【課題】微小物体を効率的に担体表面に光固定化する。
【解決手段】光照射時に微小物体２の固定化能力を発現する光固定化材料を少なくとも表面６の一部に有する担体４の表面６に、微小物体２を含有する微小物体含有液状体１０の存在下、微小物体２の微小物体含有媒体１０の液状媒体１２への溶解が抑制された状態で光照射して微小物体２を担体表面６に固定化する光固定化工程を備えている。 （もっと読む）

【課題】
微小領域を部分的に親水化処理する。
【解決手段】
平坦な基板１上に一対の櫛歯状電極２が互いに噛み合うように配置されており、その上を覆って誘電体層３が被覆されている。誘電体層３上には電極２の領域を一部に含むように流路５が形成されている。このチップ部材の流路を分析や反応に使用するに先立ち、一対の櫛歯状電極２間に所定の高周波電圧を印加すると、流路５内で電極２が存在する領域には沿面放電が生じてその部分にプラズマが発生し、その部分の表面が親水化処理される。 （もっと読む）

マイクロ構造及びマイクロ構造の製造方法が開示される。１つの例示的なマイクロ構造は特に、基板と、基板上に配置されたオーバーコート層と、オーバーコート層の少なくとも一部分内にある空気領域と、内側で空気領域の少なくとも一部分と係合し、外側でオーバーコート層と係合するフレーミング材料層とを含む。 （もっと読む）

【課題】小型でかつ不活性ガスの使用量が少なく、電子線照射処理のサイクルタイムが短く、かつ電子線照射の均一性が高い電子線照射装置および電子線照射方法を提供すること。
【解決手段】電子線を放射する電子線照射管２２を有する電子線放射部２０と、放射された電子線を被照射物１に照射する電子線照射部３０と、電子線放射部３０に被照射物１を搬送する搬送機構５０と、電子線を照射する際に被照射物１を自転させる回転機構７６と、電子線を照射する際に被照射物１と電子線照射管２２との間に、電子線照射管２２が被照射物１の直上を通るような相対的な直線移動を生じさせる直動機構７８とを具備し、直動機構７８は、電子線照射管２２が被照射物１の端部から中心に向いその電子線放射部位２２ａの中心が被照射物の中心に達する前に折り返すような相対的な直線移動を生じさせる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は活性エネルギー線照射室内の不活性ガス濃度を維持し、かつ照射室の入口および出口から不活性ガスが外部に漏れることを防ぐことができる照射装置を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明の活性エネルギー線照射装置は、不活性ガスが供給される照射室内に被照射物が導入される入口部及び被照射物が送り出される出口部に、照射室内の気体の排気口を有する。また本発明の活性エネルギー線照射装置においては、照射室内への不活性ガスの供給量を毎分Ａ立方メートル、入口部の排気量を毎分Ｂ立方メートル、そして出口部の排気量を毎分Ｃ立方メートルとした場合に、Ａ＜Ｂ＋ＣかつＢ＜Ｃとするのが好適である。さらにＢ＋ＣがＡの１０倍以上であることがより好ましい。 （もっと読む）

【解決手段】処理装置ないし処理リアクタ（１）であって、第１の電極（２０）を備えた少なくともひとつの誘電バリア放電ランプ（２）と、ランプ（２）が発生させる放射によって処理されるべき流体及び／又はガス及び／又は固体材料などの媒体（３）を収容するハウジング（１０）とを備えた装置が開示され、少なくともひとつのランプ（２）の少なくともひとつの第２の電極が、少なくともひとつの誘電バリア放電ランプ（２）とハウジング（１０）との間の空間（３１）内に配置された、少なくともひとつの中間対電極（３，４）の形態であることを特徴とする。これにより、処理装置ないしリアクタ（１）の電気的挙動に対する処理された媒体の影響、特に、媒体内における出力損失を回避し又は著しく減少させる。さらに、ランプを取り囲む外側電極における吸収及び／又はシャドウイングに起因するランプの光の損失も回避される。 （もっと読む）

本発明は大気圧または大気圧付近の圧力で低温プラズマを発生させるためのマイクロ・プラズマ・アレーに関するものである。 ここに提案するものは、基板（1）において規則的な間隔で設けられた孔を有する壁面が中空電極（2）を形成し、金属メッキされ、そして基板（1）の一方の側からこの中空電極（2）が単独またはグループでギガヘルツ帯の電気的励起を受ける方法である。
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本発明は、金属層および無機酸化物層を少なくとも２層以上有する積層構造に対して、反応性イオンエッチングを用いることにより、酸化物あるいは酸化物と金属の積層にて構成され膜の表面状態を活性化させて化学的に反応を起こすことにより、反応生成物の堆積を活用して基板上に中空部を有する微細な構造体を形成する。
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【課題】 基板に照射する紫外線の照度を調整可能にして表面処理性能を向上した表面処理方法、表面処理装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。
【解決手段】 紫外線照射装置１０に、酸素ガスの流量を制御可能に供給する酸素流量制御弁１６を設け、基板ステージ１８に紫外線Ｌｕｖの照度を検出するための紫外線受光部２１を配設した。そして、紫外線照射処理を施すときに、紫外線受光部２１からの検出信号に基づいて実照度を検出し、検出した実照度に基づいて、その実照度を設定処理照度にするための酸素ガスの流量を算出するようにした。そして、紫外線Ｌｕｖをガラス基板２に照射する間、酸素ガスの供給量の制御によって、被照射面２ｓに照射する紫外線Ｌｕｖの照度を設定処理照度にするようにした。 （もっと読む）

反応を助長する流体フローに関連して、作業対象の表面または表面下での反応に関するシステムおよび方法を開示する。いくつかの実施形態では、反応の助長は、（１）表面を所定タイプの光に露光させている間に、表面上に不活性流体の流体フローを形成するステップ、（２）作業表面または作業表面下で所定の態様で別の種と反応する反応種を含む流体フローを形成するステップ、または（３）例えば所定タイプの光に露光させている間に、所定の態様で反応の触媒作用を行う触媒種を含む流体フローを形成するステップ、のうちの少なくともいずれかによって行われる。いくつかの実施形態では、光源は、複数の固体光源の密なアレイ等の固体光源を含むものを使用する。このような実施形態のうちの少なくとも１つの実施形態では、反応は光源に関連した光化学反応である。 （もっと読む）

【課題】 基材となる微粒子合成だけではなく、その後の処理工程をも並行して行える機能を備えた微粒子製造装置を提供する。
【解決手段】 微粒子製造原料を流通させる微小な流通空間に原料を流通させて微粒子を製造する装置であって、原料投入ポートと、合成流路と、合成物排出ポートとを備えた第一の反応チップと、合成物排出ポートから排出された合成物に対して修飾処理を施す処理流路を備えた修飾チップとを備える。 （もっと読む）

【課題】 基板上に液体の通流路となる単数または複数のマイクロチャネルを形成するに当たり、深さの製作精度を向上させたマイクロチャネルを提供する。
【解決手段】 本発明のマイクロチャネルは、形成すべきマイクロチャネルの深さに相当する厚みのＰ型シリコン層３を上部に有するＮ型シリコン層２を用い、Ｐ型シリコン層３を選択的に陽極酸化した後、ガスまたは薬液を用いてポーラスシリコン領域１１を選択的に除去することによって製造する。 （もっと読む）

本発明は、成形部品（３）の表面のレーザー除染に関する。除染は、成形部品の表面の複数の部分を同時にカバーするように紫外線領域の波長を有するパルスレーザービームを分配して、これらレーザービームの衝撃を成形部品の表面の複数の部分に連続して当てることで、成形部品の表面層を粒子としてアブレーションし、粒子を吸引により回収することにより実行される。
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【課題】 チューブの端部の内面を隅々まで確実にプラズマ処理する。
【解決手段】 プラズマ供給部２０にチューブ端挿入部材３０を接続する。チューブ端挿入部材３０には、プラズマ供給部２０のプラズマ導出口２０ｂに連なる連通口３２と、これに続くチューブ用孔３３とを形成する。チューブ用孔３３は、チューブ９０の内径より小径の小径孔部３４と、この小径孔部３４を挟んで連通口３２とは反対側に開口された大径孔部３５とで構成し、これら孔部３４，３５の間に環状の段差面３６を形成する。大径孔部３５にチューブ９０の端部を挿入し、端面を段差面３６に突き当てる。 （もっと読む）

気体を活性化し解離する方法及び装置であって、チャンバの中のプラズマを用いて活性化気体を発生するステップを含む。下流気体入力をチャンバの出力に対して配置することにより、気体入力によって導かれる下流気体の解離を容易化し、解離された下流気体がチャンバの内側表面と実質的に相互作用しないようにする。
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【課題】 ワークをより均一に照射することのできる照射装置を提供する。
【解決手段】 照射装置100を、xy平面上に配されたワーク200をx軸方向に移動させるためのワーク移動手段110と、xy平面に平行に配された基板121に複数個の光源S_1,1〜S_m,nをm行n列（mは2以上の整数、nは1以上の整数）に配してなる照射部120とを備えたものとし、1行1列目に配された光源S_1,1の中心Aと2行1列目に配された光源S_2,1の中心Bとを結ぶ線分ABは、x軸に対して傾斜するように設定した。 （もっと読む）

少なくとも一対の実質的に等間隔に離隔した電極（２）を備え、該電極（２）間の間隔はプロセスガスの導入時にプラズマゾーン（８）を形成するようになっており、必要に応じて、気体、液体及び／または固体前駆物質が通過できる大気圧プラズマアセンブリ（１）において、前記少なくとも一対の電極（２）は内壁（５）及び外壁（６）を有するハウジング（２０）を備え、前記内壁（５）は非多孔性の誘電体材料から形成され、前記ハウジング（２０）は実質的に、少なくとも実質的に非金属性導電性材料を有することを特徴とする。
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【課題】プラズマ処理時における被処理体の熱変形を防止することができ、被処理体の全体に渡って均一なプラズマ処理を施すことができるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】本発明のプラズマ処理装置１は、ワーク２を搬送する第１のコンベア３および第２のコンベア４と、ワーク２に対しプラズマ処理を施すプラズマ処理部５と、ワーク２をプラズマ処理するのに先立ってワーク２を予熱するヒータ６１が設けられた予熱部６とを備える。プラズマ処理部５でプラズマ処理されているときのワーク２の最高温度とほぼ同等またはそれ以上の温度になるまでワーク２を予熱部６にて予熱した後、ワーク２をプラズマ処理する。 （もっと読む）

【課題】 低温部となる不活性ガス噴出孔の周辺部に汚染物が付着さず、被処理物が汚染物によって汚染されることがないエキシマ光照射装置を提供することにある。
【解決手段】 本発明のエキシマ光照射装置は、エキシマランプ２から放射されたエキシマ光を被処理物Ｗに照射するものであって、被処理物Ｗの処理空間に向けて不活性ガスを噴出する噴出孔４１を有する不活性ガス流通部４が形成され、噴出孔周辺部４１ａを加熱する加熱手段を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

表面をプラズマ処理するプロセスにおいて、口及び出口を有すると共にプロセスガスが入口から出口へ流れる誘電体ハウジング内で、非平衡状態大気圧プラズマが発生する。少なくとも一部が誘電体材料で形成された配管が、誘電体ハウジングの出口から外側へ延び、配管の端部がプラズマの出口を形成する。処理される表面は、表面が非平衡状態大気圧プラズマと接触するようにプラズマの出口に隣接して配置され、プラズマの出口に対して移動する。
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