本発明は、高エネルギの放射線の照射によって不活性ガス雰囲気下で放射線硬化可能な材料を硬化させることにより基材上の成形材料および被覆体を製造するための装置および方法に関する。
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処理室（１１）の中に位置する１つ又は複数のマイクロ構造体をエッチングするためのエッチングガス源（１０）を備える装置（９）及び方法が提供される。この装置は、ガス源（２６）及びエッチング材料（２８）を含むための１つ又は複数の室（２７）に付設されたガス源供給ライン（１２）を有している。使用において、１つ又は複数の室（２７）の中でエッチング材料（２８）がエッチング材料蒸気に変換され、ガス供給ライン（１２）は、キャリヤーガスをエッチング材料蒸気に供給するための手段、及び次いでキャリヤーガスによって移送されたエッチング材料蒸気を処理室（１１）に供給するための手段を備える。有利なことに、本発明の装置（９）は、エッチングガスの連続的な流れを達成するためにいかなる膨張室又は他の複雑な機械的な特徴の組み込みも必要としない。
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本発明は、化学的分子又は生物学的分子と反応することができる化学官能基、即ち生物学的分子又は化学的分子を固定化、結合、グラフトすることができる化学官能基を有する表面を提供するための、固体基板の表面を官能基化するためのゾルゲル法に関する。本発明は、例えば、化学的及び生物学的センサの調製に（例えば、ＤＮＡ、オリゴヌクレオチド、糖、ペプチド及び小有機分子を含むチップを製造するのに）使用することができる。 （もっと読む）

【課題】 どのような種類の表面にも大規模で応用可能な蛋白質／酵素または他の生体分子を固定化するための新しい一工程法を開発する。
【解決手段】 低温大気圧プラズマを発生させて維持することにより試料表面上に生体分子を固定化する方法であって、第一と第二電極の間に混合雰囲気を存在させてその空間内に試料を導入すること、電極間の空間内にプラズマを発生させて維持するために交流電圧を電極に付与すること、及び試料の表面に被膜を蒸着すること、を含み、前記混合雰囲気が生体分子を含むエアロゾルと反応性前駆体とを含み、反応性前駆体が蒸着され、生体分子が蒸着工程時に固定化される。 （もっと読む）

ゾル−ゲル型のハイブリッド有機−無機または有機材料の表面に周期構造を形成する方法であって、一様な強度プロファイルを有するレーザー光線を、直角に近い入射光で、材料とレーザー光線とを相対的に移動させながら、材料に直接照射する工程を含む、方法。
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超高速レーザ源を用いて、表面上に要素をレーザ加工するための近接場走査型光学顕微鏡（ＮＳＯＭ）レーザマイクロ加工システムおよび、そのような要素をレーザ加工する方法。システムは、１ｎｓ未満のパルス期間およびピーク波長を有するレーザ光パルスを生成する超高速レーザ源と、実質的に円柱形状を有するＮＳＯＭプローブと、ＮＳＯＭプローブおよび加工されるマイクロ構造ワークピースを制御可能に保持なＮＳＯＭマウントと、ＮＳＯＭプローブのプローブチップと表面との間の距離を決定するための、ＮＳＯＭマウントに結合されたＮＳＯＭプローブモニタと、ＮＳＯＭプローブモニタおよびＮＳＯＭマウント中の移送台に結合されたＮＳＯＭ制御とを有する。ＮＳＯＭマウントは、ＸＹ移送台およびＺ移送台を有する。これらの移送台がＮＳＯＭプローブまたはマイクロ構造ワークピースに結合され、あるいは１つの移送台が各々に結合される。
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ＮＳＯＭレーザマイクロ加工システムを用いて、既存の要素上に少なくとも１つの微細要素を有するマイクロ構造を製造する方法。マイクロ構造デバイスプリフォームを用意する。ＮＳＯＭによってその上面のある部分のプロファイルを採ることにより、地形イメージを生成する。このプロファイルを採られる部分は、既存の要素を含むように選択される。地形イメージに基づいて、上面のプロファイルを採った部分に対する画像座標系を定義する。地形イメージを用いて、画像座標系における基準点の座標および既存の要素の向きを決定する。決定した基準点の座標および既存の要素の向きを用いて、ＮＳＯＭのプローブチップを、既存の要素のある部分上に位置揃えする。マイクロ加工レーザでマイクロ構造デバイスプリフォームの上面を加工することにより、既存の要素上に微細要素（単数または複数）を形成する。
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マイクロ流体デバイスの一つ、二つ若しくはそれ以上のマイクロチャネル構造のうちの各々の中の内側表面の改良のための方法である。マイクロチャネル構造の各々は周囲の大気と繋がる一つ、二つ若しくはそれ以上のポート（ＰＴ）を含む。マイクロコンジット部は、改良されるべき内側表面を含む。本発明の方法は、上記マイクロチャネル構造の各々に対して、（Ｉ）上記の一つ、二つ若しくはそれ以上のポート（ＰＴ）のうちの少なくとも一つのポート（ＰＴ’）を介して表面改良薬剤を含む液体でマイクロコンジット部を充填するステップと、（ＩＩ）上記マイクロコンジット部内部に上記液体を保持するステップと、（ＩＩＩ）上記マイクロコンジット部から、例えば、上記マイクロコンジット部を含むマイクロチャネル構造から上記液体を除去するステップを含む。ステップ（Ｉ）の充填のために減圧が利用されることが本発明の特徴である。

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照射装置（１００）が、硬化させるか偏光によって整列を作ることなどによって第１の材料（６５０）を改質する放射線を発生するための複数の固体放射線源を含む。固体放射線源（１０４）は、アレイパターンで配置することができる。対応するアレイパターンで配列された光学集中装置（１２０）が、対応する固体放射線源（１０４）から放射線を受ける。集中された放射線は、また対応するアレイパターンで配列された複数の光導波路（１３０）によって受光される。各光導波路（１３０）は、放射線を受けるための第１の端部（１３２）と、放射線を出力するための第２の端部（１３３）とを含む。放射線源（１０４）と電気的に通信する制御装置（３０４）が、各レリベーション（ｒｅｌｉｖａｔｉｏｎ）状態を制御することができる。放射線改質装置（１００）は、連続基板、シート、ピースパーツ、スポット硬化、および／または３Ｄ放射線硬化プロセスのために使用することができる。
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本発明は、容器に含まれる材料を処理する方法に関する。この方法は、容器内に存在する流体を含み、容器内の圧力が増加される少なくとも１つの加圧工程と、容器内の圧力が減少される少なくとも１つの減圧工程とを備える。本発明は、更に、この方法を実施するための装置とこの方法から得られる生産物に関する。
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少なくとも１つの工作物用加工ステーションに負圧を供給するための方法および装置。供給装置の少なくとも第１の部分は回転可能な担持要素上に配置され、供給装置の第１の部分は供給装置の定置の第２の部分に対し相対移動可能に案内されている。供給装置（１）の第１の部分（６）と第２の部分（７）との間の少なくとも一部分に、周囲に対し少なくとも部分的に密封されていない隙間（８）が延在している。
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本発明は、粉末化基質を官能基化する方法に関する。本方法は以下のステップを含み、本方法は、ガスを、励起および／または不安定ガス種を形成させるための手段、典型的には大気圧プラズマもしくは同様のものの中へと通すこと、ならびに、該手段を離れていく際、実質的に電荷のない励起および／または不安定ガス種を該ガスが含むよう該ガスを処理することを含む。実質的に電荷のない該励起および／または不安定ガス種を含んでいる該ガスが次いで、励起および／または不安定ガスを形成させるための手段外部の下流領域中の粉末化基質および官能基化前駆体を処理するのに使用され、ここで、該粉末化基質も該官能基化前駆体も、ステップ（ｉ）および（ｉｉ）に付されておらず、該官能基化前駆体が、該粉末化基質の導入と同時もしくは引き続いて、導入される。好ましくは本方法は、流動化床において行われる。

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粒子線処理装置を用いて材料を処理する方法およびその方法で作り出された材料が本明細書に提供されている。１つの例示の好ましい実施形態によって、粒子線処理装置を用いて材料を処理する方法が提供され、その方法は、複数の粒子を作り出す少なくとも１つのフィラメントを含む粒子線発生組立品を提供する工程、約１１０ｋボルトより大きい動作電圧をフィラメントに印加して、複数の粒子を作り出す工程、複数の粒子に約１０ミクロン以下の厚さを有する薄箔を貫通させる工程、および複数の粒子を用いて材料を処理する工程を含む。
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例えばＵＶ光源、超音波振動子、又はそれらの組合せである少なくとも１つのエネルギー源からのエネルギーを、例えば危険な細菌である目標位置に、例えば水である流れる液体を介して結合する方法及びシステムを開示する。エネルギーが結合されるべき細菌は、水の流れ自体及び／又は水の流れがその流れの終わりにおいてあてられるべき表面上にも存在しうる。従って、容器を充填し且つ同時に殺菌するインライン無菌充填を提供する。水が洗浄に使用される別の実施例では、インライン無菌洗浄装置を提供する。様々な他の実施例も開示する。
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光放射によって液体又はガスを処理するための直列反応炉が開示されている。反応炉は透明材料から成る管、パイプ、又は、室から成り、少なくとも１つの流体入口と、対応する少なくとも１つの流体出口とを有する。管の透明材料は、その屈折率が処理されるべき流体の屈折率に限りなく近いよう選択される。反応炉の内部で、光源から臨界角よりも大きな入射角で反応炉内に向けられる光の全反射を可能にするために、空隙が反応炉の外部透明壁の周りに保持される。少なくとも１つの直列反応炉を含む流体処理システムが開示されている。さらに、直列流体処理の方法、特に水の減菌及び殺菌並びに水の殺菌充填の方法が開示されている。出口ノズルを通じて発射後の直列殺菌された水によって打たれる表面も、自由流水噴流内の全反射に封鎖される直列処理のために用いられる同一紫外線光を用いて水を発射することによって減菌される。
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【課題】プロピレンとアクロレインを高い収率で長期間にわたってアクロレインとアクリル酸にそれぞれ部分酸化する触媒担体を提供すること。
【解決手段】コーティング（３）が接着された表面（２）を有する触媒担体（１）であって、コーティング（３）が、総亀裂長さが少なくとも５００ｍ／ｍ^２となる長さ（５）を有する複数の亀裂（４）を有すると共に、少なくとも５００Ｎ／ｍ^２の接着引張強度を有する触媒担体（１）、触媒担体のためのコーティングの製造方法、少なくとも１つの二重結合と酸素を含む有機分子の製造方法、吸水性ポリマーの製造方法、吸水性衛生用品の製造方法、化学製品、（メタ）アクリル酸の化学製品における使用に関する。 （もっと読む）

基板（１０）上に固相アレイを形成するように、化学物質を空間選択的に堆積することによってマイクロメートル規模及びナノメートル規模で製作又は製造する方法であって、静電気的潜像の形成のように、基板上の少なくとも一つの領域に基板の他の領域の電荷とは異なる静電荷を形成することによって、少なくとも一つの領域（１５）を定義する工程と、基板にエマルジョンを塗布する工程とを含む方法。エマルジョン（１６）は、帯電した不連続相及び該不連続相の中に担持された、又は該不連続相を含んでなる選択的に堆積されるべき成分を有している。このエマルジョンの不連続層は、当該領域上の静電荷により引寄せられることによって予め選択された領域に引寄せられ、反応を伴って又は伴わずに堆積が得られる。光導電体の使用によって、静電画像を形成することができる。形成されるアレイは、フラットスクリーンディスプレーパネルのためのものであってよく、ＤＮＡチップ、印刷回路、半導体チップ、ナノテクノロジー、ミクロ電気機械的システム、可撓性印刷回路等を製造するためのものであってよい。 （もっと読む）

本発明は、セラミック相（ＰＱ）およびバインダー相（ＲＳ）を含む、式（ＰＱ）（ＲＳ）（式中、Ｐは、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｆｅ、Ｍｎおよびそれらの混合物からなる群から選択される金属であり；Ｑは炭窒化物であり；Ｒは、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｎおよびそれらの混合物からなる群から選択される金属であり；Ｓは、Ｃｒ、Ａｌ、ＳｉおよびＹから選択される少なくとも一種の元素を含む）によって表されることを特徴とするサーメット組成物を含む。 （もっと読む）

セラミックス相がＣｒ_２３Ｃ_６、Ｃｒ_７Ｃ_３、Ｃｒ_３Ｃ_２およびそれらの混合物よりなる群から選択されるサーメットを提供する。バインダー相は、ある特定のＮｉ／Ｃｒ合金およびあるＦｅ／Ｎｉ／Ｃｒ合金よりなる群から選択される。これらのサーメットは、高温において侵食から表面を保護するのに特に有用である。 （もっと読む）

本発明は、セラミック相（ＰＱ）およびバインダー相（ＲＳ）を含む、式（ＰＱ）（ＲＳ）（式中、Ｐは、Ｓｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗおよびそれらの混合物からなる群から選択される金属であり；Ｑは窒化物であり；Ｒは、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｎおよびそれらの混合物からなる群から選択される金属であり；Ｓは実質的に、Ｃｒ、Ａｌ、ＳｉおよびＹからなる群から選択される少なくとも一種の元素、並びにＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗおよびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも一種の反応性湿潤アリオバレント元素からなる）によって表されるサーメット組成物を含む。 （もっと読む）