【課題】誘電体バリア放電ランプにおけるランプ軸方向を均等な温度分布に冷却して良好なランプ軸均斉度を実現する。
【解決手段】ペルチェ素子１と、外部電極２と、誘電体バリア放電ランプ３と、誘電体バリア放電ランプ３を構成する石英ガラス管４と内部電極５およびエキシマ生成ガス６と、を備える。ペルチェ素子１を外部電極２に密着して配置し、ペルチェ素子１の吸熱側の面を外部電極２に密着させる。一方、放熱側のペルチェ素子１の面は外部に開放されて大気と触れており、送風手段にて送風された冷却用の風（Ｆ）が放熱分を奪いペルチェ素子１を冷却する。 （もっと読む）

【課題】低エネルギーの電子線で被照射物を効果的に滅菌処理でき、装置全体を簡素化して経済的に製作できる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】被照射物である容器１が搬送され電子線照射室４４部分に、電子線照射手段４０を設けてる。この電子線照射手段４０の電子線発生室４１と電子線照射室４４間の電子線照射窓４３に、薄膜４６を取り付けて両者を区画し、薄膜４６を透過する電子線により容器１を滅菌処理する。電子線照射室４４内は減圧手段により減圧状態を維持させており、薄膜４６として厚さ１５〜２５μｍのグラファイトシート４８を用いている。 （もっと読む）

【課題】紫外線照射装置にて発生した光から不要な波長の光を遮断し、有効な光のみを対象物に照射する。
【解決手段】紫外線を発光して照射するためのランプ１と、ランプ１より発光した紫外線を反射して所定の方向へ向けるためのリフレクタ２と、ランプ１で発光した光のうち不要な波長の光を遮断するためのフィルタ３と、フィルタ３を透過した紫外線が照射される対象物４と、を備える。ランプ１より紫外線が照射され、吸収型フィルタにより構成されたフィルタ３により、入射光の角度依存性を示すことなく所望の波長以下の光が遮断され、所望とする波長の光のみが対象物４に照射される。 （もっと読む）

【課題】微細な連続気孔を持つ構造物あるいは膜を基板上に形成する方法を提供する。
【解決手段】平均微粒子径が０．１μｍ未満の脆性材料超微粒子を焼成し、これら脆性材料超微粒子同士を一部結合せしめて多孔質微粒子を形成する。次いでこの多孔質微粒子をガス中に分散させてエアロゾルとし、このエアロゾルを基材に向けて吹き付けて多孔質微粒子を衝突させて、基材上に、多孔質微粒子同士が結合して堆積した多孔質構造物を形成する。 （もっと読む）

【課題】エアロゾルデポジション法において基材の表面状態に対応して成膜を行なう成膜速度および成膜効率に優れる被膜形成方法を提供する。
【解決手段】微粒子をガス中に分散させてエアロゾルを形成するエアロゾル形成工程と、エアロゾルを真空チャンバー内でエアロゾル噴射ノズルから表面研磨された基材表面上に噴射して成膜を行なう成膜工程とを備えてなり、該成膜工程は、エアロゾル噴射ノズルと基材とを所定の距離を保ちながら平行に相対的に移動させつつ、エアロゾル噴射ノズルから基材表面上にエアロゾルを噴射し衝突させる工程であり、上記移動の方向（成膜方向）は、基材の表面研磨方向と相対角度で 0°±20°または 90°±20°の範囲（図中Ｂ）となる方向である。 （もっと読む）

【課題】この発明が解決しようとする課題は、エキシマ光を利用した液晶パネル用ガラス基板等の洗浄装置において、効率の良い洗浄を行い、大型基板に対しても洗浄ムラを少なくすることのできるエキシマ光照射装置を提供することにある。
【解決手段】本発明のエキシマ光照射装置は、複数のエキシマランプを並列配置したランプハウス内に少なくとも窒素等の不活性ガスを含むガスを噴出するブロー管を備え、該ブロー管と該エキシマランプ上面部分と該ランプハウスの仕切壁とで囲まれる第一の置換空間と、該ブロー管と該エキシマランプ下面部分と搬送される基板とで囲まれる第二の置換空間を備え、該ブロー管から該第一の置換空間に向かって不活性ガスを噴出することによって該第一の置換空間を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

一端に放出口をもつ液体供給導管を有するアトマイザの提供、放出口の上流で液体供給導管のポートに開口するガス供給導管、及び、アトマイザに振動エネルギーを与えるための手段を含む、液体を噴霧化する方法。１つの実施形態において、液体供給導管及びガス供給導管は、互いに関して同軸になるように配置される。本方法は、更に、ガスをガス供給導管を通して流すのと同時に、液体を液体供給導管を通って放出口に流すことと、放出口から出てる液体を噴霧化するために振動エネルギーをアトマイザに与えることを含む。ポートでガスを導入することによって、液滴スプレーの寸法特性が改善される結果を得る。
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【課題】 ＰＭＭＡやＰＣ等のポリマー材料に対して、反応性イオンエッチング法を用いて、正確に微細なピラーアレイ構造を安価に形成することができるマイクロピラーアレイ素子の製造方法と製造装置並びにマイクロ流体チップ等に用いるマイクロピラーアレイ素子を提供する。
【解決手段】 真空容器１２内にプラズマを発生させて反応性イオンを生成し、真空容器１２内に設けられた被エッチング材料３０を、反応性イオンによりドライエッチングする。被エッチング材料３０はポリマー材料であり、ポリマー材料の表面にマイクロピラーアレイ構造に対応した所定形状のマスクを施す。酸素もしくは酸素を主体とした不活性ガスやハロゲン含有ガスとの混合ガスを用いて、これら混合ガスによる反応性イオンのプロセス圧力を０．０１Ｐａ以上０．２Ｐａ以下の条件にして、ドライエッチングを行い、ポリマー材料に微細なピラー構造を形成する。 （もっと読む）

【課題】照射雰囲気における空気循環を効果的に行うことができる光照射装置を提供すること。
【解決手段】紫外線照射装置は、ランプユニットと、ワークを載置するためのステージ２０と、ステージ２０をランプユニットに対して走査させる走査機構とを備えている。載置面２１には排気口２５が配設されている。排気口２５は吸引ポンプに連通されており、載置面２１上のワークに紫外線が照射される状態において、照射雰囲気の空気を強制排気する。 （もっと読む）

【課題】ワークに照射される光量のばらつきを抑えることができる光照射装置を提供すること。
【解決手段】紫外線照射装置は、ランプユニットと、ワークを載置するためのステージ２０と、ステージ２０をランプユニットに対して走査させる走査機構とを備えている。載置面２１には、個々のワークの載置領域に対応して、吸引口２３と溝部２４が設けられている。吸引口２３は吸引ポンプに連通されており、ワークを載置面２１に吸着させる役割を果たす。また、溝部２４は、載置面２１においてワークの外縁に対応する領域に溝状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】大面積で、欠陥の少ない、かつ結晶軸が揃った二次元結晶を得ること。
【解決手段】疎水性表面領域と接して親水性表面領域を有する基板の親水性表面領域全体に、両親媒性粒子を含む水性媒体を展開して、疎水性表面領域と親水性表面領域の境界線に沿って気液固体三相の接触線を形成することにより、気液界面において、当該接触線を起点として該接触線に対して略垂直方向に、前記両親媒性粒子の二次元結晶を形成させることを特徴とする、二次元結晶の形成方法。 （もっと読む）

【課題】 基板の大型化に好適に対応できると共にランニングコストを低減でき、基板表面の処理を確実に行うことができる、エキシマランプ装置を提供すること。
【解決手段】 本発明に係るエキシマランプ装置は、エキシマランプが収納されたランプハウスと、ランプハウス内に配置されてエキシマランプに対して平行かつ交互に位置されたガス噴出口が設けられてなるガス供給用配管と、ガス供給用配管に水蒸気を含む不活性気体を導入するガス供給手段とを具備し、前記ガス供給手段により絶対湿度が所定に制御された不活性気体が前記ガス供給用配管に供給されることを特徴とする。また前記絶対湿度は重量絶対湿度に換算して０．５〜６．５ｇ／ｋｇであるのがよい。 （もっと読む）

【課題】任意の場所で確実にかつ簡便にプラズマを発生させる装置を提供する。
【解決手段】絶縁体または誘電体により被覆されたワイヤ状の導電性部材からなる第１の電極３０とワイヤ状の導電性部材からなる第２の電極６０とを、板２０の上に略平行に配置する。第１の電極３０に電源４０によって交流電圧またはパルス電圧を印加する。すると、第１の電極３０の周りにプラズマが発生する。 （もっと読む）

【課題】超音波洗浄などの処理を行うとともに放電プラズマによる処理を効率よく行うことができるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置１１は、洗浄水Ｗを導入可能な容器１２と、超音波発生装置１３と、マイクロ波発生装置１４と、減圧装置１５とを備える。超音波発生装置１３は、容器１２内の洗浄水Ｗ中に超音波を照射してキャビテーションを多発的に生じさせ、洗浄水Ｗに含まれる有害物質を液相から気相に移行させる。マイクロ波発生装置１４は、容器１２内における気相にマイクロ波を照射して気相中にて放電プラズマを発生させ、気化した有害物質をその放電プラズマで分解して無害化する。 （もっと読む）

基板上の超親水性被膜は、防反射性及び防曇性であることができる。該被膜は、長期間にわたって防反射性及び防曇性を維持することができる。該被膜は、反対電荷の無機ナノ粒子を含むことができ、かつ有機ポリマーを実質的に含まなくてもよい。 （もっと読む）

【課題】細長い管の内部を処理することが可能な細線状大気圧放電プラズマの生成方法および生成装置の提供。
【解決手段】内部電極１として直径１ｍｍの銅線を用い、内部電極１を外形１．９ｍｍ、内径１．３ｍｍの石英管４の中に挿入し、隙間を充填材としてセラミックボンド５で埋め、空気を排除した構造とする。円筒管としての石英管４の外側にアルミ箔を幅２ｍｍのテープ状に切ったものを５ｍｍの間隔で螺旋状に巻きつけて外部電極２とする。内部電極１と外部電極２との間に交流電圧３を印加し、誘電体バリア放電を発生させる。 （もっと読む）

大気圧又は低真空条件で作動する誘電体バリア放電トーチを使用した粉末のインフライト表面処理の方法をここで説明する。前記方法は、減少した粉末凝集特性を示す粉末粒子を生成する誘電体バリア放電トーチへと粉末材料を供給する段階と、粒子の表面特性をインフライト修飾する段階と、被覆された粉末粒子を回収する段階と、を含む。大気圧又は低真空条件で作動する誘電体バリア放電トーチを備えるマイクロ粒子及びナノ粒子の表面処理のための装置もここで説明する。
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【課題】プラズマの熱に曝された場合でも、熱応力により破壊することのないプラズマ処理装置用電極部材の製造方法を提供する。
【解決手段】プラズマ発生用ガスを処理室に供給するためのガス供給口を有するプラズマ発生用電極の上記ガス供給口の前面に装着されるプラズマ処理装置用電極部材の製造方法であって、焼成によりアルミナセラミックスの多孔質体を形成した後、研削および研磨により成型を行い、その後、１０００℃〜１６００℃の範囲内の温度でもって再焼成する方法である。 （もっと読む）

【課題】 直管型長尺低圧水銀ランプが複数本平行に配設された端部水冷型低圧水銀ランプ装置において、隣のランプベースへの熱伝達を回避しながらランプベースを効果的に水冷し、ランプベース温度を所定範囲に制御する。
【解決手段】 直管型長尺低圧水銀ランプの両端部のランプベースをそれぞれ水冷する水冷機構は、そのランプベースの先端部を端面凹部で支持して成る金属製第一冷却ブロックと、このブロックに接触して配置され内部に冷却水流路を有する金属製第二冷却ブロックと、該ランプベースの外周を、下向きに開口部を有して囲繞する柱状体から成る金属製ランプベースカバーと、該ランプベースカバーの開口部を封鎖する金属製蓋と、を具備して構成する。 （もっと読む）

【課題】高強度の紫外線を長時間にわたって正確にモニタリングすることが可能な紫外線モニタリングシステム及び紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】この紫外線モニタリングシステム４は、電力を供給する電源装置１１と、電源装置１１から電力を得ることにより紫外線を照射する紫外線源１２と、受光した紫外線の強度に応じた量の電荷を生成する検知部としてのダイヤモンド層２２を有し、そのダイヤモンド層２２で生成された電荷から上記紫外線の強度に応じた電気信号を出力する紫外線センサ１３と、その電気信号に基づいて電源装置１１の電力供給を制御することにより、紫外線源１２の紫外線の出力を制御する制御部１４とを備えている。 （もっと読む）