【課題】エマルションの分散粒子の大きさを単分散化させうるナノエマルションの製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウムまたはアルミニウム合金を陽極酸化して得られたマイクロポア径の分散が平均径の３％以内であるマイクロポア貫通孔を有する微細構造体を介し、一方の側に分散質となる液体、他方の側に分散媒となる液体を配置し、前記分散質となる液体を、前記マイクロポア内を通し、分散媒となる液体中に分散させるナノエマルションの製造方法。 （もっと読む）

本発明の目的はナノスケールの二酸化ケイ素の製造方法であり、前記方法は以下の工程を含む：ａ）平均粒子寸法が１〜５００ｎｍであるコロイド状二酸化ケイ素の水性懸濁液を供給する工程；ｂ）それを、非プロトン性環状エーテル中の有機シランまたは有機シロキサンと反応させて、コロイド状二酸化ケイ素をシラン化する工程；ｃ）反応混合物の水相を有機相から分離する工程；ｄ）有機相を、非プロトン性環状エーテル中の有機シランまたは有機シロキサンと再び反応させて、コロイド状二酸化ケイ素をシラン化する工程；ｅ）反応混合物の水相を有機相から分離する工程。 （もっと読む）

【課題】エポキシ化合物と混合した際の分散性に優れ、かつ、得られるエポキシ樹脂組成物が経時的にほとんど増粘したり硬化したりしないなど、良好な保存安定性を与える表面被覆シリカオルガノゾルを容易に製造する方法を提供すること。また、当該表面被覆シリカオルガノゾルとエポキシ化合物を混合してなる、保存安定性や分散安定性に優れるエポキシ樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】以下の１および２の製造方法。
１．下記の（Ａ）〜（Ｂ）の工程をこの順で実施することを特徴とする、表面被覆シリカオルガノゾルの製造方法。
（Ａ）シリカオルガノゾルにシランカップリング剤を添加して加水分解縮合反応を行う工程
（Ｂ）（Ａ）の結果物から酸性触媒を除去して、該結果物のｐＨを中性に調整する工程
２．１の製造方法で得られた表面被覆シリカオルガノゾルを用い、これに下記の（Ｃ）〜（Ｄ）の工程をこの順で実施することを特徴とする、表面被覆シリカ粒子含有エポキシ樹脂組成物の製造方法。
（Ｃ）該表面被覆シリカオルガノゾルにエポキシ化合物を混合する工程
（Ｄ）（Ｃ）の結果物から有機溶媒を除去する工程 （もっと読む）

【課題】 化学修飾型シリカゲルの耐アルカリ性を向上させ、液体クロマトグラフィー用カラムとして長時間分離性能の低下を伴うことなく使用可能である耐アルカリ性に優れた化学修飾型シリカゲルを簡易な手段で調整する手段を提供する。
【解決手段】 シリカゲルを化学修飾剤と反応させて化学修飾型シリカゲルを製造するに際し、当該シリカゲルと化学修飾剤との反応をマイクロ波照射下に行うものであり、シリカゲルとしては、１〜５，０００ｍ²／ｇの比表面積を持つものが好ましく、化学修飾剤は、シリカゲル表面のシラノール基と反応しうるシラン化合物であり、照射するマイクロ波が、マグネトロン周波数として３００ＭＨｚ〜３００ＧＨｚの範囲のものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】液体処理容器内の圧損を増加させずに液体をフィードできるといった優れた特徴を有する珪素酸化物含有乾燥ゲルの充填方法を提供する。”乾燥ゲル”とは、減圧、昇温または送風等の乾燥操作により液体を除去したゲルを意味し、また“湿潤ゲル”とは乾燥操作が施されておらず液体を保有しているゲルを意味する。また、珪素酸化物含有ゲルとは珪素酸化物含有乾燥ゲルおよび珪素酸化物含有湿潤ゲルを表す。
【解決手段】珪素酸化物含有乾燥ゲルを予めゲルを膨張せしめる液体で膨張させた後に液体処理容器に充填する、もしくは予めゲルを膨張せしめる液体を入れた液体処理容器に珪素酸化物含有乾燥ゲルを充填する珪素酸化物含有乾燥ゲルの充填方法。 （もっと読む）

イオン交換していない水ガラス溶液を前駆物質とし、アルカリ性ｐＨを有するオルガノシラン化合物と無機酸を添加して表面改質およびゲル化させることによりヒドロゲルを生成する段階と、ヒドロゲルを非極性溶媒内に浸漬させて溶媒交換およびＮａ^＋イオンの除去を行う段階と、溶媒交換の行われたヒドロゲルを常圧下で乾燥させてエーロゲル粉末を製造する段階とを含む、超疎水性シリカ系粉末の製造方法を提供する。本発明は、その工程が非常に単純であるうえ、経済性を有するので、産業的な観点から非常に重要である。
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【課題】有機溶媒中での分散性に優れたシリカ系中空粒子分散体およびその製造方法、ならびにシリカ系中空粒子を提供する。
【解決手段】シリカ系中空粒子分散体の製造方法は、下記工程（ａ）〜（ｄ）を含む。
（ａ）炭酸カルシウム粒子および第１の有機溶媒を含有する分散体に、下記一般式（１）で表される少なくとも１種の化合物及び下記一般式（２）で表される少なくとも１種の化合物を加水分解縮合して、前記炭酸カルシウム粒子を被覆するシリカ系被覆層を形成する工程、
（ｂ）前記シリカ系被覆層が形成された炭酸カルシウム粒子から炭酸カルシウムの一部または全部を除去する工程、
（ｃ）前記シリカ系被覆層を緻密化してシリカ系中空粒子を得る工程、および
（ｄ）前記第１の有機溶媒を第２の有機溶媒に置換する工程
Ｓｉ（ＯＲ^１）_４・・・・・（１）
（式中、Ｒ^１は１価の有機基を示す。）
Ｒ^２Ｓｉ（ＯＲ^３）_４−ｄ・・・・・（２）
（式中、Ｒ^２、Ｒ^３は独立して１価の有機基を表し、ｄは１〜３の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】本発明の上記構成により、単分散性が高い、半導体ナノ粒子が提供できる。
【解決手段】半導体ナノ粒子を分級する分級工程を有する半導体ナノ粒子の製造方法であって、該分級工程が、複数の分級工程からなり、当該複数の分級工程が少なくとも、半導体ナノ粒子に第１分散剤を吸着させ、第１分散剤を吸着させた半導体ナノ粒子を分離する第１分級工程および第１分級工程における分散剤とは異なる第２分散剤を半導体ナノ粒子に吸着させ、第２分散剤を吸着させた半導体ナノ粒子を分離する第２分級工程を有することを特徴とする半導体ナノ粒子の製造方法。 （もっと読む）

Ａ_３Ｓｉ−Ｒ^１−ＳｉＢ_３
［式中、Ａ、Ｂ、およびＲ^１は本明細書に規定された通りである］の不斉ビスシラン化合物、ならびにこのビスシラン化合物を製造するための方法および金属酸化物粒子の層またはフィルムを形成するためのそれらの使用に関し、その層またはフィルムは、適した基材に付着する。この材料および方法を使用して、例えば、光活性デバイスを製造することができる。 （もっと読む）

【課題】保存安定性が優れ、硬質シリカ系層を形成できる液状硬化性組成物；均一性と平坦性と耐クラック性と密着性に優れた硬質シリカ系層を形成できるコーテイング方法；耐熱性、耐寒性、電気絶縁性、機械的強度、耐薬品性等が優れた無機質基板；精度と信頼性と長期間安定性が優れた半導体装置を提供する。
【解決手段】水酸基を有する多価金属酸化物微粒子が分散している有機溶媒中で、ハイドロジェンハロシランもしくはアルコキシシランを縮合反応または加水分解縮合反応させて得られた液状硬化性組成物。該組成物を無機質基板にコーテイングし、硬化させて硬質シリカ系層を形成する、無機質基板のコーテイング方法。該硬質シリカ系層を有する無機質基板。該無機質基板上に半導体層を有する半導体装置。 （もっと読む）

【課題】液相プロセスを用いて、安定かつ所望な膜厚の膜を形成することができる高次シラン組成物、かかる高次シラン組成物により製造される膜付基板の製造方法、膜付基板を備える電気光学装置および電子デバイスを提供すること。
に関するものである。
【解決手段】高次シラン組成物は、高次シラン化合物と、置換または無置換の炭化水素系溶媒を含む溶媒とを含有し、前記溶媒として、前記高次シラン化合物が溶解し得るように、屈折率が１．５３以上のものを選択する。また、炭化水素系溶媒は、比誘電率が１０以下であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 粘度の安定性と貯蔵中の凝集に対する安定性を有する、分散によって組み込まれたナノスケールの無機粒子を含むポリイソシアネートを提供する。
【解決手段】 ナノ粒子修飾ポリイソシアネートを、1) A)ポリイソシアネートを、B)アルコキシシラン：Q-Z-SiX_aY_3-a (I) （式中、Qはイソシアネート反応性基であり、Xは加水分解性基であり、Yは同一または異なるアルキル基であり、ZはC₁-C₁₂アルキレン基であり、aは1〜3の整数である）と反応させ、続いて、2) 分散によってC) 分散液中での動的光散乱によって測定した平均粒径が200nm未満である無機粒子を組み込むことにより製造する。 （もっと読む）

高度に均一なシリコン／ゲルマニウムナノ粒子が、望ましい小さな二次粒子サイズを有する安定な分散物に形成されることができる。シリコン／ゲルマニウム粒子は、分散物を形成するために表面改質されることができる。シリコン／ゲルマニウムナノ粒子は、粒子特性を変化させるためにドーピングされることができる。分散物は、適切な／用途のためのインクとして印刷されることができる。分散物は、光起電力電池の形成のため又は印刷された電子回路の形成のためなどの、選択的にドーピングされた半導体材料の堆積物を形成するために用いられることができる。
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【課題】膜形成組成物、特にコーティング組成物のための、コーティングの引っかき抵抗を高め、従来技術で修飾されたナノ粒子の不利点をより低度に有するかまたは全く有さず、また使用するのが簡単でありかつ高価でない、ナノ粒子に基づいた添加物の必要性が依然として存在する。
【解決手段】本発明は、樹脂と、修飾されたナノ粒子とを含んでいる膜形成組成物であって、該修飾されたナノ粒子が、ナノ粒子と、該ナノ粒子上に吸着されたセグメント化コポリマー、好ましくはセグメント化ブロックコポリマーを含んでおり、該セグメント化コポリマー、好ましくはセグメント化ブロックコポリマーが、吸着セグメントと疎水性表面活性セグメントとを含んでいる膜形成組成物において、該吸着セグメントが、ナノ粒子上に吸着する１以上の官能基を有し、かつ、該疎水性セグメントが該樹脂よりも疎水性であることによってナノ粒子の表面移行をもたらす、上記の膜形成組成物に関する。本発明は、新規な修飾された粒子、および特定のセグメント化コポリマーの特定の修飾された粒子を膜形成組成物中に、改良された表面特性、たとえば引っかき抵抗をそれに付与するために使用する方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】 塗料組成物の成分として好適なシリカゾルを提供する。
【解決手段】 短径／長径比が０．０５〜０．５の範囲にあり、ＢＥＴ法により測定される比表面積から換算される平均粒子径が４〜１２ｎｍの範囲にあるシリカ微粒子が液状媒体に分散してなるシリカゾルであって、該シリカ微粒子１００重量部に対して０．００００1〜０．００１重量部のカルボン酸塩を含有する。カルボン酸塩は、酢酸、クエン酸、マレイン酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸から選ばれる１種以上のカルボン酸の塩である。 （もっと読む）

【課題】 有機溶媒中において微粒子が規則的に配列したコロイド結晶となるポリマーグラフトコロイダルシリカおよびポリマーグラフトコロイダルシリカ分散体を提供する。
【解決手段】 コロイダルシリカに、一般式（１）で表されるポリマー型シランカップリング剤の加水分解によるシリル残基が結合してなるポリマーグラフトコロイダルシリカ。ただし、一般式（１）において、Ｒ¹：メチル基または水素原子であり、Ｒ²：メトキシ基〔CH₃O-〕、メチルアミノ基〔CH₃NH-〕、ジメチルアミノ基〔(CH₃)₂N-〕、またはイソプロピルアミノ基〔(CH₃)₂CHNH-〕であり、Ｒ³：メチル基または水素原子であり、ｍ：１８〜３００の正数であり、ｎ：３〜１００の正数である。
【化６】
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石英ガラスの製造のための公知のＳｉＯ_２スラリーは、分散液および最大５００μｍまでの粒度を有する非晶質ＳｉＯ_２粒子、その際、１μｍから６０μｍまでの範囲内の粒度を有するＳｉＯ_２粒子が最も大きい体積割合となる、ならびにそれ以外に０．２質量％から１５質量％までの範囲内で（全体の固体含有率に対して）１００ｎｍ未満の粒度を有するＳｉＯ_２ナノ粒子を含有する。これから出発して、スラリーの流動挙動が、スラリー材料の排出または注出による処理に鑑みて最適化されているスラリーを準備するために、本発明により、ＳｉＯ_２粒子が、１μｍ〜３μｍの範囲内の大きさ分布の第一の最大値と、５μｍ〜５０μｍの範囲内の第二の最大値とを有するマルチモーダルな粒度分布を有し、かつ固体含有率（ＳｉＯ_２粒子およびＳｉＯ_２ナノ粒子を合わせた質量割合）が８３％から９０％までの範囲内にあることが提案される。
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本発明は、液体ジェットガイドエッチングにより固形物から物質を除去するための方法に関する。本発明に係る方法は、特にウエハの切削、微細構造化、ドーピングまたはそれへの金属被膜形成のためにも使用される。 （もっと読む）

【課題】固形分濃度が２０重量％以上で、なおかつ正電荷で長時間安定な高濃度シリカスラリ−を提供する。
【解決手段】シリカ濃度が２０〜５０％、ｐＨが１.５〜５.５、導電率が３００〜１５００μＳ／ｃｍであって、且つ、高濃度シリカスラリー中のシリカ粒子のゼータ電位が＋１０〜＋８０ｍＶである高濃度シリカスラリーを用いる。その様な高濃度シリカスラリーはシリカゲルと水を粉砕、分散化し、負電荷スラリーを得た後、分子量２０００〜１０００００のカチオン性高分子と混合し、得られたシリカ含水ゲルを、水洗し塩を除去した後、再分散することによって製造する。 （もっと読む）

【課題】珪酸アルカリ水溶液を用いる二元細孔シリカの製造において、その生産性を向上させ、また製造工程から発生する洗浄廃液量を削減し、且つ、高純度の二元細孔シリカが得られる二元細孔シリカの製造方法を提供する。
【解決手段】珪酸アルカリ水溶液、水溶性有機化合物、及び酸を含むゾル液を、該ゾル液中の相分離が過渡の状態でゲル化させた後、得られる湿潤ゲルに洗浄液を加え、加圧または減圧濾過することにより、該湿潤ゲルを洗浄することを特徴とする二元細孔シリカの製造方法。 （もっと読む）