【課題】任意の微小領域にのみ、ナノメーターサイズの担体一体型貴金属微粒子をドライプロセスで選択的に形成する方法、この方法を用いて作製した担体一体型貴金属触媒、この担体一体型貴金属触媒を有するマイクロリアクタ及びマイクロリアクタの製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロリアクタ１０の微小流路１４上に白金酸化物２６の薄膜を形成し、この白金酸化物２６の薄膜の、任意の領域のみをレーザビーム等で加熱還元することにより、白金酸化物２６の薄膜と一体の白金微粒子２８を得る。 （もっと読む）

【課題】導波管の長さを適正化して均一なプラズマを生成するプラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の提供。
【解決手段】マイクロ波が、複数の導波管３０、複数のスロット３１、複数の誘電体３３の順に伝播して処理室に供給され、ガスをプラズマ化させて基板を処理するプラズマ処理装置であって、導波管３０内の端面Ｃ近傍にはアルミナ５０、それ以外にはテフロン３５（登録商標）が充填される。管内波長λｇは、アルミナ５０の方がテフロン３５より短くなるので、マイクロ波が導波管３０を伝播するとき、テフロン３５のみが充填されている場合と比べ導波管３０の端面Ｃから最短スロット中央までの間の物理的な特性上の長さをλｇ／４に保ちながら、その間の機械的な長さを短縮でき、導波管３０端部のデッドスペースＤをなくし、誘電体３３を等間隔に配置させる。 （もっと読む）

【課題】プラズマを発生する反応空間に対して遠近方向に、また平面的にも広い範囲でプラズマ処理が可能な大気圧プラズマを小さな入力電力で発生することができる大気圧プラズマ発生方法及び装置を提供する。
【解決手段】反応空間１に第１の不活性ガス５を供給するとともに高周波電源４から高周波電界を印加することで、反応空間１からプラズマ化した第１の不活性ガスから成る一次プラズマ６を吹き出させ、この一次プラズマ６が衝突するように、第２の不活性ガスを主とし適量の反応性ガスを混合した混合ガス８が存在する混合ガス領域１０を形成し、プラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマ１１を発生させるようにした。 （もっと読む）

【課題】ｎｍオーダーの微小注入領域に分子を注入することができる、光による新規な分子の注入方法及びその装置、さらに、光による材料加工方法及びその装置を提供する。
【解決手段】光による分子の注入装置１は、基板４と、分子を含む分子注入源３と、基板及び分子注入源の間に配置した液体６と、基板４及び分子注入源３を外側から挟持する挟持部７と、から構成した分子供給体８と、分子供給体８を載置するステージ２と、分子注入源３に集光した光１０Ａを照射する光源１０と、を含み、分子注入源３に含まれる分子を液体６を介して基板４に注入する。液体６を介して、基板４に分子を注入することができ、注入領域の大きさをｎｍオーダーの微小領域とすることができる。 （もっと読む）

【課題】実用的な処理プロセス速度や処理効果を得る事が可能な触媒化学処理装置および触媒化学処理方法の提供。
【解決手段】被処理基体に吸収される波長の光を放射する光源が、装置内または外に配設されてなる。触媒体に接地に対して正または負の電位を印加する事のできる電源が設けられている。加熱触媒体に反応ガスを接触させ、光源から放射される光を触媒体を経て基体表面に照射し、触媒体から発生するフリーラジカルを固体光化学的に励起されている状態の基体表面に供給し、表面処理する。触媒体に接地に対して正または負の電位を印加し、触媒体からの熱電子および光電子の放出を制御して基体表面を処理する。 （もっと読む）

基材の表面上の、金属酸化物のナノ粒子、複数の金属酸化物のナノ粒子およびそれらの混合物から選択されるナノ粒子の少なくとも1つのナノ多孔性層の調製のための方法であり、前記ナノ粒子が分散され安定化されている少なくとも1つのコロイド状ゾルが、前記ナノ粒子を前記表面上に投射する熱プラズマジェット中に注入される方法。ナノ多孔性層および装置特に前記層を含む分離装置。 （もっと読む）

【課題】光洗浄効率を低下させることなく長尺化を図ることが可能な光化学処理装置を提供する。
【解決手段】所定の周期Ｔで平行に配置され、被処理基板１に紫外線を照射するための複数の管状の紫外線光源２と、紫外線光源に高周波電圧を印加するための電極と、紫外線光源を保持するための灯具３と、紫外線光源２を収納し、非酸素雰囲気を保持するための光源収納室５と、光源収納室５に設けられ、紫外線光源２から照射される紫外線を透過するための照射窓４と、複数の紫外線光源２間の下方の少なくとも１か所に設けられ、複数の紫外線光源２の軸方向に照射窓４を支えるための支え軸４ｂを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、被処理ワークに照射されたプラズマ化した処理ガスの後処理を行うようにする。
【解決手段】プラズマ発生ノズル３１から放出されたプラズマ化された処理ガスを回収する回収装置１６０を設ける。したがって、前記処理ガスとして、窒素や酸素を含む空気などを使用した場合に発生する有害なＮＯｘの放散を抑え、アルゴンガスのような不活性ガスやフッ素を含有する化合物ガスなどの高価なガスを使用した場合には、再利用によってコストを抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】層状堆積物と柱状堆積物の技術的利点、すなわち、低熱伝導性、良好な寿命、良好な耐腐食性、および高い収率と堆積速度という利点を併せ持つ堆積物を得ることを可能にする。
【解決手段】本発明は基板上に材料を堆積する方法の分野に関する。それは、基板上に熱障壁として働き、堆積前に粉体の状態である材料を堆積する方法に関する。粉体は第１プラズマトーチ（１０）のプラズマジェット（１２）および少なくとも１個の第２プラズマトーチ（２０）のプラズマジェット（２２）中に導入され、第１プラズマトーチ（１０）および少なくとも１個の第２プラズマトーチ（２０）は容器（２）中に配設され、そのプラズマジェット（１２、２２）が交差して粉体を気化する合成プラズマジェット（３０）を生成するように配列され、基板（４０）は合成プラズマジェット（３０）の軸上に配置される。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で効率よく、被処理物の外面のプラズマ処理を行なうことができる、放電処理装置および放電処理方法を提供する。
【解決手段】両端が開口した貫通空間が形成された筒状の電極２０を備える。被処理物１を、貫通空間の一端から進入させ、他端から退出させ、被処理物１が貫通空間を通過するときに、電極２０に電圧を印加して、電極２０と被処理物１との間で放電を発生させ、この放電によりプラズマ化したガスを被処理物１の外面２に接触させて、被処理物１の外面１をプラズマ処理する。被処理物１の内部にアース電極を設けることなく、プラズマ処理することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、非接触で電気伝導特性を測定し得るクラスタ、クラスタ生成装置及び方法、並びに、クラスタ又は分子の電気伝導特性測定装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明のクラスタαは、互いに異なる第１乃至第３原子又は分子（原子等）Ａ、Ｂ、Ｃから成り、第２原子等Ｂが第１原子等Ａと第３原子等Ｃとの間に存在している。クラスタαは、蒸気ビームを断熱膨張させることで生成した初期クラスタに順次に第１乃至第３原子等Ａ、Ｂ、Ｃの蒸気を供給することで生成し得る。そして、クラスタαにＸ線を照射してクーロン爆発を生じせしめ、これにより生じたイオンを電界Ｅで加速して２次元ポジションセンサで計測することでクーロン爆発から２次元ポジションセンサに到達するまでの飛行時間と２次元ポジションセンサへの到達位置に基づいてその電気伝導特性を計測する。また、クラスタαに代え分子を用いることでその電気伝導特性も計測できる。 （もっと読む）

本発明は、３次元の成形部品（２）の特性変化を電子によって行うための装置および方法に関し、加速された電子を生成するための少なくとも１つの電子加速器（３ａ；３ｂ）と２つの電子出射窓（５ａ；５ｂ）とを有し、両電子出射窓（５ａ；５ｂ）は相互に対向して配置されており、両電子出射窓（５ａ；５ｂ）と少なくとも１つの反射器（７ａ１；７ａ２；７ｂ１；７ｂ２）とが処理室の境界を決定し、該処理室内で、該成形部品（２）の表面または縁部層に電極が印加され、センサシステムによって、該処理室内部のエネルギー密度分布が少なくとも１つの空間的次元において検出されるように構成されていることを特徴とする。
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【課題】プラズマ密度および気体の供給濃度を効果的に高めて真空チャンバ内へ均一に分布させるプラズマ処理システムを提供する。
【解決手段】プラズマ処理システムの真空チャンバ内に配置されている電極装置２５０は、複数の電極組２５１を含む。そして各電極組２５１は、第１の電極および第２の電極を含む。第１の電極および第２の電極は、電源供給装置の出力端２４１，２４２へ接続され、各電極組２５１は、それぞれ対応するように間隔を置いて配置され、真空チャンバ内にプラズマを発生させ、真空チャンバ内の隣接する二つの電極組２５１の間にある加工部品２６０に表面処理を行う。 （もっと読む）

【課題】大面積（大規模）、あるいは、３次元的に任意の形状のプラズマ発生を可能とし、任意の形状の容器・場所に簡単にプラズマ発生させる事が可能になり、その材料プロセシング応用も容易に行えるプロセスプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】厚み１０μｍから１ｍｍのフレキシブルシート基板１０は、フレキシブルなフィルム、例えばポリイミド層１１上に電極あるいはコイル用の金属薄膜、例えば銅層１２が接合されて形成される。プラズマガスとしては空気を用い、８０Ｔｏｒｒの条件下で電極ギャップ１４に２．４５ＧＨｚのマイクロ波電力を供給し、非熱平衡プラズマを発生させる。 （もっと読む）

【課題】高強度の電子線を広範囲に走査させて、ワーク表面の広い領域に均一に電子線を照射することができる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】電子線照射装置１を、複数の真空チャンバー３と、真空チャンバー３のうちの最終チャンバー３ｃ内に電子線ＥＢを射出する電子線発生装置２と、最終チャンバー３ｃに設けられて最終チャンバー３ｃから外部への電子線ＥＢの通過を許容する電子線射出口９と、電子線ＥＢを最終チャンバー３ｃ内でビーム軸線に直交する一方向に走査させる走査磁石１６とを有する構成とする。電子線射出口９を、走査磁石１６による電子線ＥＢの走査方向に沿って設けられたスリットによって構成する。走査磁石１６の鉄心１７を、磁極をなす一対の端部が対向させられたＣ字形状とし、各端部を、最終チャンバー３ａ内に挿入して、互いの間に前記電子線の軌道を挟み込むように近接配置する。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ等の基板を着色しやすいようにプラズマ処理する。
【解決手段】相対的に平行移動可能な第一の電極９と第二の電極１０とを設け、第一の電極に対向するように第二の電極に板状の被処理体１を設置し、両電極を相対平行移動させつつ両電極間に電圧を印加すると共に処理ガスを導入し、両電極間で発生したプラズマを被処理体に照射し、第一の電極が第二の電極及び被処理体に対して相対平行移動する際に、この第一の電極と被処理体との間のプラズマ処理空間を第一の電極における相対平行移動方向に平行な両端部において閉塞部材２２により閉塞する。閉塞部材は第二の電極側から第一の電極側に向かって、第二の電極上における被処理体の表面よりも高く隆起させておく。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生電極を管軸方向に相対的に移動させてゆくことで、管体の内周面に、洗浄、滅菌、表面処理などの所定の処理を行う管用プラズマ処理装置において、小径の管体に対応できるようにする。
【解決手段】プラズマ発生電極１の内、管体１０内で相対的に移動させる電極を内側電極の陽極１１のみとし、外側電極の陰極１２を、電気絶縁性の材料から成る管体１０の外周面に臨む環状に形成する。そして、管体１０をチャック５２Ａ，５２Ｂによって架台上に固定し、移動台４１に前記陰極１２および陽極１１が先端に取付けられたケーブル３の基端３４を固定し、矢府Ｆ方向に移動させることで、陰極１２内に管体１０を、その管体１０内に陽極１１を、連動して挿入してゆく。したがって、従来では外側電極の外周以上の径に制約されていた処理可能な管体１０の内径を、大幅に小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】水分の発散促進、脱臭、制菌機能を備えた敷布の耐久性向上を図る。
【解決手段】ポリエステル繊維製の織布又は不織布からなる基材１の片面に、アクリル酸を重合性単量体とする放電プラズマグラフト重合処理によって親水層２を形成するとともに、親水層２を構成する個々の繊維３を多孔質化し、この親水層２に貴金属を含有させて敷布を得る。貴金属には貴金属コロイド１０を使用し、親水層２を構成する多孔質化した繊維３の内外に固着させる。貴金属コロイド１０としては、平均粒子径１〜１００ｎｍの銀コロイドや白金コロイドが好ましい。かかる敷布は、座席用の敷布６に使用できる。その場合、少なくとも着座者が接する基材１の表面側１ａとは反対側の裏面側１ｂに、親水層２を形成する。 （もっと読む）

【課題】異なる状態のワークそれぞれに対してその状態に応じた適切な条件でプラズマ照射を行うことができるようにする。
【解決手段】滅菌処理装置Ｓ（ワーク処理装置）は、供給される処理ガスをプラズマ化してプルームＰとして照射するプラズマ発生ユニットＰＵを含み、処理対象であるチャンバー５１０内のワークにプルームＰの照射による滅菌処理を施与する滅菌処理ユニットＳＵと、滅菌処理ユニットＳＵの動作を制御する制御ユニットＣＵとを備えている。そして、制御ユニットＣＵは、前記ワークの状態に基づいて、第１運転モードまたは第２運転モードを選択し、プラズマ発生ユニットＰＵからそのワークに照射するプルームＰのガスの温度及び照射時間を制御する。 （もっと読む）

【課題】基板の改質等、物体である被処理物の処理に使用されるプラズマ処理装置において、被処理物の全面を比較的均一に処理できるようにする。
【解決手段】プラズマ発生部３０において一直線上に配列されたプラズマ発生ノズル３１の直下を、搬送ローラ８０によって、フラットパネルディスプレイのガラス基板などの被処理物Ｗを搬送してゆくことで、前記被処理物Ｗに連続してプラズマ照射を行うプラズマ処理装置１００において、搬送ローラ８０に光触媒を塗布し、或いは搬送ローラ８０に光触媒ネットを巻付ける。したがって、被処理物Ｗの上面へのプラズマ照射に伴い、その紫外線成分が前記光触媒に作用して、裏面側の搬送ローラ８０の周囲にもオゾンや酸素ラジカルが発生する。これによって、プラズマ発生ノズル３１を上面側にだけ設けても、物体である被処理物Ｗの全面を比較的均一に処理することができる。 （もっと読む）