【課題】難加工物、特に近年電子デバイスの材料として重要性が高まっているＳｉＣやＧａＮ等を、加工効率が高く且つ数１０μｍ以上の空間波長領域にわたって精度が高く加工することが可能な触媒支援型化学加工方法及び加工装置を提供する。
【解決手段】酸化剤を含む処理液中に被加工物１０を配し、該酸化剤を分解する固体触媒１１を被加工物に接触、若しくは極接近させ、触媒上で生成した強力な酸化力を持つ活性種と被加工物の表面原子との化学反応で生成した化合物を除去、あるいは溶出させることによって被加工物を加工する加工原理を用いる。そして、加工中に、被加工物に光を照射する光照射手段、被加工物と固体触媒の間に電圧を印加する電圧印加手段、触媒の温度、被加工物、及び／又は処理液の温度を制御する温度制御手段のうちの１種又は２種以上を組み合わせて適用し、被加工面を加工する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、概して、プラズマリアクタにおいて、大面積基板に必要な容量性デカップリングを提供する装置及び方法を提供する。
【解決課題】本発明の一実施形態は、プラズマリアクタにおいて用いるための基板サポートを提供する。プラズマリアクタは、大面積基板の裏面と接触するための複数の隆起領域のある上面を備えた導電性本体を有している。複数の隆起領域は、上面の表面積の約５０％未満を占める。 （もっと読む）

【課題】プラズマにより発生した異物を捕捉するとともに、アーク放電を防止するプラズマ処理装置およびこれを用いてワークの被処理面を処理する表面処理方法を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、ワーク１０に対して相対的に移動可能な互いに対向する１対の電極２、３と、１対の電極２、３間に電圧を印加する電源７２を備えた電源回路７と、１対の電極２、３間にプラズマ生成のための処理ガスを供給するガス供給手段８と、ワーク１０の被処理面１０１に向けてプラズマを噴出するプラズマ噴出部５とを備え、１対の電極２、３間に、処理ガスを供給しつつ、電圧を印加することにより、処理ガスを活性化してプラズマを生成させ、該プラズマによりワーク１０の被処理面１０１が処理されるよう構成されているプラズマ処理装置１であって、プラズマ噴出部５またはその近傍に、プラズマの生成により発生した異物４０を捕捉する多孔質の絶縁性材料で構成された異物捕捉部９を有する。 （もっと読む）

【課題】被処理物の表面処理の高速化を可能とするプラズマ表面処理装置を提供する。
【解決手段】グロー放電によりプラズマを発生さるプラズマ表面処理装置は、放電空間４に供給される少なくとも１種のガスの流路上であって、放電空間４の上流に多孔質体９が設置されており、多孔質体９に液状の作用物質を浸透させた状態で、前記ガスを通過させることによって、前記作用物質のミストが形成され前記ガスに含有されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】プラズマ生成を低電圧で安定して行うことのできるプラズマ生成装置、およびこのプラズマ生成装置を用いた表面処理装置、表示装置、流体改質装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成装置１０は、導体線４と絶縁層５からなる第１絶縁被覆線１と、導体線６と絶縁層７からなる第２絶縁被覆線２とを撚り合わせた撚線構造からなるプラズマ生成部８を設け、両絶縁被覆線１，２間に交流電圧を印加することで、両絶縁被覆線間１，２に生じる微小な隙間においてプラズマＰを生成する。 （もっと読む）

【課題】水（第１物質）とＣＯＦ_２（第２物質）とを、水が結露しないようにしながら反応させてＨＦ（第３物質）のガスを生成する。
【解決手段】反応装置３０の外管３２内に多数の微細孔３３ａを有する内管３３を配置する。内管３３の内通路３３ｂに、水蒸気を含む第１ガスの導入部１２を連ねる。内通路３３ｂの上流部は、水蒸気が凝縮する温度にする。外管３２と内管３３の間の外通路３０ａにＣＯＦ_２を含む第２ガスの導入部２３を連ねる。この第２ガスが微細孔３３ａを透過し内通路３０ｂへ入り込み、水と反応し、ＨＦ水溶液からなる凝縮体ｄｒが生成される。上記透過気流にて凝縮体ｄｒが内管３３の内壁に付着するのが防止される。 （もっと読む）

【課題】 可視光や紫外光等によって影響を受けることなく、試料に照射された電子線エネルギーを正確に測定することのできる電子線照射システムを提供する。
【解決手段】 電子線照射システムにおいては、チャンバ２に収容された試料４に電子線Ｅを照射し、その試料４に照射された電子線エネルギーを、電子線検出器７によって測定する。このとき、電子線検出器７の検出面７ａを、導電性遮光膜７ｂで覆うことにより、当該電子線検出器７にて電子線Ｅを検出する際に、チャンバ２内における可視光や紫外光等から影響を受けることを防止する。これによって、試料４に照射された電子線エネルギーを正確に測定することができる。 （もっと読む）

【課題】撥水性等の表面改質度を、均一性を確保しつつコントロール可能なプラズマ表面改質方法を提供する。
【解決手段】前処理工程として、表面改質成分を実質的に含まない前処理用ガスをプラズマ化して被処理物の表面に接触させる。その後、本処理工程として、表面改質用ガスをプラズマ化して前記被処理物の表面に接触させる。前処理工程の処理量と本処理工程の表面改質度の飽和値との関係を予め求めておき、この関係に基づいて、前処理工程における処理量が、得るべき表面改質度に対応する大きさになるように調節する。 （もっと読む）

プラズマエッチングプロセスによりプラスチックからの基板（１）の表面にナノ構造（６）を作製する本発明による方法の場合、薄膜（２）がプラスチック基板（１）上に施与され、引き続きプラズマエッチングプロセスが実施される。本方法により作製されるナノ構造（６）によって、殊にプラスチック基板（１）の表面の反射が低減させられる。
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【課題】
装置の複雑化や、大型化を招くことなく、多様な成膜条件に適用可能なガス混合器、これを用いた成膜装置、及び面内均一性の高い薄膜を形成できる薄膜製造方法を提供する。
【解決手段】
少なくとも二以上の混合室を備えるガス混合器において、第一混合室に、混合しようとする二種以上のガスがそれぞれ導入される二以上の導入口と、一以上の排出口とを設けるとともに、第二混合室に、第一混合室に設けられた排出口と連通し、第一混合室から排出されたガスが導入される一以上の導入口と、一以上の排出口とを設け、第一混合室及び／又は第二混合室に設けた排出口を、同じ混合室に設けられた導入口に対して、ガスの流れ方向において重ならないように配設する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理を停止しても、短時間で安定したプラズマ処理性能に復帰させることができる、プラズマ処理方法及び処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理方法は、（ａ）空間１３を設けて対向配置された一対の電極１１，１２間に電圧を印加して放電を発生させるとともに、処理ガスを空間１３に供給して、処理ガスを被処理物１に接触させる、運転工程と、（ｂ）運転工程が一時停止された後、運転工程が再開されるまでの間の一時停止期間中において、電極１１，１２間に電圧印加を停止するとともに、処理ガス又は処理ガスの一部を構成する成分ガスを空間１３に供給する、運転再開準備工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 設備コストの抑制しつつ、照度ムラを低減して均一なシート特性を有する粘着シートの製造が可能な光照射装置及びそれを用いた粘着シートの製造装置を提供する。
【解決手段】 所定の離間距離で、相互に平行となる様に対向配置された一対の線光源と、前記一対の線光源の間に設けられた、少なくとも２以上の短冊状の光反射板であって、各光反射板の長辺方向と線光源の延在方向とが直角となる様に、前記延在方向に配列されたものとを有し、前記光反射板の一方は、前記一方の線光源から出射された光を下側方向に反射させる様に、前記一対の線光源で形成される平面に対し所定の角度で傾斜しており、前記一方の反射板に隣接する他方の光反射板は、前記他方の線光源から出射された光を下側方向に反射させる様に、前記平面に対し所定の角度で傾斜していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】安価且つコンパクトな構成で大口径のビームを被処理物に照射することができると共に高い中性化率を得ることができ、チャージフリー且つダメージフリーな中性粒子ビーム処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の中性粒子ビーム処理装置は、被処理物Ｘを保持する保持部２０と、高周波電圧の印加と印加の停止とを交互に繰り返すことにより、真空チャンバ３内に正イオンと負イオンとを含むプラズマを生成するプラズマ生成部と、真空チャンバ内であって、プラズマ生成部と被処理物との間に配置され、プラズマから放出される紫外線を遮蔽するオリフィス電極４と、真空チャンバ内にオリフィス電極に対して上流側に配置されたグリッド電極５と、オリフィス電極とグリッド電極との間に電圧を印加することで、プラズマ生成部により生成されたプラズマから正イオンと負イオンとを交互に引き出すバイポーラ電源１０２とを備える。 （もっと読む）

マイクロ流体デバイス又はナノ流体デバイスなどの微細加工デバイス又はその部品であって、プラズマ処理などのイオン化もしくは活性化技術によって表面上に形成された、均一の非湿潤性もしくは非吸収性コーティングもしくは表面改質体を有し、表面エネルギー値を１５ｍＮｍ^−１未満としている、微細加工デバイス又はその部品。処理は使用の間にデバイスを通した液体の易流動性を向上させる。 （もっと読む）

【課題】配管の内壁や噴射ノズルの内壁等に付着した凝集体が再飛散することによる圧粉体の形成や膜厚のむらを防止する。
【解決手段】この成膜方法は、エアロゾル生成部において原料粉をガス中に分散させることによりエアロゾルを生成する工程（ａ）と、エアロゾル生成部から搬送管に供給されるエアロゾルを、成膜室に配置されたノズルに搬送する工程（ｂ）と、成膜室において、ノズルと基板との相対位置を変化させながら、ノズルから基板に向けてエアロゾルを噴射することにより基板上に原料粉を堆積させて膜を形成する工程（ｃ）と、ノズルと基板との相対位置に応じて、エアロゾル生成部と搬送管とノズルとの内の少なくとも１つを間欠的に振動させる工程（ｄ）とを具備する。 （もっと読む）

【課題】 マイクロ波プラズマを用いて、熱可塑性容器をバリアで迅速に被膜するための装置を提供する。
【解決手段】複数の処理機を備え、各処理機は、処理容器２と真空ポンピングチャンバを有するカバー３とを備える。上記容器に密閉接続するための接続手段は、上記カバー内に、上記容器の首部と同軸のスリーブを備え、この各カバーは、容器内に反応性流体を注入するための、上記スリーブに同軸な注入器も支持している。隣接した複数の処理機のうち、上記スリーブ６及び／又は上記注入器８は、処理機のカバー上に橋状に延設された１つの支持板に固定され、上記支持板と処理機のスリーブ及び／又は注入器とが、一部品として操作される単一アセンブリ１６、２１を構成する。 （もっと読む）

【課題】大気圧下において比較的簡単、低コストでかつ短時間で被接着体の濡れ性及び接着強度を向上させる樹脂材料の接着方法を提供する。
【解決手段】樹脂材料からなる被接着体としてのポリイミドフィルム４の接着面に対して表面処理を施す表面処理工程と、この表面処理工程において表面処理を施したポリイミドフィルム４への接着剤の貼着を含む接着工程とを備えた樹脂材料の接着方法であって、前記表面処理工程において、大気圧又は大気圧近傍の圧力下で対向する電極１間に存在する気体に高周波電圧を印加して発生させたプラズマを用いて、ポリイミドフィルム４の少なくとも接着面に対して表面処理を施し、前記接着工程において、表面処理を施した接着面に前記接着剤を貼着する。これにより、比較的簡単、低コストでかつ短時間でポリイミドフィルム４の濡れ性及び接着強度を向上させた上で接着することができる。 （もっと読む）

【課題】被処理体に対して一様な照度で紫外線を照射することができる紫外線照射装置。
【解決手段】複数体の紫外線照射ユニット２を並設し、被処理材10の被処理面に対して一様に所定波長領域の紫外線を照射するための紫外線照射装置１であって、紫外線照射ユニット各々は、光源としての紫外線放電ランプ111と、紫外線放電ランプの側方及び上方を覆うように配置され、当該紫外線放電ランプからの紫外線を下方に反射させる反射面を持つ主反射体112と、紫外線放電ランプの下方に配置され、紫外線放電ランプからの紫外線を散乱させるルーバー装置115とを有し、ルーバー装置は、軸周りの回転によって散乱特性が変化する反射面を有するルーバー単体13を複数体、各ルーバー単体間に所定間隔を空けて並置し、かつ、複数体のルーバー単体各々を軸周りに任意の角度だけ回転させた姿勢に保持する回転操作部12を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜の絶縁耐圧の向上を図ることのできる絶縁膜の製造方法、反応装置、発電装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】反応物の反応を起こすマイクロリアクタ１は、金属基板である上板２及び底板３等から構成されてなり、底板３とその表面に設けられる薄膜ヒータ３２との間に絶縁膜３１として、希土類元素Ｒの結晶構造を有するＲ₂Ｏ₃膜（Ｙ₂Ｏ₃膜）が形成されている。Ｒ₂Ｏ₃膜は、底板３の表面にＲ膜を成膜した後、水素化してＲＨ₂膜を形成し、さらに酸化することによって形成される。 （もっと読む）

【課題】 工程を終えた後に排気される工程ガスをリサイクルすることによって、装備の経済性を向上させることができるプラズマ工程装備を提供する。
【解決手段】 工程チャンバーと、工程チャンバーに工程ガスを供給するガス供給装置と、ガス供給装置から工程ガスを受けてプラズマを発生させるプラズマ発生装置と、工程を終えた後に工程チャンバーから排出される工程ガスから特定ガスを分離するガス分離装置と、を備える構成とした。ここで、ガス分離装置は、工程ガス間の液化点の差を用いて特定ガスを分離する液化装置から構成される。また、ガス分離装置によって分離されたガスを貯蔵する再生ガス貯蔵タンクをさらに備える。 （もっと読む）