【課題】 流体と接する微細流路内壁を有機膜で被膜するとともに、前記有機膜の耐熱上問題のない接合法によって前記微細流路を封止したマイクロ流体デバイスとその製法を提供する。
【解決手段】 第一の基板１に微細流路の溝４ａを形成する工程と、前記第一の基板１および前記第一の基板１と接合される第二の基板２の少なくとも互いの接合面に夫々有機膜５，７を被覆する工程と、前記第一の基板１と第二の基板２の有機膜被覆面のうち、少なくとも夫々の接合面にプラズマ処理または紫外線処理６を行い、前記有機膜５ａ，７ａの表面を−ＯＨ基で終端させる工程と、フッ酸を用いて前記第一の基板１と第二の基板２とを前記接合面で接合する工程とを含むことを特徴とするマイクロ流体デバイス１０の製法、および前記製法によって製作されたマイクロ流体デバイス１０。 （もっと読む）

本発明は、ガス放電ランプを駆動する適応ドライバと、永久的な最適化モードで、適応ドライバによって駆動されるガス放電ランプ、とりわけ容量性ガス放電ランプ、更にとりわけ誘電体バリア放電（ＤＢＤ）ランプを動作させる方法であって、ドライバの出力（電流、電力、電圧、周波数）の重要な値を表す信号を測定、検知及び／又は検出するステップと、ランプの放電の質に関して少なくとも１つの実際の基準値を計算するステップと、ランプの最適化動作モードに関する少なくとも１つの所定値と実際の基準値とを比較するステップと、その比較の結果に従って電源を調整するステップとを有する方法とに関する。
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【課題】無駄な放電を防止するための電極構造の大気圧プラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】電源供給手段５０から放電電圧が印加される第１電極１０と、第１電極１０と所定間隔が離隔され、第１電極１０を取り囲む誘電体３０と、第１電極１０と誘電体３０との間の空間に充填される液体誘電体４０と、誘電体３０と所定間隔が離隔されるように設置される第２電極２０と、を備える。さらに、第２電極２０と所定間隔が離隔され、第２電極２０を取り囲む第２誘電体と、第２電極２０と前記第２誘電体との間の空間に充填される第２液体誘電体とを付加することもできる。 （もっと読む）

【課題】放電プラズマにより励起された処理対象ガスを分解・合成・改質可能とし、ドライ洗浄装置やオゾン発生装置として使用可能にした大気圧プラズマ素子を提供する。
【解決手段】大気圧雰囲気中で処理対象ガスを流通可能とした筒状誘電体部材２の外周壁に電極を付設して外部電極６とし、該筒状誘電体部材２の内部に配され、螺旋状に正回転する第１羽根部分３、螺旋状に逆回転する第２羽根部分４とを交互に長手方向に延設してそれぞれを内部電極７とし、処理対象ガスと酸素を筒状誘電体部材２内で剪断力を受けて分割及び合流を繰り返すことにより両者が攪拌混合すると同時に両電極間６、７に高周波・高電圧を印加して放電プラズマを誘起することで筒状誘電体部材２内側の処理対象ガスの分解・合成・改質を可能とする。 （もっと読む）

少なくとも２つの一定の間隔で配置された電極（１３、１４）を有する放電空間（１１）の中の放電プラズマを制御するための方法及び構成。ガス又はガス混合物が放電空間（１１）の中に注入され、ＡＣプラズマ付勢電圧を電極（１３、１４）に印加するため、電極（１３、１４）を付勢するための電源（１５）が用意される。少なくとも１つの電流パルスが発生し、プラズマ電流及び変位電流を引き起こす。プラズマを制御するための手段が用意され、フィラメント放電などの低い動的抵抗対静的抵抗比を有するプラズマ変化に関連した局所的電流密度変化を制御するために変位電流変化率を適用するように構成される。こうした急速な変化をパルス発生回路（２０）を使用して抑制することによって、均一なグロー放電プラズマが得られる。
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本発明は、加工物、特に中空体加工物のプラズマ処理の方法に関する。この方法によれば、反応室内で処理区域が少なくとも部分的に排気され、処理区域内、特に加工物の中空体内にプロセスガスが導入され、放射される電磁エネルギーを用いて処理区域に導入されたプロセスガスでプラズマが点火される。本発明は、プラズマ処理中に、処理区域の両端間を通ってプロセスガスが流れることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 装置を大型化することなしに、低コストで電子線によるワークの処理を容易かつ良好に行うことができる電子線照射装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 真空チャンバー３と、真空チャンバー３内に電子線を発生させる電子線発生装置と、真空チャンバー３の内外を接続して電子線発生装置が発する電子線ＥＢを真空チャンバー３外に通過させる電子線射出口８と、真空チャンバー３外で電子線射出口８の周囲を囲むとともに電子線射出口８に対向する部位に開口部２２ａを有するノズル２２と、ノズル２２内に不活性ガスを供給する第一プロセスガス供給装置１１と、ノズル２２内に乾燥空気を供給する第二プロセスガス供給装置１２とを設ける。ノズル２２に、第一プロセスガス供給装置１１が供給する不活性ガスと第二プロセスガス供給装置１２が供給する乾燥空気とが供給されてこれらが混合される拡径部２２ｃ（混合器）を設ける。 （もっと読む）

【課題】紫外線光の照射範囲を狭めることなく且つ撓まないようにランプ管を被導電性保持部に保持することを可能にして、ランプ管と被照射物との距離のバラツキの発生を防止する。
【解決手段】ランプ容器２は内部に内部給電電極６を有し光線透過性の管状に形成されたもので内部に放電媒体５が封入されることでランプ本体を構成している。導電性保持部３は内部給電電極６に対向する外部電極として作用するもので、ランプ容器２の形状と一致する形状に形成された凹部３Ａを有し、この凹部３Ａにランプ容器２を設置する。そして、保持手段である当接部材２０は、回転対称で錐体状で形成され係止部Ｐ１を有し、この係止部Ｐ１が凹部３Ａに設置されたランプ容器２の中心よりも下部のランプ容器２の外表面の一部と点接触又は線接触することによりランプ容器２を保持する。 （もっと読む）

【課題】コスト増加や装置の複雑化を避けながら、処理特性分布がなく、しかも処理速度の速い大気圧プラズマ処理装置と大気圧プラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】電圧印加電極２、対向配置された接地電極３および両電極の間に配置された絶縁体４から構成される電極ユニット１と、被処理物８を搬送する被処理物搬送装置７と、絶縁体４とそれに対向する被処理物８との間に反応ガスを供給する反応ガス供給手段と、電圧を印加する電源９とを具備し、両電極２，３の間に局所的に強い電界を形成させてプラズマを発生させ、被処理物８に所望の処理を施す大気圧プラズマ処理装置であって、絶縁体４の電圧印加電極側部分および接地電極側部分に、強い電界を特定の位置に形成させ、前記強い電界の方向を、被処理物８の搬送方向１５に対して傾斜させる突起部１３を備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、容器の回転ムラを防止できると共に接触部の寿命を長くでき、更には容器と接触部との接触位置の調整を不要にできる被膜形成装置及び粉砕装置を提供することである。
【解決手段】 モータ３と、モータ３の出力軸５と、出力軸５に交差して設けられたアーム７と、アーム７に揺動自在に吊下げられた揺動軸１５と、揺動軸１５に回転自在に設けられた容器９と、出力軸５の回転方向に沿って円環状に設けられた接触部１０とを備え、容器９には基材４及び粉末６を収納しており、出力軸５の回転で容器９に生じる遠心力により容器９の公転半径が広がって容器外側面９ａが接触部１０に摩擦接触し、容器９が公転及び自転することにより、容器内の粉末６が衝突と摺擦を繰り返して基材４の表面に被膜を形成している。 （もっと読む）

【課題】
流路に微粒子等を注入して１対の部材を互いに向かい合わせて接着する場合、前記微細な穴や溝を損なうことなく、すなわち、接着剤で穴や溝を埋めてしまうことなく、且つ隙間なく接着することは、至難の業であった。
本発明は、流路に何らの流速制御部材を入れることなく流路内の液体の流速制御したバイオケミカルチップを提供することを課題とする。
【解決手段】
本発明は、あらかじめ、流路形成加工の終了した第１及び第２の部材の流路部内面に任意の表面エネルギーを有する化学吸着単分子膜を形成する工程と、前記第１及び第２の部材を向かい合わせて接着する工程とを用いて、少なくとも流路内面が任意の表面エネルギーを有する化学吸着単分子膜で覆われているバイオケミカルチップを製造提供する。 （もっと読む）

【課題】固体スズが排気装置の真空ポンプの回転部分や摺動部分に付着することを抑制し、極端紫外光発生装置が具備する排気装置の整備周期、および交換周期を長期化できる極端紫外光発生装置を提供すること。
【解決手段】極端紫外光発生装置の光源チャンバーと排気装置９との間に、光源チャンバーからの排出ガス中のスズおよび／またはスズ化合物をスズ水素化物とする水素ラジカル発生部８ａと、スズ水素化物を熱分解させ分解生成したスズを液体スズにして排出ガスから分離する加熱処理部８ｂとからなる処理ユニット８を設け、処理ユニット８は、液体スズを回収貯蔵容器３０に回収・貯蔵し、スズおよび／またはスズ化合物を含まない排出ガスを排気装置９へ送出する。 （もっと読む）

本発明は、インジェクションタイプのプラズマ処理装置に関し、常圧条件で誘電体バリア放電（ＤＢＤ；Dielectric Barrier Discharge）を利用して多様な面積、多様な大きさ、及び多様な形状を有する処理対象物を微細アークストリーマによる損傷なしに処理することができるインジェクションタイプのプラズマ処理装置を提供することをその目的にする。本発明に係るインジェクションタイプのプラズマ処理装置は、誘電体が形成された状態で、反応チャンバに提供される電源電極板と、前記電源電極板に交流電力が印加される時に前記電源電極板との間でプラズマを形成する、前記反応チャンバの壁の一部を構成し且つ複数のホールが形成された接地電極板と、前記反応チャンバ内に反応ガスを注入して、反応チャンバ内のプラズマを前記接地電極板のホールを介して外部に噴射させるガス供給ユニットとを含む。
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【課題】従来の電子線照射装置と比べると、コンパクト化、低価格化が可能である電子線照射装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバ２０と、真空チャンバ２０内に設置された電子線源１０とを含み、真空チャンバ２０の開口枠部２１に電子線照射窓部３０を備えており、電子線照射窓部３０は、窓枠部材３１と、窓枠部材３１の電子線透過用開口部３１２を覆う窓箔３３と、窓箔押さえ部材３２とを有し、窓箔押さえ部材３２は、窓箔３３に冷却用ガスを吹きつけるためのノズル３２２を有している電子線照射装置であって、窓枠部材３１内部に、ノズル３２２に連通し、該ノズルへ冷却用ガスを供給するダクト部５が一体的に形成されている電子線照射装置Ａ。 （もっと読む）

本発明は、特に基板を加工するための大気圧プラズマ（２０，２０ａ，２０ｂ，２０ｃ，２０ｄ）を生成する設備（１０）に関し、特にこの設備（１０）は、圧電材から成る装置（１１，１１ａ，１１ｂ，１１ｃ）を備え、この装置（１１，１１ａ，１１ｂ，１１ｃ）は、少なくとも１つの１次領域（１２，１２ａ，１２ｂ，１２ｃ）及び１つの２次領域（１３）を有し、低電圧の交流電圧を印加するための少なくとも２つの電極（１７ａ，１７ｂ，１７ｃ）が、この１次領域（１２，１２ａ，１２ｂ，１２ｃ）に配置されていて、電位差が、この２次領域（１３）の長手方向（Ｌ）に沿ってこの１次領域の励起に起因して生じる設備(１０)。この特徴は、特にこの２次領域（１３）が長手方向（Ｌ）に沿って反対方向に分極している２つの部分領域（１４，１４ａ、１４ｂ、１４ｃ，１５，１５ａ，１５ｂ，１５ｃ）を有することにある。
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本発明はシート形状の平面材料（３０）をコロナ処理する為の装置及び方法に関し、上記装置は平面材料を搬送する為の回転可能なローラー形状の搬送電極（１）、処理ギャップ（３１）の制限下で平面材料の為に搬送電極に対向して配設される処理電極（２ａ、２ｂ）、処理電極へ高周波数の電圧を印加する為の高電圧源（４）、及び、平面材料シートを縁側で受容する為の搬送電極で側面表面側に配設されるシートくわえ爪（１１）を有している。上記装置は本発明に従い処理装置により特徴付けられる。上記処理装置には少なくとも１つの処理電極が配設され、又、搬送方向に見られる少なくとも１つの処理電極の前後に配置又は形成される吹付け手段（２２、２３）を有する。上記吹付け手段により、ガス状媒体（１６、１７）を、処理ギャップ内にある平面材料へ上記平面材料が少なくとも処理ギャップの範囲で平坦に搬送電極の側面表面上に載るように、導くことが出来る。
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【課題】 電極間の管壁部を効率的に冷却し、高い放電強度の放射を発することが可能なフラッシュランプ装置を提供すること
【解決手段】 一対の電極が対向して配置された発光管を備えたフラッシュランプを有し、発光管の外表面を流体によって冷却する冷却機構を有するフラッシュランプ装置において、冷却機構を構成する冷却管と発光管との間隙の流路断面積は、少なくとも電極間において、その区間以外の冷却管と発光管との間隙の流路断面積よりも小さいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ，Ｃｒ、Ｔｉ等の金属元素を含有した金属含有ＤＬＣ膜と称される硬質炭素系膜の除去方法において、機械装置の簡略化が可能であり、且つ金属含有ＤＬＣ膜の除去に要する時間も短い金属元素含有ＤＬＣ膜の除去方法を提供する。
【解決手段】材上に形成された金属元素を含有する硬質炭素系膜に対し、プラズマ中でイオン化若しくはラジカル化した際にフッ素イオン若しくはフッ素ラジカルを生じさせるガスを用い、そのガスから形成されたプラズマ中に該硬質炭素膜を暴露することを特徴とする硬質炭素膜の除去方法による。 （もっと読む）

【課題】ポリマー繊維ウエブおよびエレクトレットの濾過特性を更に向上させる。
【解決手段】気体プラズマにより大気圧条件下で超極細繊維を処理することにより、濾過作用の改良を図る。この改良された濾過作用は、超極細繊維をエッチングして当該超極細繊維の表面積を増加させることにより得られる。 （もっと読む）

本明細書に記載のシステムおよび方法は、表面、バルク材、被膜および塗膜処理（これらに限定されない）用に放射線ビームを生成可能な固体光源に関する。固体紫外線源は、少なくとも２つ、望ましくは、４つの独立して制御可能な個別固体光エミッタの光出力を光学的に結合して、広範囲の波長（すなわち、遠紫外線から近赤外線）に及ぶ制御可能な多波長スペクトルを有する光線を生成する。本光源の特定の機能によって、硬化、表面改質およびその他の用途での使用のための光のスペルクトル、空間および時間的分布の変化が可能となる。 （もっと読む）