【目的】球状シリカ粒子の従来の製造手法の中で、大粒の粒子と小粒の粒子の比率、これらの粒子の平均粒子径を特定範囲内で制御することを可能とする独立２峰性の粒径分布を有する球状シリカ粒子懸濁溶液とその製造方法、および球状シリカ粒子を提供する。
【構成】独立２峰性の粒径分布）を有する球状シリカ粒子の懸濁溶液であって、該懸濁溶液の調製が３５℃以上溶媒の沸点以下で行われ、大粒粒子の平均粒子径（Ｄｌ）が９００〜１８００ｎｍ、小粒粒子の平均粒子径（Ｄｓ）が５０〜４００ｎｍであり、ＤｌとＤｓの比（Ｄｌ／Ｄｓ）が５〜２０であり、小粒粒子の占める体積割合が２０〜４０％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】無機微粒子を高濃度に含みながら低粘度の分散液、および該分散液を使用したインクジェット記録媒体を提供すること。
【解決手段】重量平均分子量が５，０００以上１５，０００以下である（ａ）ジアリルジメチルアンモニウムクロリドと（ｂ）アクリルアミドとのコポリマーを含み、一次粒子径２０ｎｍ以下の無機微粒子を分散させた分散液、および原紙の両面を高分子化合物で被覆した支持体上に、前記分散液を使用したインク受容層を設けたインクジェット記録媒体を提供する。 （もっと読む）

支持体及び、カリウム及びナトリウムを除く、各痕跡金属不純物２００ｐｐｂ以下を有する多数のコロイド状シリカ粒子を含み、残留アルコール２ｐｐｍ以下（この際、カリウム及びナトリウムを除く、痕跡金属の累積濃度は、約０．５〜約５ｐｐｍの範囲にある）及び粒子を懸濁させるための溶媒を含む組成物（この際、組成物は超純度コロイド状シリカ分散液である）を接触させる（この際、接触は、支持体を平坦化させるために十分な温度及び時間で実施される）段階を包含する、支持体の表面の化学機械研磨法。
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【課題】 コロイダルシリカ粒子表面の固体酸性の作用により、経時的に樹脂の変質や分解等を引き起こし、変色やクラックが発生することがある。また、シリカゾルをケトンやエステル、アミド等の溶媒に分散させた場合、シリカの固体酸性の触媒作用によってゾルの分散媒である溶媒の分解や着色が起こり経時的に樹脂の変質や分解等を引き起こす。
よって、経時的に樹脂の変質や分解等を引き起こさず、また、分散媒である有機溶媒の分解や着色が起きない有機溶媒分散シリカゾルを提供する。
【解決手段】 アルカリ土類金属イオンが表面に結合したコロイダルシリカ粒子を含む有機溶媒分散シリカゾルによる。 （もっと読む）

【課題】透明基板の表面上に設けた際に十分反射を防止できるシリカ系被膜を提供する。
【解決手段】シリカ系被膜は、シリカ系被膜形成用組成物を透明基板の表面上に塗布して塗布膜を形成する工程と、塗布膜に含まれる溶媒を除去して乾燥膜を得る工程と、乾燥膜を焼成する工程を有する。その屈折率が１．４１以下である。具体的には、まずシリコンウェハー上に、シリカ系被膜を形成するためのシリカ系被膜形成用組成物をスピンコートで塗布する。そして組成物の溶媒を除去し、窒素雰囲気下で硬化することによりシリコンウェハー上に被膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 補酵素Qの精製方法としては、吸着剤としてシリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィが行われる。カラムクロマトグラフィにおける補酵素Qと不純物との分離性の点から、シリカゲルの再生が従来の方法では不充分であり、再使用することは困難であった。また、シリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィは作業性の点およびシリカゲルの使用量の点で工業的な精製方法として問題があった。
【解決手段】 シリカゲルを吸着剤としたカラムクロマトグラフィで補酵素Qを精製するために使用したシリカゲルを再利用するために、水と共沸混合物を形成する有機溶剤を加温してシリカゲルを処理することにより、シリカゲルに含まれる水分を調整することで再利用を可能とする。 （もっと読む）

【課題】ポリシラザン由来の酸化ケイ素被膜の有する高い機械的耐久性を維持したまま、上記の欠点である高温焼成時の耐クラック性を著しく高めた酸化ケイ素系被膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】ポリシラザンと、有機チタン化合物と、有機溶媒とを含むことを特徴とする酸化ケイ素系被膜形成用組成物。また、酸化ケイ素系被膜形成用組成物を基体上に塗布し、乾燥後５５０℃以上で焼成することを特徴とする酸化ケイ素系被膜付き基体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】可視光波長における光透過性が高く、イオン性不純物の少ないシリカスラリー、その製造方法、及びこれを用いた硬化体、例えば封止材を提供する。
【解決手段】シリカ粉末と有機媒体とを含み、可視光波長における光透過率が８０％以上で、ナトリウムイオン、鉄イオン、塩素イオンの合計が２０μｇ／ｇ以下であるシリカスラリー。シリカ粉末と有機媒体とを、５０〜３５０ＭＰａの加圧下で混合した後、２００ｎｍ以上の粒子を除去することを特徴とするシリカスラリーの製造方法。シリカスラリー中のシリカ粉末を樹脂及び／又はゴムに含有させてなる組成物及びその硬化体。 （もっと読む）

【課題】液相プロセスを用いて、均一な膜厚の膜を形成することができる高次シラン組成物、かかる高次シラン組成物を用いる膜付基板の製造方法、膜付基板を備える電気光学装置および電子デバイスを提供すること。
に関するものである。
【解決手段】高次シラン組成物は、高次シラン化合物と、液体状のシラン化合物と、該シラン化合物より沸点（常圧）の高い溶媒とを含有する。溶媒の沸点は、シラン化合物の沸点（常圧）をＡ［℃］とし、溶媒の沸点（常圧）をＢ［℃］としたとき、Ｂ−Ａが１０以上なる関係を満足するのが好ましい。このような高次シラン組成物は、例えば光重合性を有するシラン化合物と、溶媒を混合し、シラン化合物の一部が重合して高次シラン化合物に変化し、他の一部が未反応物として残存するような線量で紫外線を照射することによって調製することができる。 （もっと読む）

【課題】 中空シリカ粒子を有機溶媒中に良好に分散する。
【解決手段】 中空シリカ粒子が有機溶媒中に分散している中空シリカ粒子分散物において、中空シリカ粒子の表面のシリカに炭化水素主鎖を有するポリマーを共有結合させる。 （もっと読む）

【課題】 水溶液中にシリカに代表される金属酸化物のナノファイバーを形成させる新しい技術を提供する。
【解決手段】 一本鎖のβ−1,3−グルカン（例えばシゾフィラン）を含有する非プロトン性極性溶媒溶液中で、金属アルコキシドと水を混合し、ゾルゲル反応を進めることによってβ−1,3−グルカンの疎水性内部空間に金属酸化物のナノファイバーを取り込んだ状態の複合体を調製する。金属酸化物としてシリカを製造する場合の好適な例として、原料にトリメトキシプロピルシラン、非プロトン性極性溶媒にジメチルスルホキシドを用いる。 （もっと読む）

【課題】シリカ粒子の凝集が発生しない、平均粒子径が２００ｎｍ未満のシリカ微粒子とカチオン性樹脂とからなる、カチオン性樹脂変性シリカ分散液およびそれを製造する方法を提供すること。
【解決手段】極性溶媒中で乾式シリカ及びカチオン性樹脂を混合して得られる混合液を処理圧力３００ｋｇｆ／ｃｍ^２以上で対向衝突させるか、或いはオリフィスの入口側と出口側の差圧が３００ｋｇｆ／ｃｍ^２以上である条件下でオリフィスを通過させることにより得られる、分散液中のシリカ粒子の平均粒子径が２００ｎｍ未満であり、かつ固形分濃度が１．５重量％となるように希釈された該分散液について測定された光散乱指数（ｎ）値が２．０以上であることを特徴とするカチオン性樹脂変性シリカ分散液。 （もっと読む）

本発明に係る多孔質シリカ形成用塗布液は、好ましくはアルコキシシラン化合物の部分的な加水分解縮合物と、界面活性剤と、有機両性電解質とを含有してなり、かつ金属含有量が５０ｐｐｂ以下であることを特徴とする。従来の多孔質シリカ形成用塗布液は、保存期間が長くなると、得られる多孔質シリカフィルムの細孔の配列規則性等が低くなる事があった。これに対し、本発明に係る多孔質シリカ形成用塗布液によれば、保存安定性に優れる塗布液を提供することができる。すなわち、得られる多孔質シリカの品質が、上記塗布液の保存期間の影響を受け難い。このため、電場にさらされても、容量、電圧シフトを引き起こすことがなく、さらに規則的に配列した均一な細孔を有し、光機能材料や電子機能材料に好適に用いることができる多孔質シリカフィルムの安定生産に貢献できると期待される。 （もっと読む）

非プロトン性の有機溶媒または溶媒混合物中の一般式：［Ｍ（Ｏ）Ｘ^３Ｘ^４］_ｎ（１）［式中、Ｍ＝Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、ＺｒまたはＨｆであり；かつＸ^３およびＸ^４＝互いに無関係にＯ_１／２、Ｈ、アルコキシ（−ＯＲ）、その際、Ｒは１〜２０個のＣ原子を有する有機基を表し、１〜２０個のＣ原子を有するアルキルまたは６〜２０個のＣ原子を有するアリールであり、その際、アルキル基またはアリール基は、群Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩから選択された１つ以上のさらに他のハロゲン置換基を有してよく；かつｎは１０〜１，０００，０００の典型値をとる］の無水の金属酸化物コロイドおよび／または金属酸化物ポリマーが記載されている。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、疎水性有機物がゾル溶液中に凝集や析出することなく溶解してなる疎水性有機物含有ゾル溶液と、その製造方法とを提供することにある。そして、その疎水性有機物含有ゾル溶液を用いて製造される物品を提供することにある。
【解決手段】
加水分解可能な金属化合物に、触媒と水とを加え、加水分解反応を起こさせて、少なくとも１種類の金属化合物ゾル溶液を調製し、ここで、前記水の量を前記金属原子の価数に対応した所定範囲量とすることで、前記金属化合物ゾル溶液に、少なくとも１種類の疎水性有機物を混合して溶解するようにしたこと、を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 平滑な表面を有し、疎水性のシリカエアロゲル膜を簡易に形成する方法を提供する。
【解決手段】 有機修飾シリカを溶媒に分散させる工程と、前記有機修飾シリカを含む分散液によって膜を形成する工程とを含むシリカエアロゲル膜の製造方法において、前記分散工程においてケトン系溶媒に前記有機修飾シリカを分散させる方法。 （もっと読む）

【課題】マイクロエマルジョンの制御された不安定化からの固体粒子の提供。
【解決手段】本発明は、粒子状物質の製造方法に関する。該方法は、連続液相中に分散された液滴を含むエマルジョン、所望によりマイクロエマルジョンを得ることからなる。該エマルジョンの少なくともいくつかの液滴は核を含む。その後、該液滴を少なくとも部分的に不安定化して、粒子状物質を形成する。 （もっと読む）

【課題】 比誘電率が３．０以下と小さく、しかもリーク電流量の少ない非晶質シリカ系被膜を形成するための塗布液およびその調整方法に関する。
【解決手段】 （ａ）テトラアルキルオルソシリケート(TAOS)およびアルコキシシラン(AS)をテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（TAAOH）および水の存在下で加水分解して得られるケイ素化合物、またはテトラアルキルオルソシリケート(TAOS)をテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（TAAOH）および水の存在下で加水分解または部分加水分解した後、アルコキシシラン(AS)またはその加水分解物もしくは部分加水分解物と混合し、さらに必要に応じてこれらの一部または全部を加水分解して得られるケイ素化合物、（ｂ）有機溶媒、および（ｃ）水を含む液状組成物であり、しかも該液状組成物中に含まれる水の量が３０〜６０重量％の範囲にあることを特徴とする低誘電率非晶質シリカ系被膜形成用塗布液。 （もっと読む）

本発明は、（ａ）親水性シリカ粒子が表面シラノール基を有する約１０〜１０００ｎｍの平均全粒子径を有する親水性シリカ粒子を約５〜７０重量％含む水性コロイドシリカ分散液を用意し、（ｂ）前記分散液を、約７以上のｐＨを有しかつ約５０重量％以下の有機溶媒を含む反応混合物を与えるために約３〜７５μｍｏｌ／ｍ^２（親水性シリカ粒子のＢＥＴ表面積に基いて）のシリルアミン処理剤と場合により他の成分とを混ぜ合わせ、そして（ｃ）疎水性のシリカ粒子を与えるために分散液を乾燥する、ことを含む疎水性シリカ粒子の製造法を提供する。さらに、この発明はトナー組成物を提供するために上述の疎水性シリカ粒子をトナー粒子と混ぜ合わせることを含むトナー組成物の製造法を提供する。 （もっと読む）

【課題】二元細孔シリカビーズの製造法として、従来の油中成形造粒法をそのまま適用すると、油中成形造粒法においてはゾル液を加熱した油中に滴下し、シリカゾルを急速にゲル化させているため、ゲル化と相分離のタイミングにずれが生じて相分離による構造の凍結がうまくいかず、球状の二元細孔シリカが得られないという課題を解決した、二元細孔シリカビーズの製造方法を提供する。
【解決手段】珪素源、水溶性高分子、及び酸からなるゾル液を原料とする油中成形造粒法による二元細孔シリカビーズの製造法であって、油中成形造粒法で使用する分散媒の比重がゾル液の比重に対して０．７倍以上１倍未満、且つ、粘度が５００ｃP〜５０００ｃPであって、さらに、分散媒の液温が１０℃〜６０℃である二元細孔シリカビーズの製造方法。
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