【課題】放電によるラジカル処理方法を使用するラジカル処理装置において、水処理などに適用した場合の処理効率の向上を図ることができるラジカル処理装置を提供することにある。
【解決手段】放電によりラジカルを生成するラジカル処理装置１０において、高電圧の印加により放電プラズマを発生させる突起部材４の近傍にラジカル処理用ガス６を導入するためのガス流入口７及びラジカルを含むラジカル含有ガス１１を噴出するためのガス流出口８を有する構成である。 （もっと読む）

【課題】筒型基材のプラズマ表面処理において、より均質性に優れたプラズマ処理を可能とする装置および表面処理筒型基材の製造方法を提供する。
【解決手段】同軸上に配置された筒型基材３の外側の電極１と、該外側の電極１と筒型基材３を介して対向するように配置された内側の電極２とを有する同軸型のプラズマ表面処理装置において、プラズマ表面処理側の電極に、軸方向にガスが流動できる溝を設ける。 （もっと読む）

【課題】生産コスト及び運用コストを低減すること。
【解決手段】放電電極（８）が内部に配置された光発生室（６）と、前記放電電極（８，４３）が放電したときに所定の波長の真空紫外光を発生する真空紫外光発生用ガスを前記光発生室（６）内に流入させるガス流入口（１６）と、前記光発生室（６）内に流入した前記真空紫外光発生用ガスを前記光発生室（６）から流出させるガス流出口（１７）と、前記ガス流出口（１７）および前記ガス流入口（１６）とを接続する循環路（２１＋２２）と、を有し、前記ガス流出口（１７）から流出した前記真空紫外光発生用ガスを前記ガス流入口（１６）から前記光発生室（６）内に流入させることにより前記真空紫外光発生用ガスを循環させることを特徴とする光源装置（４）。 （もっと読む）

【課題】製造時間が短縮され、様々な大きさの基材への対応が容易であって、かつ基材が複雑な三次元構造体であっても基材をムラなく洗浄することが可能な、有機薄膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】基材表面に有機薄膜を形成する有機薄膜の製造方法であって、基材をオゾン水又は過酸化水素水で洗浄する工程（Ａ）を有することを特徴とする有機薄膜の製造方法。好ましくは、オゾン水中のオゾンの濃度が、５〜１００ｐｐｍ、過酸化水素水中の過酸化水素の濃度が１〜３０重量％であることを特徴とする有機薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】吹出し口からの電界漏れを防止できるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置は、電極３１，３２間のプラズマ放電空間５０に通したプロセスガスを吹出し口５１から吹出し、空間５０の外部の処理位置に配置された基材Ｗに接触させる。電極３１と前記処理位置との間には、電気的に接地された導電部材６１，６２が設けられている。導電部材６１，６２には、吹出し口５１に面する吹出し側部６４を有している。吹出し側部６４に、ガス吹出し方向に沿って突出する凸部６５が設けられている。 （もっと読む）

【課題】
電気機能など各種機能を持った微粒子は数々開発製造されているが、それら微粒子が持つ本来の機能に、微粒子の形状を損なわず更に新たな機能を付与するという思想はなかった。
【解決手段】
微粒子をクロロシラン化合物と非水系の有機溶媒を混合して作成した化学吸着液に分散させて前記クロロシラン化合物と前期微粒子表面を反応させることにより、微粒子表面に共有結合した分子で構成する被膜を形成し、微粒子本来の機能を保ったままで溶媒への分散性を向上する機能や各種反応機能を付与した微粒子を提供する。 （もっと読む）

【課題】均一に微細気泡を発生させることができ、下水中への気泡分散効率を改善した多孔膜材を提供する。
【解決手段】多孔膜材１は、多数の小孔２が貫設された弾性体製の気泡発生膜部３を有する。また、多孔膜材１の気泡発生膜部３の各部位毎の小孔２の内径寸法、又は、長さ寸法、又は、配設密度を相違するように設定して全面的に均一微細気泡を発生させるように構成する。さらに、気泡発生膜部３の表て面３ａには、親水性付与剤のコート層が形成されている。 （もっと読む）

【課題】流動特性を改善するとともに現在使用されている方法よりコストがかからない粉末の精製方法を提供する。
【解決手段】本発明の側面によれば、イットリア及びアルミナ粉末のような金属酸化物粉末（供給材料）は、プラズマ装置を用いて処理される。その処理は、通常、プラズマ装置を用いた供給材料の空中での加熱と溶融とからなる。そのプラズマ装置は、所定の電極供給機と冷却システムとを有するプラズマトーチ、粉末供給機、粉末を収集するチャンバー、及び、除塵システムを備える。加熱された粉末は、自由落下状態で急速に冷却される、溶融された球形の小滴を形成する。プラズマ高密度化処理は、いくつかの不純物である酸化物を除去し、粒子の形態を変化させ、粉末の見掛け密度を向上させる。 （もっと読む）

【課題】線状に連続する被処理物の表面を効率良く連続的にプラズマ処理することができる、プラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】第１の工程において、連続する被処理物４が真っ直ぐに延在する部分において、実質的に細長い開口１１を有するプラズマ処理ヘッド１０を、開口１１の長手方向が被処理物４の延在方向と略平行になるように、開口１１を被処理物４の表面５に沿って隙間を設けて配置する。第２の工程において、被処理物４の延在方向に、プラズマ処理ヘッド１０の開口１１に対して被処理物４を相対的に移動させながら、プラズマ化した処理ガスをプラズマ処理ヘッド１０の開口１１から被処理物４の表面５に吹き付ける。 （もっと読む）

【課題】線状に連続する被処理物の表面を効率良く連続的にプラズマ処理することができる、プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】実質的に細長い開口１１を有するプラズマ処理ヘッド１０を備える。プラズマ処理ヘッド１０の開口１１は、連続する被処理物４が真っ直ぐに延在する部分において、被処理物４の表面５に沿って被処理物４の延在方向と略平行かつ被処理物４の表面５との間に隙間を設けて延在するように、配置される。被処理物４が被処理物４の延在方向にプラズマ処理ヘッド１０の開口１１に対して相対的に移動するとき、プラズマ処理ヘッド１０は、開口１１から、プラズマ化した処理ガスを被処理物４の表面５に吹き付ける。 （もっと読む）

開放性火炎に基づく噴射のための本発明の装置および方法は、機械的に圧送された反応性かつ可燃の液体溶液をノズルを用いて小さいオリフィスまたはノズルを経て予熱、与圧および霧化し、それから一組の点火炎により該噴射を燃焼させるものである。液体原料はノズルに達する前に超臨界温度に予熱され、入口に関する原料流経路の出口ポートの大きさの削減によって噴射の前に加圧される。補足のコリメーションまたは被覆ガスが原料の流経路に供給され、原料および補給ガスの両方が噴射の前に均一に加熱される。この配置によりノズルの目詰まりが避けられ、噴射手法の粒子生産物の特性が充分に制御される。 （もっと読む）

【課題】吸着材からの排ガスの濃縮脱離において、非熱プラズマを印加する手段を備えることにより、追加的な装置を必要とせずに、常温常圧で処理することができ、ランニングコストの低廉化が可能である非熱プラズマによる排ガスの濃縮脱離装置を提供する。
【解決手段】本発明は、排ガスの出入り口を設けた容器と、前記容器内に充填された排ガスを吸着する吸着材と、１Ｈｚ〜１０００ＨｚのＡＣ電源、パルス電源、矩形波電源又は三角波電流を持つ電源と、前記いずれかの電源からの放電により、前記吸着材に対して、常温常圧下において、電離気体を発生させる非熱プラズマ印加手段を備え、前記電離気体により、吸着材に吸着され濃縮された排ガスの脱離とともに吸着材の再生を行う。 （もっと読む）

【課題】 硫黄被毒回復処理が必要となる、例えばＮＯｘ吸蔵還元触媒のような排気浄化触媒を備えた排気浄化装置において、硫黄被毒回復処理時間の短縮化あるいは硫黄被毒回復処理可能温度の低温化を、より効率的に図ることができ、燃費の向上および触媒浄化能力の維持を図ることが可能な排気浄化装置を提供すること。
【解決手段】 本内燃機関の排気浄化装置は、排気通路に排気浄化触媒が配置された内燃機関の排気浄化装置であって、プラズマ改質部を有するプラズマインジェクタを有し、あらかじめプラズマインジェクタにより燃料および空気の少なくとも一方からプラズマ改質してもたされた活性種を、排気浄化触媒よりも上流の排気に添加して、排気浄化触媒の硫黄被毒回復処理を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 光化学処理装置及び光化学処理方法に関し、簡単な装置構成によりＶＵＶ光による活性化効率を高めて高スループットで光化学処理を行なう。
【解決手段】 真空紫外線発生光源１、真空紫外線発生光源１を収容する収容部３を備えるとともに、ガス導入口４及びガス噴出口５を備えた活性化反応室２を備え、ガス導入口４から導入した反応ガス７を真空紫外線発生光源１からの真空紫外線によって活性化し、活性化した反応ガス８をガス噴出口５から被処理基板９に吹き付ける。 （もっと読む）

本発明は、ポリマ化学の分野に関係し、ポリマを流動性の状態で電子放射線によって連続的に改質するための装置であって、ポリマが、改質の前、改質の間および改質の後に成形部分または半製品を形成するように加工可能である形式のものに関する。本発明の課題は、溶融体形成と溶融体改質との組合せが連続的な方法で行われて、ポリマの改善された特性をもたらすような装置を提供することである。この課題は、当該装置が、ポリマを流動性の状態に変えるための装置構成要素と、電子照射のための放射線シールドと、冷却装置とから成っており、放射線シールドの内部に電子放射線のための照射装置ならびに流入・流出管路が設けられており、放射線シールド内部で、変形加工されかつ改質された固形のポリマを製造する場合には、放射線シールドの内部に形状付与装置が設けられており、流動性のポリマが、前記形状付与装置の後ろで照射範囲内に、空間内を自由に浮動するように存在していることを特徴とする、ポリマを流動性の状態で電子放射線によって連続的に改質するための装置により解決される。
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本発明の実施形態は、気相堆積チャンバ内の製造プロセス中に基板汚染を減少させる処理プロセスを提供する。処理プロセスは、気相堆積プロセス、例えば、原子層堆積（ＡＬＤ）プロセスの前に、間に、後に行うことができる。ＡＬＤプロセスの一例において、中間処理ステップと所定数のＡＬＤサイクルを含有するプロセスサイクルは、堆積物質が所望の厚さを有するまで繰り返す。チャンバと基板は、処理プロセスの間、不活性ガス、酸化ガス、窒化ガス、還元ガス、又はそれらのプラズマにさらすことができる。ある例において、処理ガスは、オゾン、水、アンモニア、窒素、アルゴン、又は水素を含有するのがよい。一例において、バッチプロセスチャンバ内で酸化ハフニウム物質を堆積させる方法は、前処理ステップと、ＡＬＤプロセス中の中間ステップと、後処理ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】大気圧近傍条件下で基材表面を撥液化処理する表面処理方法において、処理ガス中の化合物ガス比率を非常に多くしないと十分な撥液効果が得られず、安価な希釈ガスを用いたとしてもランニングコストの削減が難しい。
【解決手段】互いに対向する一対の電極間に電界を形成し、前記電界が形成される空間に流れる処理ガスをプラズマ化する工程と、該プラズマにより被処理基材表面を撥液化する表面処理工程とを含み、前記表面処理工程が第１および第２段階の表面処理から構成され、各段階の表面処理に用いられる処理ガスが互いに異なるガス種あるいはガス組成よりなることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は微小反応室（１２）において反応を実施するための方法に関する。本発明によれば、反応を実施するため、微小反応室内において有利に目的に合致した反応を受け得るナノ粒子（２４ａ、２４ｂ及び２４ｃ）が用いられる。好ましくはナノ粒子の形でも存在する生じた反応生成物（２５）は、微小反応室（１２）から取り出され得る。微小反応室（１２）を使用することによって、進行する反応が有利に目的に合致するように影響を及ぼされるようにすることが可能であり、その際反応室内への又は反応室からの配量されたエネルギー供給によって、吸熱反応並びに発熱反応を精密に予言可能な結果をもって実施することができる。
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【課題】 多孔性素材の表面のみならず細孔内も効率的にプラズマ処理する方法及び処理装置を提供する。
【解決手段】 (a) プラズマガスを多孔性素材に接触させた状態で多孔性素材を吸引することにより、多孔性素材に前記プラズマガスを通過させるか、(b) プラズマガスを所定の流量で多孔性素材に吹き付けてプラズマガスを通過させる方法。多孔性素材を載置、固定又は搬送する多孔性支持体を有するプラズマ処理装置。 （もっと読む）

基材の少なくとも一部の表面を処理するための装置及び方法がここに記載される。一の実施態様において、該装置は、内部容積部、該基材、及び排気マニホールドを含むプロセスチャンバー；一以上のエネルギー源によって一以上の反応性ガス及び随意的に追加的なガスを含むプロセスガスが活性化されて、活性化反応性ガスを提供する活性化反応性ガス供給源；及び該供給源及び該内部容積部と流体で連通している分配導管を有し：該分配導管は該活性化反応性ガスを該内部容積部及び直接的に該基材に導く複数の開口部を含み、ここで該活性化反応性ガスは該表面と接触し、使用済みの活性化反応性ガス及び／又は揮発性生成物をもたらし、これらは該排気マニホールドを通じて該内部容積部から引き出される装置である。 （もっと読む）