【課題】 筒状の被処理部材の内径寸法が変わっても容易に対応することができる、チューブ処理方法及び処理装置を提供する。
【解決手段】 平板状の一対の電極１２，１４を間隔を設けて平行に配置した電極対１０の開口部に、開口部の間隔よりも内径が大きい筒状の被処理部材４の端部開口が対向するように、電極対１０に対して被処理部材４を配置する。次に、電極対１０と被処理部材４とを相対的に移動させて、被処理部材４の端部開口が電極対１０の開口部に対向する位置を変えながら、電極対１０の開口部から被処理部材４の端部開口に処理ガスを吹き付ける。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】ビューウィングウィンドのクリーニング用装置とビューウィングウィンドと取り付け具とを有するプロセスチャンバのためのビューウィングポートが、与えられている。ビューウィングウィンドのクリーニング用装置は、この取り付け具に結合され、このビューウィングウィンドと上記プロセスチャンバのあいだに位置されており、この取り付け具のクリーニング用のプラズマ領域にクリーニング用のプラズマを形成するように構成されている。さらに、この取り付け具は、副生成物が、ウィンドに向かうのを妨げることによって、プロセスチャンバからのビューウィングウィンドの表面の副生成物の量を、減少させるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成で光触媒物質による微細加工を行う微細加工装置、微細加工方法、並びに実用性の優れた光触媒物質成形体を製造する方法を提供すること。
【解決手段】 微細加工装置は、マトリックス成分中に微粒子状の光触媒物質の機能成分が分散保持された成形体よりなる加工作用部材と、光照射手段とを有し、加工作用部材が加工対象表面に近接または接触された状態で加工作用部材に励起光が照射される。微細加工方法は、当該光触媒物質成形体の加工作用部材を加工対象表面に近接または接触して位置させて加工作用部材に励起光を照射する。光触媒物質成形体の製造方法では、例えば酸化チタンおよび酸化ケイ素を含有してなる材料組成物の溶融体を延伸することにより、一方向に配向された状態の組織を有するものが得られる。材料組成物の溶融体を固化させたものにマトリックス成分の選択的溶解処理が行われることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 長いガス置換時間を必要とせずに、真空紫外光照射により試料洗浄を行える構成の簡素な真空紫外光照射装置を提供すること。
【解決手段】内部に真空紫外光発生用の放電用電極１６が配置された真空紫外光発生室Ａと、前記真空紫外光発生室Ａ内に真空紫外光発生用ガスを流入させるガス流入路１９ａと、前記流入した真空紫外光発生用ガスを真空紫外光発生室Ａから流出させるガス流出路Ａ１ａ、前記真空紫外光発生室Ａ内の真空紫外光が照射される真空紫外光照射位置で且つ前記真空紫外光発生用ガスの流路中に試料を支持する試料支持部材２１とを備えた真空紫外光照射装置。 （もっと読む）

【課題】 少なくとも２つの離間された電極（２）を含むプラズマ放電間隔での大気状態下のガスまたはガス混合物におけるグロー放電プラズマを制御するための方法及び装置において、プラズマ・パルスの終わりでプラズマの不安定性を阻止しかつ除去するようにグロー放電プラズマを制御する。
【解決手段】 電極（２）にＡＣプラズマ付勢電圧を印加することによって、絶対パルス最大値を有する少なくとも１つのプラズマ・パルスが生成されて、プラズマ電流及び変位電流を生じる。プラズマは、パルス最大値の後に変位電流の相対的な減少を提供することによって制御される。好適な実施形態において、付勢電圧は、チョーク・コイル（３）及び飽和可能でないインダクタ（４）の直列回路を通して印加される。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理室へシャワー状にガスを供給するシャワープレートのガス供給孔内での放電を防止し、装置の安定稼動を実現する。
【解決手段】プラズマ処理室内に導入される電磁界のシャワープレート面内における電磁界分布に従い、所定の電界強度以下となる電界の弱い領域にシャワープレートのガス供給孔を配置する。 （もっと読む）

【課題】 液体や膜状物、医薬品原料や試薬原料などの中に含まれるタンパク質を、従来と比較して格段に簡便かつ確実に分解することができる処理方法、およびそのための処理装置を提供する。
【解決手段】 液体または膜状物に反応性を有する粒子を放出することによって、当該液体または膜状物に含まれるタンパク質を断片化することを特徴とする処理方法、ならびに、反応性を有する粒子を発生する手段と、タンパク質を含む材料中のタンパク質を材料表面に露出させるための手段と、前記露出したタンパク質に前記反応性を有する粒子を放出する手段とを備える処理装置。 （もっと読む）

大気圧プラズマを利用した表面処理装置を提供する。表面処理装置は、処理ガス貯蔵部及び該処理ガス貯蔵部の下部に位置したプラズマ発生部からなり、ａ）前記処理ガス貯蔵部は処理ガスを導入する第１流入口を備え、ｂ）前記プラズマ発生部は、お互いに向かい合った上部電極及び下部電極と、該上部電極及び下部電極との間に形成されたプラズマ発生空間と、前記上部電極及び下部電極を絶縁させる絶縁体と、電極の表面温度を下げる放熱器と、前記処理ガスを前記処理ガス貯蔵部からプラズマ発生空間に導入する第２流入口と、前記プラズマ発生空間で生成されたプラズマ及びプラズマに転換されない処理ガスをプラズマ発生空間の外部に誘導する排出口と、交流電圧を印加する交流電源と、を含み、前記上部電極及び下部電極はすべて平板形電極であり、前記排出口は前記下部電極に形成され、前記下部電極の下側には基板が位置される。前記表面処理装置は、処理しようとする基板の形態に制限を受けることがなく、基板の処理面積を増加させることができるだけではなく、大気圧下で連続的な基板の表面処理を可能にする。
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本発明は、容器を搬送するための運動システムと、大気圧で動作する、それぞれ１個ずつ容器を処理するべく設計された複数のプラズマ発生器とを備えた、プラズマを使用して容器の表面を処理するためのデバイスに関する。プラズマ発生器は、処理ガス供給システムと、スイッチとして機能する少なくとも１つのトランジスタもしくはＬＣアダプタを備えた、電流にパルスを供給するべく設計された電源システムとを備えている。
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【課題】
プラズマ処理装置において、プラズマ処理によって生成されるプラズマ、荷電粒子、およびダストなどの拡散を防止することで、プラズマ処理前の被処理物あるいはプラズマ処理後の被処理物へのプラズマ処理に係る影響を防止し、被処理物の品質を一定に保つようにする。
【解決手段】
プラズマ処理装置１０は、被処理物２０を巻出す巻出装置４、巻出装置４から巻出された被処理物２０にプラズマ照射するプラズマ照射部６、及びプラズマ照射部６でプラズマを照射された被処理物２０を巻取る巻取装置５を、閉塞された空間内に設置している。そして、プラズマ照射部６とその両側の巻出装置４及び巻取装置５との間にプラズマ照射部６にて生成したプラズマや荷電粒子や帯電したダストなどの拡散を防止する磁場シールド８を設けている。 （もっと読む）

【課題】表面に液体を流すための装置を提供すること。
【解決手段】この装置は流路を含む。第１のポートは、流路の一端に液体を供給し、流路が表面から遠く離れているときに液体を保持する第１のポート圧力を加える。第２のポートは、流路の他端から液体を受け取り、第２のポート圧力を加える。流路が表面の近くに位置し装置の中の液体が表面と接触することに応答して、第１のポート圧力と第２のポート圧力との差が、第１のポートから第２のポートへの流路を介しての液体の流れを促進する向きである。第１および第２のポート圧力は、表面からの流路の引離しに応答して液体が少なくとも第２のポートに向かって引っ張られる圧力である。このような装置はマイクロ流体技術を使用することができ、表面パターニングに応用することができる。
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【課題】加熱機構への入力電力を供給する電源回路を複雑で大型化させることなく、装置の回路系の構成を簡便化したエキシマランプ点灯装置を提供すること。
【解決手段】エキシマランプ点灯装置として、放電空間に希ガスを封入したエキシマランプ５と、エキシマランプ５を点灯するエキシマランプ点灯用電源１，３と、エキシマランプ５が内部に配置されたランプハウス９と、ランプハウス９にエキシマランプ５から放射されたエキシマ光を透過するガラス製の窓部８とを備えるエキシマランプ点灯装置において、窓部８に、エキシマランプ点灯用電源１から給電される誘導加熱コイル６と、誘導加熱コイル６によって誘導加熱され、窓部８からエキシマ光が透過可能に形成され窓部８を加熱する誘導加熱用導体７とを設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大面積に亘って均一な分布のプラズマを形成可能なプラズマ発生装置及びこれを備えたプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】大気よりも減圧された雰囲気を維持可能なプラズマ発生室６０と、マイクロ波の進行波を共振させる環状共振器１０と、環状共振器１０からマイクロ波を分配する複数の結合器４２と、複数の結合器４２のそれぞれに結合され、プラズマ発生室６０にマイクロ波を導入する複数のアプリケータ５０と、を備え、複数のアプリケータ５０からプラズマ発生室６０に導入されたマイクロ波によりプラズマを生成する。 （もっと読む）

【課題】 照射対象に照射する光の光量を精度よく制御することができ、小型化が容易な光照射装置を提供する。
【解決手段】 ＬＥＤ１５から出射する紫外線の光量検出を行うＵＶセンサ２１を、ＬＥＤ１５の温度検出を行う温度センサ２０とともにＬＥＤ１５の近傍に配設する。制御部３は、ＵＶセンサ２１で検出した光量検出値を温度センサ２０で検出した温度検出値で補正し、補正した光量検出値がユーザの設定した光量設定値に収束するよう、ＬＥＤ１５に対する供給電力をフィードバック制御する。 （もっと読む）

本発明の態様は、基板を処理するための基板処理装置および方法に向けられる。一態様では、基板処理装置は処理室と、基板を保持するための処理室内部の基板保持器と、基板に対し略垂直に音波を供給するための処理室内の音響箱とを含む。音響箱は膜、および、膜に結合された変換器を含むことができる。
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【課題】 均一な膜厚で強固に基材表面に結合した化学吸着膜を短時間で高効率に基材表面に形成する方法を提供する。
【解決手段】 本発明の化学吸着膜の形成方法は、基材表面を親水化する親水処理工程ＳＴ１と、親水化された前記基材表面に酸または塩基を付着させる処理工程ＳＴ２と、酸または塩基が付着している基材表面に化学吸着剤を接触させ、同表面に化学吸着膜を形成する成膜工程ＳＴ３とを含む。 （もっと読む）

【課題】 反応器内の内壁や部品に付着した窒化チタン残留物の効果的な除去方法を提供する。
【解決手段】 (a)フッ素含有物質及び塩素含有物質からなる群より選ばれる少なくとも一種の反応体を含む処理ガスを供給すること、(b)当該処理ガスを、少なくとも一種の反応体からなる少なくとも一種の反応性化学種で富化して富化された処理ガスを生成させ、この富化を第一の場所で行うこと、(c)基体表面の少なくとも一部が窒化チタンで被覆されている基体を、５０℃を超える基体温度で供給すること、そして(d)当該基体表面の窒化チタンを、富化された処理ガスと接触させて基体表面から窒化チタンを揮発、除去し、この接触を第一の場所とは異なる第二の場所で行うこと、を含む基体表面から窒化チタンを除去する方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、処理対象となるワークの表面状態に応じて、所定の濡れ性となるように、適切なプラズマ処理が可能なプラズマ処理装置、プラズマ処理方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供することを目的としている。
【解決手段】 本発明は、ワーク表面に所定の濡れ性を付与するために、チャンバ２０２内にワークＷを導入して、これにプラズマ処理を行う処理装置本体と、チャンバ２０２内に配設され、ワーク表面の濡れ性を測定する測定手段２０５と、処理装置本体および測定手段２０５を制御する制御手段２０７と、を備え、制御手段２０７は、測定手段２０５による測定結果に基づいて処理装置本体を制御することにより、ワーク表面が所定の濡れ性となるようにプラズマ処理強度を調整することを特徴とする。 （もっと読む）

標的部位（１０９）の化学的又は機械的特性の少なくとも１つに影響を与える方法及び装置を開示する。標的部位（１０９）の接触部位に向かう液体流は、所定の流率を有する。また、ＵＶ放射（１０３）は、出力、波長、デューティーサイクル及び反復率の点で所定のパラメーターを有する。ＵＶ放射（１０３）は、液体流の軌道に沿って液体流（１０１）内に指向される。ＵＶ放射を運搬する上述の流れは、所定時間、化学的又は機械的特性の少なくとも１つに影響を与えるのに十分な条件で、標的部位に接触するように保持される。
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【課題】比較的簡単且つ安価で、対象とした微細構造又は微細材料の改質に適した方法を提供する。
【解決手段】対象物の材料上及び／又は材料内の微細構造の表面改質及び／又は体積修正の方法が開示される。始めに微細構造を材料上及び／又は材料内に生成し、そして材料の微細構造の相対構造寸法を減少させるべく、その次に材料の体積を収縮する。この発明の方法は、比較的簡単で低コストな態様で非常に細かい微細構造を製造するのに用いられる。 （もっと読む）