【課題】陽極接合に用いる金属薄膜の耐酸化性を向上させ、剥離しにくい膜を作成する。
【解決手段】一面に金属薄膜が形成された第１のガラス基板と、金属薄膜によって陽極接合された第２のガラス基板と、を備える接合基板である。金属薄膜の陽極接合によって酸化されていない部分は前記金属薄膜の主組成の体心立方格子構造の微結晶を含み、前記微結晶の格子定数が前記主組成のバルクの格子定数より小さい。 （もっと読む）

【課題】火炎が安定し、煤の発生も少ない、ハロゲン化合物を効率よく完全に分解する方法と装置を提供することである。
【解決手段】ハロゲン化合物と空気より酸素を多く含有する一次気体とプロパンバス等の可燃物質とを予め混合し、得られる混合物をバーナー１１に導入し、バーナー１１の火炎の付近に二次気体を導入し燃焼させ、ハロゲン化合物を分解したハロゲン化合物の分解方法及び装置である。 （もっと読む）

【課題】 地球的な温暖化と共に自然環境や生活環境は今や悪化の一途にある中で農業も化学肥料や農薬、除草薬で野菜も食品も食物も不安と不信頼の中での生活に明け暮れているが、人体に含有する化学物質の蓄積は今やヒトの生命を左右する限度に達しているという、学者が言う。ヒトの生命体は、６１才から４１才説に及んでいる現状を無視できない時代に至っている。
【解決手段】 京都議定書に基づく二酸化炭素の削減は２０１２年までに６％の削減を国際的な約束をしている。２００８年ごろから環境税を新設して削減目的を達成するとの情報もあるが、困難極まる数値であり目的であるが、日本国が総力をあげて成し遂げざる目的であることを一人一人が肝に命じて頑張ることが肝要である。 （もっと読む）

【課題】マイクロ流路の断面積が大きく、処理量が大きく、分解が容易で安価な化学装置を提供する。
【解決手段】環形の薄片状の隙間２に相互に混和しない親媒性の異なる２種類の親水性液体９、疎水性液体１０を流通させる化学装置であって、該環形の薄片状の隙間２の対向する面の一方の面が親水面６を有し、もう一方の面が疎水面７を有する化学装置。環形の薄片状の隙間の対向する面の一部が接しているか、または環形の薄片状の隙間の対向する面の一部における隙間が狭くなつていることが好ましい。薄片状の隙間の幅が１μｍ以上３０００μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】高効率の触媒反応が可能であり、装置全体の小型化が可能なマイクロリアクターと、このようなマイクロリアクターの材料制限を最小限にして簡便に製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロリアクターを、筐体内に少なくとも１枚のメッシュ形状の触媒担持体とを備えたものとし、上記の筐体は原料導入口と生成物排出口と１対の電極用開口部を有するものであり、触媒担持体は電熱体を有するとともに触媒を担持するものであり、電熱体は、電極用開口部から筐体の外部へ突出している１対の電極に接続した構造とする。 （もっと読む）

【課題】小型化及び高効率化を実現可能な電気化学リアクタースタック及びそれを利用した電気化学反応システムを提供する。
【解決手段】電気化学リアクターセルスタックであって、リアクターセルは、アノード（燃料極）材料で構成された複数の中空チューブ結合体からなる成形体にイオン伝導体（イオン伝導相）が積層された、いかだ状構造体を有し、その成形体上にカソード（空気極）が積層されていることを特徴とする電気化学リアクタースタック、及びそれから構成される電気化学反応システム。
【効果】カソード材料を、チューブ上の電解質層に高精度に制御して積層することが可能であり、それによって、作動温度を低温化することを可能とした固体酸化物形燃料電池等の電気化学反応システムを提供できる。 （もっと読む）

【課題】クロロシランを水素化する方法および装置を提供する。
【解決手段】クロロシランと接触する表面を有する反応室と、流れが直接通過することにより加熱され、クロロシランと接触する表面を有する加熱素子とを有し、その際、反応室および加熱素子はグラファイトからなる反応器中でクロロシランを水素化する方法において、第一工程で、反応室の表面および加熱素子の表面上に現場でＳｉＣ被覆が形成されるように、Ｓｉ含有化合物ならびに水素を反応室の表面および加熱素子の表面と接触させ、かつ第二工程で、加熱素子を用いた反応室中でのクロロシラン／水素混合物の加熱によりクロロシランの水素化を行い、その際、第一工程を、第二工程における反応温度よりも高い反応温度で実施する。 （もっと読む）

【課題】高温で反応が起こる部分を均一な温度に保ち温度ムラを低減することができる反応装置を提供する。
【解決手段】第１の反応物の反応を起こし、第１の反応生成物を生成する高温反応部４と、高温反応部４よりも低温で第１の反応生成物の反応を起こし、第２の反応生成物を生成する低温反応部６と、高温反応部４と低温反応部６との間に架設され、高温反応部４に第１の反応物を送るとともに低温反応部６に第１の反応生成物を送る連結管８と、低温反応部６に第１の反応物の供給を行うとともに高温反応部４から第２の反応生成物の排出を行う複数の流路を有する給排部２と、を備える反応装置であって、積層された第１改質器５０６と第２改質器５１０との間に、第１改質器５０６と第２改質器５１０とを均等に加熱する第２燃焼器を備えて、高温反応部４の温度ムラを低減する。 （もっと読む）

複数のフロースルー式の管に熱伝導可能に連結されたヒータを備える一体化されたデバイスを提供する。複数のフロースルー式の管のそれぞれの周りをワイヤメッシュヒータで包み、メッシュと管との間に熱界面を作成する。ワイヤメッシュの各端部は、電気コンタクトに接続する。電気コンタクトは、好ましくは、電源との電気的接続を容易にするために、一体化されたデバイスの外部に配設される。メッシュを介して電流が流れると、熱が発生する。熱は、熱界面を介して、メッシュからフロースルー式の各管に伝導される。フロースルー式の管は、試料調製モジュールに流体的に接続してもよい。試料調製モジュール、フロースルー式の管及びヒータは、様々な用途のために、自動化された試料調製及び熱化学反応を提供する単一のデバイスに一体化される。
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【課題】 坩堝を使用せずに原料を蒸発することが可能であり、それにより、高純度の原料蒸気を発生させることが出来る共に、蒸発効率を高く維持し、効率的かつ高純度の微粒子を作る。
【解決手段】 蒸気発生装置は、原料粉体８を落下させる経路となる垂直ダクト状の縦型炉１と、この縦型炉１の周囲に設けられ、同縦型炉１内の原料粉体８を加熱するヒータ２と、この縦型炉１に原料粉体８を定量ずつ落下させる原料粉体供給部４と、縦型炉１内で発生した蒸気を目的の位置に送る蒸気移送ダクト６とを有する。この場合、縦型炉１内に反応ガスや不活性ガスを送り、このガスの流れに回転を与えるとよい。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ，Ｃｒ、Ｔｉ等の金属元素を含有した金属含有ＤＬＣ膜と称される硬質炭素系膜の除去方法において、機械装置の簡略化が可能であり、且つ金属含有ＤＬＣ膜の除去に要する時間も短い金属元素含有ＤＬＣ膜の除去方法を提供する。
【解決手段】材上に形成された金属元素を含有する硬質炭素系膜に対し、プラズマ中でイオン化若しくはラジカル化した際にフッ素イオン若しくはフッ素ラジカルを生じさせるガスを用い、そのガスから形成されたプラズマ中に該硬質炭素膜を暴露することを特徴とする硬質炭素膜の除去方法による。 （もっと読む）

超音波処理装置（５）に、電磁バルブ（Ｖ１）、表示器（２０）、送出ポンプ（９）を介して液体界面活性剤貯蔵タンク（１）を接続、電磁バルブ（Ｖ２）、表示器（２１）、送水ポンプ（１０）を介して貯水タンク（２）を接続、電磁バルブ（Ｖ３）、表示器（２２）、送出ポンプ（１１）を介して有害廃棄物貯蔵タンク（３）を接続、次に電磁バルブ（Ｖ４）、表示器（２３）、送出ポンプ（１２）を接続し、超音波処理装置（５）と電気溶融炉（６）との間に、電磁バルブ（Ｖ５）、送入ポンプ（１３）等を接続し、電気溶融炉（６）と排気用煙突（８）間に、電磁バルブ（Ｖ６）、排気用ポンプ（１４、１５）と排気処理装置（１７）を接続し、電気溶融炉（６）にスラグ排出口（６Ｂ）を接続、各電磁バルブ（Ｖ１、Ｖ２、Ｖ３、Ｖ４、Ｖ５、Ｖ６）に電磁バルブ制御部（１６）を接続した事である。
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【課題】 積層型のマイクロチップを用いて化学反応を行わせるに際して、その温度制御を精度高く行うことができるようにする。
【解決手段】 シリコン基板１０の表裏両面に、化学物質を通す１ｍｍ以下の幅の流路を形成する。前記流路は、前記シリコン基板１０を貫通する孔により連絡されている。積層チップは、前記シリコン基板１０の表裏両面に接合して積層された第１および第２のガラス板２０，３０を有し、前記第１および第２のガラス板２０，３０の少なくとも一方には、加熱手段としてのＩＴＯ膜と、白金及び電極よりなる温度検知手段とが設けられている。 （もっと読む）

本発明は、マイクロ処理制御に使用されるコンポーネントであって、少なくとも１つの処理制御マイクロ流体要素（４）およびマイクロ流体チャネル接続部（９）を備え、マイクロ流体要素（４）を包囲する断熱性のハウジング（１）が設けられたものに関する。このマイクロ流体チャネル接続部（９）は、ハウジング（１）を介して案内される。個々のハウジング（１）を連結するための連結要素は、それぞれ整列したマイクロ流体チャネル接続部（９）が密封状態で相互連結可能なように、ハウジング（１）に配置される。マイクロ流体要素（４）は、接続ブロック（３）と熱輸送ブロック（２）の間に差し込まれ、熱輸送ブロック（２）および接続ブロック（３）の温度、すなわちマイクロ流体要素（４）の温度が制御可能である。個々のハウジング（１）を相互連結するための連結要素は、ネジ山部（２２）を含むコニカルスクリュー（２１）および円錐状テーパ部（２３）を有する。コニカルスクリュー（２１）に適合する穴（１９）を備え、相互接続される第１のハウジング（１）から突出する止めピン（１８）は、止めピン（１８）に適合する第２のハウジングの凹み部（２０）に導入される。この止めピンは、円錐状テーパ部（２３）が止めピン（１８）の孔（１９）と嵌合するように、コニカルスクリュー（２１）によって前記凹み部に強く押圧される。
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【課題】 高い精度で寿命管理を行なうことのできる指標を有する紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】 制御部４は、光源用電源部６から照射部２のそれぞれへ供給する電流値を受けて、所定の制御周期毎に積算する。そして、制御部４は、積算した電流値にＵＶ光源１６の電圧降下量を乗算し、ＵＶ光源１６の照射エネルギーを算出する。さらに、制御部４は、照射部２の記憶部１８から読み出した照射エネルギーの累積値に算出した照射エネルギーを加算し、その加算後の値で記憶部１８が格納する照射エネルギーの累積値を更新する。また、制御部４は、算出したＵＶ光源１６の照射エネルギーおよび照射エネルギーの累積値などを表示部８に表示させる。 （もっと読む）

【課題】
ポリアニリンのような活性酸素発生能を有するレドックスポリマーを用いて、活性酸素発生効率の高い装置を提供する。
【解決手段】
活性酸素発生能を有するレドックスポリマーを溶剤に溶かし材料に染み込ませた後、設置場所１に材料を設置後、回転させ余分なレドックスポリマーを除去する。その後乾燥させることにより、材料表面に極薄くレドックスポリマーを担持させ、溶液中の溶存空気とレドックスポリマーとの接触面積を大きくし、活性酸素の発生効率を上げる。 （もっと読む）

【課題】液体中に存在するイオンの濃度や存在比率等を比較的簡単な装置で高精度に調節できる液体のイオン濃度調節装置を提供する。
【解決手段】イオン濃度調節対象とする液体中に存在させる陽極６および陰極７と、上記陽極６および陰極７に直流電圧を印加する直流電源装置４とを備え、上記陽極６と陰極７をイオンの静電吸着能力が相対的に異なるものとすることにより、上記液体中に存在するプラスイオンとマイナスイオンのいずれかを選択的に多く吸着して液体のイオン濃度を調節する。 （もっと読む）

【課題】 マイクロチップの被温度調節部の温度を高精度かつ局所的に制御するマイクロチップ用の温度制御装置を提供する。
【解決手段】 温度制御装置１０の温度調節部２０は弾性体２３によりマイクロチップ３０に対し三次元方向に移動可能に支持されつつマイクロチップ３０の面３０ａに押し付けられている。これにより、温度調節部２０の接触面２０１およびマイクロチップ３０の被温度調節部が均一な平面上に形成されない場合、またはマイクロチップ３０に反りが生じる場合でも、温度調節部２０はマイクロチップ３０の形状に追従してマイクロチップ３０の所定の位置に密着する。弾性体２３はペルチェ素子部２１とヒートシンク２２との間に設置されている。弾性体２３は、シリコーン樹脂など熱伝導性を有する材料で形成されている。そのため、ペルチェ素子部２１の排熱は、弾性体２３を通してヒートシンク２２に放熱される。 （もっと読む）

電極アレイデバイス上での電気化学的孤立Ｐｄ（０）触媒反応を行う方法を開示する。Ｐｄ（０）触媒反応は、ヘック反応であることが好ましい。具体的には、複数の電極上で孤立Ｐｄ（０）触媒反応を行う方法であって、複数の電極と金属又は導電性電極表面上のマトリックス又は被覆材料を有する電極アレイデバイスを準備すること；閉じ込め剤と遷移金属触媒を含む電極アレイデバイスを浸す溶液を準備すること；及び電圧又は電流を用いて電極アレイデバイス上の一又は複数の電極にバイアスをかけて、孤立Ｐｄ（０）触媒反応のために要求される遷移金属触媒を再形成することを含んで成る方法であり、閉じ込め剤は各選択電極表面を取り囲むボリュームに遷移金属触媒の拡散を制限する方法を開示する。 （もっと読む）

本発明は、高温プロセスを使用する、ナノ粒子の制御された合成のための方法および装置を提供する。反応器チャンバーは、プラズマトーチのような手段によって加熱された高温ガスと、反応チャンバーとを含む。ホモジナイザーは、反応物質注入口とプラズマ（スペーサー領域）との間の領域を含み、これによって確実に、反応物質注入口からの供給が、高温ガスによって誘発された再循環領域の下流となる。ホモジナイザーには、狭い径分布を有するナノ粒子を製造するために、反応領域においてほぼ一次元（軸方向においてのみ変化する）流動および濃度プロファイルを提供する反応物質注入口から下流の領域も含まれる。
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