【課題】紫外線照射処理装置において、厚みのある処理対象物品を扱う場合でも、可及的に酸素濃度を低くする。
【解決手段】不活性ガスを噴射するノズル１７と、紫外線照射対象位置ＬＰに向けて紫外線を照射する紫外線照射部ＬＳと、処理対象物品ＷＫを前記紫外線照射対象位置ＬＰへ搬送する搬送手段ＴＭとが備えられた紫外線照射処理装置において、前記搬送手段ＴＭは、搬送体ＢＴを巻回して物品搬送のための往路と帰還のための復路で循環回転させる搬送コンベア１２にて構成され、前記搬送コンベア１２の周囲を覆う外部カバー体１３と、前記外部カバー体１３の内部空間に配置されて前記紫外線照射対象位置ＬＰを含む前記往路の前記搬送体ＢＴの周囲を覆う内部カバー体１４とが設けられ、前記ノズル１７が前記内部カバー体１４の内部空間に不活性ガスを噴射するように配置されている。 （もっと読む）

【課題】 少ない電力で高密度のプラズマを励起することにより、高速且つ安価にプラズマ処理を行うことのできる大気圧マイクロ波プラズマ反応装置を提供する。
【解決手段】 大気圧マイクロ波プラズマ反応装置（１０）は、マイクロ波方形導波管（１）と、導波管（１）に直交し貫通する誘電体管（２）と、誘電体管（２）に被せられたマイクロ波漏洩防止用金属パイプ（３ａ・３ｂ）とから構成される。誘電体管（２）に不活性ガスなどの気体を導入しながらマイクロ波発振器でマイクロ波を提供し、管（２）内部にプラズマを励起する。管（２）の端部にはプラズマ場（６）が形成され、繊維や織物（５）にこのプラズマ場（６）を通過させることにより、表面改質処理が施される。 （もっと読む）

【課題】パターンニング形状を制御でき、かつ、加工精度に優れた加工方法及び装置を提供する。
【解決手段】真空容器１内に、ガス供給装置２からガスを導入しつつ、ターボ分子ポンプ３により排気を行い、真空容器１内を所定の圧力に保ちながら、コイル用高周波電源４により高周波電力をコイル６に供給することにより、真空容器１内にプラズマを発生させる。マスク９と基板８の距離を徐々に変化させながらエッチング加工することにより、パターンニング形状を制御することができた。 （もっと読む）

基板表面から極性流体を超臨界流体を使って除去する方法について述べる。洗浄できる基板としては、マイクロ電子工学装置（集積回路、マイクロ電子機械装置、および光学電子装置など）が含まれる。こういった装置の表面には、誘電体材料として使用されるような発泡ポリマーを含めることができる。極性流体を除去する上で有用な超臨界流体としては、一般に、超臨界状態にある酸素含有有機化合物、が含まれる。超臨界流体を用いた極性流体の除去をする際に、超臨界流体を用いた他の洗浄方法を補って、基板表面から微粒子を除去するようにしてもよい。 （もっと読む）

１気圧以上の液圧において超撥水性を保持できる耐久性のある超撥水性表面。表面は突出する規則的形状のマイクロ規模またはナノ規模の多数の突出部を備える基板部分を含み、突出部は概ね、下式にしたがって決定される接触線密度値“Λ_Ｌ”と等しいか高い平方メートルでの表面積あたりのメートルでの接触線で測定される所定の接触線密度を表面が有するように配置されており、


同式において、γは液体のニュートン／メートルでの表面張力であり、θ_ａ，０は実験測定による突出部材料に対する液体の真の前進接触角（度）であり、ωは突出部立上り角（度）である。
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【課題】 樹脂表面に設けられた金属皮膜を樹脂から効率的に剥離でき、かつ樹脂のリサイクルを可能とする金属皮膜剥離装置および金属皮膜剥離方法を提供する。
【解決手段】 ステージ(10)上に、基体上に金属皮膜が積層されてなる被加工物(101)が保持され。被加工物(101)の近傍に導電体(20)が配置される。互いに所定の距離を隔てて保持された第１の電極(13)及び第２の電極(14)を導電体(20)に接近させ、且つ、導電体(20)と第１及び第２の電極(13,14)とのうちの一方を他方に対して相対的に移動させながら、第１及び第２の電極(13,14)間に放電を生じさせる。次いで、第１及び第２の電極(13,14)間に放電を生じさせた状態で、第１及び第２の電極(13,14)を被加工物(101)に対向する位置に移動させ、被加工物(10)に対して放電によるエネルギーを作用させて金属皮膜を剥離する。 （もっと読む）

間隔を空けた電極の間に交流電圧を印加することにより、プラズマ処理したガス透過性素材を作成する。電極の少なくとも１つは誘電バリアで覆われ、また、電極の少なくとも１つは、複数の分離型電極セグメントを有する。もって間隔を空けた電極の間にプラズママイクロ放電を発生させる。ガス透過性素材は、間隔を空けた電極の間またはその近隣を通される。ガスは電極セグメントの間を通り、電極間の空間を通り抜けて、ガス透過性素材を通り抜ける。ガスは、各電極セグメントのプラズマ発生面上を流れる。その速さは、間隔を空けた電極の間を流れるガス流が乱流化してプラズママイクロ放電をランダム化し、かつ、ガス透過性素材内において燃焼につながる不安定性を引き起こしかねないプラズマ生成物を分散させる速さである。このランダム化されたプラズママイクロ放電によっておしなべて均一なプラズマ処理をガス透過性素材に施すことができる。また、この処理方法を展開するための装置を開示する。
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【課題】多電極と多相交流電源との接続が容易で、比較的簡単な電極構造で放電時における電極間の絶縁性を保つことができる多相交流プラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】装置本体４の中に、チャンバ１０と電源装置１４等を備えいる。チャンバ１０の開口部６が位置した側には、本体４に対して上下にスライド自在に設けられた扉１６が取り付けられている。扉１６の外側から内側に貫通して環状に複数配置されたコンタクトプローブ２２が取り付けられている。多孔円筒金属籠２６と、それを同心状に囲む複数の分割電極３０を一体的に備えて成る放電ユニット３２が設けられている。複数の分割電極３０の扉側端部には、扉１６のコンタクトプローブ２２の端子用接点１２と当接可能に、分割電極端子である給電子３４が固定されている。各分割電極３０は、多孔円筒金属籠２６の外周に位置して、支持部材３６により多孔円筒金属籠２６に固定されている。 （もっと読む）

【課題】 腐食性を有する反応性ガスの流れによって境界端部が腐食されて摩耗してしまうことを防止する反応装置を提供する。
【解決手段】 大略キャップ状の蓋部材２０と、蓋部材２０が載置される基台容器１０と、蓋部材２０と基台容器１０との間の境界部分Ｇで挟持されるシール部材５０と、を備えて、腐食性流体Ｆが、蓋部材２０の内壁面２４から基台容器１０の内壁面１４に沿って流動する反応装置１において、蓋部材２０の内壁面２４の境界端部２８には、腐食性流体Ｆが上記境界部分Ｇに回り込むことを防止する突出部４０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 金属、半導体、絶縁物および有機物等の固体表面にクラスターイオンビームを照射し、該固体の表面に超親水性を付与する表面改質を行い、該固体表面でのアパタイト等のバイオ材料や有機材料の成長を促進することができるようにする。
【解決手段】 所定の加速電圧で加速された水クラスターイオンビーム、若しくは、酸素クラスターイオンビーム及びモノマーイオンビームを固体表面に照射することによって、該表面に接触角１５°以下の超親水性を付与する。 （もっと読む）

【課題】大気圧下において被処理物表面又は被処理薄膜のプラズマ処理を高効率に行い、プラズマによる導電性・半導体性被処理物表面又は導電性・半導体性被処理薄膜の損傷を防止するプラズマ処理装置および方法を提供する。
【解決手段】電極間の距離が作動ガスの進行方向に沿って増大するグライディングアーク用電極対１８がプラズマ発生部４に配設され、プラズマ発生部４にプラズマを放射する射出口２０が設けられ、電極対１８の先端が射出口２０より内側に位置し、作動ガス供給手段により電極間に大気圧以上又は大気圧近傍の作動ガス１４が供給され、電圧印加時に電極間に生じるアーク４ａが電極間の開方向に移動するグライディングアークを発生させてプラズマを生成し、このプラズマを射出口２０から放射するプラズマ生成装置２を具備する。 （もっと読む）

【課題】 簡便な装置において安全で容易にF₂ガスによる表面改質を行う方法を提供する。
【解決手段】 含フッ素化合物を減圧状態で励起して活性種を生成させ、その後圧力を大気圧あるいはそれ以上に上昇させるとともに冷却することで、生成した活性種の全てを実質的に失活させることにより、含フッ素化合物からＦ_２ガスを効率良く、充分な濃度と量とで発生させ、これにより表面改質を行う。
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【課題】 本発明は照射室の酸素濃度を適切なレベルに維持しつつ不活性気体の使用量を削減することが可能な電子線照射装置を提供する。
【解決手段】 照射室４内に不活性気体を導入しつつ照射室４を通過する被照射体としてのフィルムＦに電子線を照射する電子線照射装置１において、照射室４内の酸素濃度を検出する酸素濃度計３５と、照射室４内に導入される不活性気体の流量を調整する主制御弁２５と、酸素濃度が低下すると不活性気体の流量が減少するように、酸素濃度計２５が検出した酸素濃度に基づいて主制御弁２５の開度を制御する制御ユニット４０とを設ける。 （もっと読む）

【課題】 目的物質の結晶性の有無に関わらず、１ミクロン以下の周期を有し、さらに望ましくは１００ｎｍ以下の周期を有する微細構造を形成可能であり、かつ、当該微細構造の配向を制御することも可能であり、さらに、微細構造の形成対象（基板等）の自由度を高めることが可能な微細構造体の製造技術を提供する。
【解決手段】 例えば基板の平滑な形成面に、ポリテトラフルオロエチレンを擦りつけて配向膜を形成し（配向膜形成工程）、当該配向膜の上に、上記微細構造体となる目的物質を溶媒に溶解した目的物質溶液の液膜を形成させ（液膜形成工程）、当該液膜から溶媒を蒸発させながら対流を誘起させる（対流誘起工程）。これにより、より好ましくは数十ｎｍの周期で格子状の微細パターンを有する微細構造体を簡便、低コストかつ配向制御可能に製造することができる。 （もっと読む）

【目的】本発明では，粉体を，ガス放電によって，加速し薄膜を制作することである．導体でない粉体も，高温高速のプラズマ流によって，加速され，成膜し，幅広い材料分野での使用を可能にする方法として提供する．
【構成】粉体は，電極間にあらかじめ置いてある．またガスは，内蔵あるいは電磁バルブ等によって，放電電圧が印加される直前に投入される．このため，粉体が有る場合，２度以上，時には１００回程度の放電を，真空を破ることなく繰り返し行うことが出来る．更に電磁バルブ等でガスを投入する際，粉体を気流によって巻きあげることによって，導体粉体を電極間に置いた場合でも，電極間の短絡がおきることを防ぐことが出来る特長をもっている．また，粉体が絶縁物であっても，ガスが放電加速を担うので，成膜することが出来る． （もっと読む）

【課題】基板に固定化していない化合物を完全に除去できる機能性単分子膜の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】共有結合を介して基板表面に固定化する官能基と、機能を発現する官能基とを有する化合物を接触させることで、基板１にその化合物を固定化する工程と、基板１に固定化していない化合物を２００℃の雰囲気４で１０分加熱し蒸発する工程を少なくとも含むものである。これにより、基板１に固定化していない化合物を完全に除去でき、その結果、機能性の官能基が表面に露出した撥水性単分子膜５を製造でき、機能性単分子膜の性能を向上できる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、樹脂製基板等の表面処理を行う方法であって、処理される基板の選択性が広く、また効率面やコスト面でも好ましい表面処理方法、およびその表面処理に用いられる表面処理装置を提供することを主目的としている。
【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基体、および前記基体上に形成され、少なくとも光触媒を含有する光触媒含有層を有する光触媒含有層側基板の前記光触媒含有層と、紫外光照射に伴う光触媒の作用により表面が処理される被表面処理面を有する処理用基板の前記被表面処理面とを対向させて配置し、所定の方向からＵＶ−ＬＥＤを用いて紫外光を照射することにより、被表面処理面の処理を行うことを特徴とする表面処理方法を提供する。 （もっと読む）

平均クラスタ・イオン速度ｖ、平均クラスタ・イオン質量ｍ、平均クラスタ・イオン・エネルギーＥ、平均クラスタ・イオン電荷状態ｑ、電荷当たりの平均クラスタ・イオン質量（ｍ／ｑ）ａｖｅｒａｇｅ及び電荷当たりの平均エネルギー（Ｅ／ｑ）ａｖｅｒａｇｅを含むクラスタ・イオン・ビーム（３０６）におけるクラスタの特性を測定／制御するための方法と装置（３００）が開示されている。測定値は、ガスクラスタ・イオン・ビーム照射によるワークピースの最適処理にとって極めて重要なガスクラスタ・イオン・ビームの特性を監視しかつ制御するためにガスクラスタ・イオン・ビームのプロセス・システムにおいて使用される。
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【課題】
本願発明では、試料表面の反応性溶液をガス圧、液圧、油圧などで均一に加圧した状態で、光、熱、放射線、プラズマ、電解、電荷あるいは触媒などにより高気圧下で化学反応を行なう事により、試料面に存在する反応溶液層の厚さを極薄くし、化学反応の効率を上げ、高効率の表面改質や強接着を提供する。
【解決手段】
ガス、液体あるいは油などの加圧下で試料表面上の反応溶液を均一厚さの薄液層にする為に、反応容器内の加圧室と反応室との間をガス、溶液、油などの圧力変化に柔軟に追随するプラスチックフィルムあるいは柔軟性ゴム板や蛇腹を周囲に固着した平面あるいは任意の形状の板からなる気体絶縁材料あるいは半気体絶縁材料によって隔離し、夫々の反応容器を２分した状態で夫々の反応容器に封入する異種または同種のガス、液体、油など相互間の差圧により反応性溶液に均一加圧を与えた状態で光、熱、放射線あるいは触媒による化学反応を起こす。 （もっと読む）

【課題】微小物体を効率的に担体表面に光固定化する。
【解決手段】光照射時に微小物体２の固定化能力を発現する光固定化材料を少なくとも表面６の一部に有する担体４の表面６に、微小物体２を含有する微小物体含有液状体１０の存在下、微小物体２の微小物体含有媒体１０の液状媒体１２への溶解が抑制された状態で光照射して微小物体２を担体表面６に固定化する光固定化工程を備えている。 （もっと読む）