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスを得る。
【解決手段】組成として質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ２０．５〜２７％、Ｌｉ_２Ｏ ２％以上、ＴｉＯ_２ １．５〜３％、ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２ ３．８〜５％、ＳｎＯ_２ ０．１〜０．５％を含有し、３．７≦Ｌｉ_２Ｏ＋０．７４１ＭｇＯ＋０．３６７ＺｎＯ≦４．５かつＳｒＯ＋１．８４７ＣａＯ≦０．５の関係を満たすことを特徴とするＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】ガラス原料を高温で溶融してガラス化する段階を省略することにより、大量生産と製造コスト低減を可能にする、負の熱膨張係数を有する結晶化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】製造方法は、（ａ）組成物を秤量及び混合する段階と、（ｂ）混合した組成物をか焼する段階と、（ｃ）か焼した組成物を焼結する段階と、（ｄ）焼結した組成物を常温で炉冷すると段階を含み、結晶化ガラスは、シリカ（ＳｉＯ_２）３８％〜６４％と、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）３０％〜４０％と、酸化リチウム（Ｌｉ_２Ｏ）５％〜１２％とを基本組成として含み、前記基本組成にジルコニア（ＺｒＯ_２）０．５％〜１５％、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）０．５％〜６．５％、五酸化リン（Ｐ_２Ｏ_５）０．５％〜４％、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）２％〜５％、及びフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）０％〜５％から選択された１つ又はそれ以上の成分をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】清澄剤としてＡｓ₂Ｏ₃を使用しなくても、表示欠陥となる泡が存在しない無アルカリガラス基板を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】質量百分率でＳｉＯ₂ ５０〜７０％、Ａｌ₂Ｏ₃ １０〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ ５〜２０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１５％、ＢａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜５％を含有し、かつＳｎＯ₂及び／又はＳｂ₂Ｏ₃を含むガラスとなるようにガラス原料調合物を用意し、該ガラス原料調合物を溶融し、成形して無アルカリガラス基板を製造する無アルカリ基板の製造方法であって、β−ＯＨ値が０．４８５／ｍｍ〜０．６５／ｍｍとなるようにガラス中の水分量を調節する。 （もっと読む）

【課題】従来技術の欠点を有さない透明なガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】少なくとも以下の組成：ＳｉＯ₂：６０〜７６；Ａｌ₂Ｏ₃：１８〜２４；Ｌｉ₂Ｏ：２〜５；ＭｇＯ：０〜１．５；ＺｎＯ：＞４〜８；ＺｒＯ₂：１〜５；ＳｎＯ₂：＞０．５〜４；Ｎａ₂Ｏ：０〜１；Ｋ₂Ｏ：０〜１；ＢａＯ：０〜４；Ｆｅ₂Ｏ₃：０〜０．１；Ａｓ₂Ｏ₃：０〜＜０．５（酸化物ベースに基づき質量％で記載）を有する透明なガラスセラミックスを提供することによって解決される。 （もっと読む）

【課題】低い屈折率の温度係数と良好な光線透過性を併せ持つ、温度変化の激しい環境での使用に好適なガラス組成物を提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３を含有するガラスであって、相対屈折率（５４６．０７ｎｍ）の温度係数（２０〜４０℃）が１０．０×１０^−６（℃^−１）以下の光学ガラス。相対屈折率（５４６．０７ｎｍ）の温度係数（２０〜４０℃）が４．６×１０^−６（℃^−１）以下の前記光学ガラス。４００ｎｍにおける内部透過率（τ１０ｍｍ）が８０％以上である前記光学ガラス。 （もっと読む）