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Fターム[4G077JB12]の内容

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Fターム[4G077JB12]に分類される特許

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【課題】本発明の技術的課題は、異種結晶(超伝導特性を示さない結晶)の析出量が少なく、短時間の処理でBi系超伝導結晶を析出させ得る超伝導材料の製造方法を創案することである。
【解決手段】本発明の超伝導材料の製造方法は、組成として、モル%表記で、Bi 10〜40%、CaO 10〜40%、CuO 25〜65%を含有する非晶質材料を、Sr含有化合物を含む融液に接触させる工程を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】従来の中空のナノ粒子集合体に比べて光学的・電子的・光電的性質に優れ、光増感型太陽電池の光散乱層として用いることで、光吸収によって効率的にキャリアを生成させることができる単結晶の酸化チタン球状中空粒子、および、その製造技術を提供する。
【解決手段】液相中に、アナターゼ相からなるチタン原料粉末を分散させ、この液相中の原料粉末にパルスレーザー光を照射し、原料粒子を溶融及び急冷することにより、粒子の内部に単一の空隙を有する平均粒径10〜1000nmのルチル相からなる酸化チタン球状粒子を形成する。 (もっと読む)


【課題】合成対象とする結晶材料或いは当該材料原料の融点以下の温度で、従来では得られない大きさの単結晶を得る。
【解決手段】所定の温度勾配を形成でき、所定期間、所望の温度にて保持できる加熱装置1と、この加熱装置1の加熱源によって加熱される筒状容器2とを用い、多結晶材料或いは当該材料原料の出発原料3(TlFe2Se2)を円筒状のペレットに成形して筒状容器2の載置部21に載置し、重力場などの原子がマクロに移動可能な駆動力場下で、その出発原料3の融点以下の温度である700℃にて塑性変形を生じさせるとともに、この塑性変形が終了する十分な時間である700℃で保持することで大型の単結晶を製造する。 (もっと読む)


【課題】MnSi相の含有量が少ないMnSix粉末及びその製造方法、並びに、MnSix粉末製造用CaSiy粉末及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】MnSi2-z相を主成分とし、MnSi相の含有量が7%以下、Si/Mn比(x)が1.5≦x<2.0、一次粒子のアスペクト比が5以下、比表面積が2.5m2/g以上であるMnSix粉末。CaSi2相を主成分とし、CaSi相の含有量が10%以下、Si/Ca比(y)が1.5≦y≦2.0であるMnSix粉末製造用CaSiy粉末。Ca源とSi源とを、Si/Ca比(モル比)が1.5〜2.0となるように配合し、原料を溶解させ、溶湯を凝固させるMnSix粉末製造用CaSiy粉末の製造方法。MnSix粉末製造用CaSiy粉末と塩化Mnとを、Mn/Ca比(モル比)が1以上となるように混合し、混合物を加熱し、反応物を溶媒で洗浄するMnSix粉末の製造方法。 (もっと読む)


【課題】結晶欠陥の少ない高品質なエピタキシャル膜が形成された立方晶炭化珪素半導体基板を提供する。
【解決手段】シリコン基板11と、シリコン基板11の上に立方晶炭化珪素がエピタキシャル成長して形成された立方晶炭化珪素エピタキシャル膜12と、を含み、立方晶炭化珪素エピタキシャル膜12は、シリコン基板11においてミラー指数(100)で表される結晶面である第1の面11aの上に形成され、シリコン基板11においてミラー指数[100]で表される第1の軸L1に対して、立方晶炭化珪素エピタキシャル膜12においてミラー指数[100]で表される第2の軸L2が、シリコン基板11においてミラー指数[011]で表される第1の方向に所定の角度Θ傾いた状態で形成されている。 (もっと読む)


【課題】高配向度及び高密度を兼ね備え、優れた圧電特性を発揮することができる結晶配向セラミックスの製造方法、及び該結晶配向セラミックスを製造するための異方形状粉末を提供すること。
【解決手段】前駆体1を酸処理し加熱して得られ、結晶面{100}面が配向する配向粒子からなる異方形状粉末、及びこの異方形状粉末を用いて得られる結晶配向セラミックスである。異方形状粉末は、次のようにして得られる。まず、所定の組成のビスマス層状ペロブスカイト型化合物を前駆体1の目的組成とし、この目的組成とは異なる配合割合で原料を混合して原料混合物を作製する。次いで、原料混合物を加熱することにより、前駆体1を合成する。前駆体1を3時間以上酸処理して酸処理体を得る酸処理体に、K源及び/又はNa源を添加し、フラックス中で加熱することにより、異方形状粉末を得る。 (もっと読む)


【課題】広い表面積を有する分枝状ナノワイヤーを容易に製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】シリコン系ナノワイヤ-50の表面を湿式エッチングし、表面欠陥56を形成する。次いで、シリコン系ナノワイヤー50を脱イオン水または空気中に露出させ、表面に酸化物層52を形成する。この工程で、シリコン系ナノワイヤーの表面にはシリコン核54が形成される。この後、シリコン核より分枝状ナノワイヤーを成長させる。本方法によれば、単一形状のナノワイヤーではなく枝が付いたナノワイヤーを製造できる。 (もっと読む)


【課題】REBaOとBa−Cu−O系混合原料との固液反応を用いることにより、RE123系酸化物超電導体を形成する方法は、低温で保持部材が金属シースの単芯線材または多芯線材を形成する方法であったが、臨界電流Icおよび臨界電流密度Jcの値が低く、しかもそれらの再現性に乏しいという課題があった。
【解決手段】少なくともREBaOとBa−Cu−O系原料とを含む混合原料を保持部材の内部に保持した状態で、混合原料を加熱することにより、REを含む複合相前駆体を形成する工程と、複合相前駆体を形成する工程を行なった後に保持部材の内部に保持された複合相前駆体を加圧することにより、複合相前駆体を緻密化する工程と、緻密化された複合相前駆体に、酸素を含む雰囲気中で熱処理を行なう工程とを備える、RE123系酸化物超電導体の製造方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】形成される炭化シリコン層の結晶性を悪化させることなく、従来に比べて生産性を向上させることができる炭化シリコンの製造方法を提供する。
【解決手段】シリコン基板1の表面にシリコン酸化層2を形成し、シリコン基板1内にシリコン酸化層2を通して炭素イオンを注入することによりシリコンと炭素の混在した炭素含有層3を形成し、シリコン基板1からシリコン酸化層2を選択的に除去することにより炭素含有層3を露出させ、シリコン基板1を熱処理して炭素含有層3を単結晶化させることにより単結晶炭化シリコン層4を形成し、熱処理の過程で単結晶炭化シリコン層4の表面に形成された酸化層5を除去することにより単結晶炭化シリコン層4を露出させて、SiCウエハ10を製造する。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、低い融点を有することから低温での焼結が可能であり、相対密度が高く透明性に優れるとともに種々の熱的特性にも優れる安価な透光性セラミックスを提供することにある。
【解決手段】本発明の透光性セラミックスは、ZnとAlとを含む酸化物またはMgとZnとAlとを含む酸化物である複合酸化物からなるものであって、該複合酸化物は、単結晶または多結晶体であり、かつスピネル型結晶構造を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】任意の形状を有しかつアスペクト比の高い圧電単結晶または圧電セラミックの微細な柱状体を高い寸法精度で任意に配置させた微細圧電列柱構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】微細な柱状圧電列柱を形成するための複数の貫通孔を有する薄板形状のマシナブルセラミックス製のセラミックス型1を用意し、そのセラミックス型の片面に種子単結晶基板2を接合し、セラミックス型に圧電セラミックス前駆体3を充填し、セラミックス型に充填された圧電セラミックス前駆体を焼成して複数の微細な柱を配列した列柱構造を有する微細圧電セラミックス構造体4を形成する。その後、微細圧電セラミックス構造体について熱処理を行って単結晶化することにより微細圧電単結晶列柱構造体5を得る。 (もっと読む)


【課題】原炭化珪素基板に内在する微細な転移欠陥等を十分に終端すると共に、新たな微細欠陥の発生を抑制することのできる半導体基板の製造方法およびそれによって製造される半導体基板を提供する。
【解決手段】単結晶の原炭化珪素基板10上に、90atm%以上のSi原子からなるシリコン供給部30を形成するシリコン供給部形成工程と、Si原子を10atm%以下とし、熱分解してC原子を供給可能な炭素供給部40を形成する炭素供給部形成工程と、シリコン供給部30および炭素供給部40が形成された原炭化珪素基板10を1800℃以上で熱処理する熱処理工程と、熱処理後において、原炭化珪素基板10に当接して形成される低転移欠陥炭化珪素層50を残して、低転移欠陥炭化珪素層50上の熱処理生成物60を除去する熱処理生成物除去工程とを有してなる半導体基板100の製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】単結晶粒子の集合体よりなる多結晶材料、特に各単結晶粒子が立方晶系の結晶構造を有する多結晶材料であって、各単結晶粒子の結晶方位が揃った配向多結晶材料を提供する。
【解決手段】この配向多結晶材料の製造方法は、希土類元素が添加された単結晶粒子を含む原料粉末を、溶液中に懸濁してなる懸濁液(スラリー1)を準備する準備工程と、磁場中でスリップキャスティングを行うことにより、懸濁液から成形体を得る成形工程と、成形体を焼成して、結晶方位が制御された多結晶構造を有する配向多結晶材料を得る焼成工程と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】比較的安価な多結晶SiC基板を母材基板として歪みが少なく大型で結晶性の良い単結晶SiC基板を安価に製造する方法を提供する。
【解決手段】Si母材層2に所定厚さの表面Si層3と埋め込み酸化物層4が形成されたSOI基板1に対し、表面Si層3側からPイオンを注入することにより、埋め込み酸化物層4をPSG層6に変成させて軟化点を低下させるPイオン注入工程と、PSG層6が形成されたSOI基板1を炭化水素系ガス雰囲気中で加熱して表面Si層3をSiCに変成させたのち冷却させて表面に単結晶SiC層を形成するSiC形成工程とを行なう。 (もっと読む)


【課題】強誘電体メモリ用途PZTにおいて、ZrとTiの比率が52/48を境にZrを多く含む稜面体晶PZTの場合、スリムなヒステリシス形状を示し、低電圧駆動が可能であるが、角型性が不良なヒステリシスを示し、Tiをリッチに含む正方晶PZTの場合、角型性良好なヒステリシスの形状を有しているが、抗電界が大きく、低電圧駆動が困難であり、信頼性が確保出来ないという課題があった。
【解決手段】正方晶PZT形成用ゾルゲル溶液において、有機酸のエステルを4≦pH<7の範囲で添加し、3次元巨大ネットワークゲルを形成し、添加剤の添加前よりも、Pt(111)膜被服基板の格子情報を生かした(111)配向PZT膜を提供する。或いは、稜面体晶PZT強誘電体膜形成用ゾルゲル溶液において、塩基性のアルコールを7≦pH<10添加することで、2次元微小ネットワークゲルを形成し、添加剤の添加前よりも、目的の稜面体晶PZT強誘電体結晶自身が安定に存在できる方向の(001)配向膜を提供する。 (もっと読む)


【課題】従来にない極めて高品質で大面積の単結晶SiCを安定してエピタキシャルに連続成長させることが可能な単結晶SiC製造方法及びその結果得られる高品質な単結晶SiCを提供する。
【解決手段】SiC種結晶が固定されたサセプタ5及び原料供給管6を坩堝2内に配置する配置工程、並びに、高温雰囲気とした坩堝2内に単結晶SiC製造用原料を不活性ガスAと共にSiC種結晶4上に供給してSiC単結晶9を成長させる成長工程を含み、単結晶SiC製造用原料として、SiC粒子、SiO2粒子及びカーボン粒子の原料3成分を供給する工程を含み、原料供給管6先端の内径がSiC種結晶4の結晶径の80%以上となるように加工されている単結晶SiCの製造方法。 (もっと読む)


【課題】窒化アルミニウム単結晶を種結晶上に成長させる窒化アルミニウム単結晶の製造方法で、窒化アルミニウム単結晶の製造を絶え間なく連続的に行うことを可能とする方法を提供する。
【解決手段】種結晶3として、炭化珪素、サファイア、又は、窒化アルミニウム等からなるウルツ鉱型の結晶構造を有する単結晶を用い、種結晶3上に窒化アルミニウム単結晶を成長させてなる窒化アルミニウム単結晶の製造方法であって、窒素を含む雰囲気中に加熱状態で保持されている種結晶3表面に向けて、アルミニウム原子を含有する化合物超微粒子と炭素含有超微粒子、及び又は、炭素原子と窒素原子を含有する化合物超微粒子を供給し、種結晶3表面、及び又は、近傍において、還元窒化させ、窒化アルミニウム単結晶を種結晶3上に成長させる。 (もっと読む)


【課題】高品質な単結晶SiCをエピタキシャルに安定して連続成長させる単結晶SiC製造方法、及び、その方法で得られる高品質な単結晶SiCを提供する。
【解決手段】高温加熱保持することができる坩堝内にSiC単結晶を成長させるためのSiC種結晶3及び単結晶SiC製造用原料を供給するための原料供給管を配置する配置工程、並びに、高温雰囲気とした坩堝内に単結晶SiC製造用原料を不活性ガスと共に原料供給管を通してSiC種結晶上に供給して単結晶SiCを成長させる成長工程を含み、配置工程において、SiC種結晶をSiC種結晶に応力がかからないように保持手段1、2により原料供給管の末端近傍に配置し、かつ、成長工程において、単結晶SiC製造用原料としてSiC粒子、SiO2粒子及びカーボン(C)粒子の原料3成分を供給する単結晶SiCの製造方法。 (もっと読む)


【課題】従来にない極めて高品質な単結晶SiCを安定してエピタキシャルに連続成長させることが可能な単結晶SiC製造方法及びその結果得られる高品質な単結晶SiCを提供する。
【解決手段】SiC種結晶4が固定されたサセプタ5及び原料供給管6を坩堝2内に配置する配置工程、並びに、高温雰囲気とした坩堝2内に単結晶SiC製造用原料を不活性ガスAと共にSiC種結晶4上に供給して単結晶SiC9を成長させる成長工程を含み、単結晶SiC製造用原料として、SiC粒子、SiO2粒子及びカーボン粒子の原料3成分を供給する。 (もっと読む)


【課題】化学的に安定で光活性の高い結晶面に配向した一次元構造のペロブスカイト型酸化物が基板に対して垂直方向に配向している機能性材料とその製造方法を提供する。
【解決手段】基材と、該基材の表面に形成される被膜からなる機能性材料であって、前記被膜にペロブスカイト型酸化物の柱状物質を含み、前記柱状物質の長手方向がペロブスカイト型結晶の(110)方向に配向している機能性材料。
前記ペロブスカイト型酸化物の柱状物質が単結晶であり、また前記ペロブスカイト型酸化物の柱状物質の長手方向が基材に対して垂直方向に配向している機能性材料。 (もっと読む)


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