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Fターム[4G169FB15]の内容

触媒 (289,788) | 調製及び活性化−プロセス (24,180) | 浸漬、含浸(メッキ、洗浄、溶解、腐食を除く) (4,961) | スラリーによるもの (1,108)

Fターム[4G169FB15]に分類される特許

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【課題】触媒貴金属の浄化特性を十分に発揮でき、触媒の低温浄化性能が高い排ガス浄化用触媒を提供する。
【解決手段】排ガスが流通するガス流路を形成する基材1と、基材1上に形成された触媒層10とからなる。触媒層10は、基材1の表面に形成された下触媒層2と、下触媒層2の表面であってガス流れ方向の上流側を被覆する前段上触媒層3と、下触媒層2の表面であって前段上触媒層3よりもガス流れ方向の下流側を被覆する後段上触媒層4とから構成されている。下触媒層2は、PdおよびPtの少なくとも1種を担持している。前段上触媒層3は、Pdを担持している。後段上触媒層4は、Rhを担持している。前段上触媒層3のPd担持密度は,4.5〜12質量%である (もっと読む)


【課題】活性金属の必要量が少なく、高温の条件下で長期間使用しても活性が低下し難い排ガス浄化触媒及びその製造方法を提供する。
【解決手段】排ガス浄化触媒は担体に活性金属を担持して構成され、この担体は、第1の細孔径領域と、この第1の細孔径領域よりも細孔径の大きな第2の細孔径領域とに細孔径分布のピークを有するバイモーダル構造のBaAl1219と、ZrOとを含むと共に、BaAl1219に対するZrOの質量比が1:0.1〜1:20の範囲にある。 (もっと読む)


【課題】太陽光によって、水分を含んだ大気から可燃性ガスを生じさせることが可能な複合型光触媒を提供する。
【解決手段】化学式TiO2−X(Xは、0<X≦1の条件を満たす実数である。)で示されるチタン系光触媒と、マグネシア系焼結体とを、それぞれが接触した状態で含有し、好ましくは、マグネシア系焼結体が、スピネルを主成分とするもの、又は、MgO及びスピネルを主成分とするものであり、更に好ましくはマグネシア系焼結体の表面にチタン系光触媒が担持された複合型光触媒。 (もっと読む)


【課題】比較的安価で資源量も比較的多い材料を用いて得ることができ、また、酸性電解質中で高電位下においても使用することができる高活性な電極触媒を製造する方法を提供する。
【解決手段】以下の第一材料、以下の第二材料および以下の第三材料を含有する混合物を、超臨界状態または亜臨界状態の水の存在下において水熱反応させて得られる電極触媒の前駆体を、以下の第二材料が炭素材料に変化する条件にて焼成する工程を含む電極触媒の製造方法:
第一材料は、4A族元素および5A族元素からなる群より選択される1種以上の金属元素と、水素、窒素、塩素、炭素、硼素、硫黄および酸素からなる群より選択される1種以上の非金属元素とで構成される金属化合物であり、
第二材料は、炭素材料前駆体であり、
第三材料は、導電性材料である。 (もっと読む)


【課題】高温下で高濃度のアンモニアを含む反応ガス中のアンモニアを長期間安定して効率よく水素と窒素に分解するためのアンモニア分解用触媒及び方法を提供する。
【解決手段】本発明は、アンモニア量が1〜100体積%、水素量が0〜10体積%、酸素量が0〜20体積%、窒素量が0〜80体積%及び残部(アンモニア、水素、酸素、窒素及び残部の合計量が100体積%)である反応ガス中のアンモニアを、反応温度100〜1200℃で分解するために用いる触媒であって、当該触媒がハニカム状セラミックス製成形体に触媒成分を被覆したことを特徴とするアンモニア分解触媒及び当該触媒を用いたアンモニアの分解方法である。 (もっと読む)


【課題】低温下で、排ガス、特に排ガス中の一酸化炭素(CO)や炭化水素(HC)を効果的に処理できる排ガス浄化用触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】貴金属を担持した耐火性無機酸化物または貴金属の化合物および耐火性無機酸化物と、ビスマスの化合物と、を水性媒体中で湿式粉砕してスラリーを得、当該スラリーを三次元構造体に被覆した後、焼成することを有する排ガス浄化用触媒の製造方法であって、前記焼成を糖もしくは還元剤の存在下で行なうまたは前記焼成中もしくは焼成後に三次元構造体を還元ガスを用いて処理する、排ガス浄化用触媒の製造方法。 (もっと読む)


【課題】少ない触媒金属量で高い排気ガス浄化性能を得るとともに、高温下での触媒活性の低下を抑える。
【解決手段】 排気ガス浄化用触媒は、担体上にA粒子成分とB粒子成分とが混在する触媒層を備える。A粒子成分は、触媒金属ドープCeZr系複合酸化物粉末よりなり、100nm以上300nm以下の粒径範囲にピークを有する粒度分布をもち、CeZr系複合酸化物のCeO/(CeO+ZrO)質量比が30%以上75%以下である。B粒子成分は、活性アルミナ粉末、Zr系酸化物担持アルミナ粉末、並びに触媒金属非ドープ型CeZr系複合酸化物粉末のうちから選ばれる少なくとも一種よりなり、B粒子成分の少なくとも一部はA粒子成分よりも粒径が大きい。 (もっと読む)


【課題】エンジンオイルに添加されているリン(P)がPdを被毒するため、触媒層にP被毒抑制用にBa等アルカリ土類金属を含有させている。
上層にRhドープCe含有酸化物を含有し、下層にPdを各種サポート材に担持した状態で含有する排気ガス浄化用触媒において、アルカリ土類金属を上下層共に含有させることにより、上層のRhの活性を確保しつつ、下層のPdの失活を抑制し得る排気ガス浄化用触媒を提供する。
【解決手段】上層に含まれるアルカリ土類金属の含有量と下層に含まれるアルカリ土類金属の含有量との質量比率を1:4〜9:10とすることにより、上層のRhの活性を確保しつつ、下層のPdの失活も抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】長期間にわたって連続して使用できる排ガス処理触媒の再生方法を提供する。
【解決手段】使用済みの排ガス処理触媒11を粗粉砕する使用済み触媒粗粉砕工程S1と、粗粉砕物を粗片12と細粉13とに分離する分離工程S2と、粗片12を微粉砕する使用済み触媒微粉砕工程S3と、微粉体を他の原料と混練りして成型加工した後に乾燥して焼成処理することにより基体14を得る各工程S4〜S7と、新規の排ガス処理触媒15を粉砕する新規触媒粉砕工程S8と、粉砕された新規の排ガス処理触媒15をスラリー液化するスラリー化工程S9と、基体14の表面にスラリー液16を被覆するスラリー被覆工程S10と、スラリー液16を被覆された基体14を乾燥させて、排ガス処理触媒15の製造時の焼成温度よりも高い温度で焼成処理する被覆乾燥工程S11及び被覆焼成工程S12とを行って、再生された排ガス処理触媒17を得る。 (もっと読む)


【課題】貴金属の粒成長による触媒活性低下を抑制し、優れた触媒活性を長期にわたって実現することのできる、排ガス浄化用触媒およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】排ガス浄化用触媒に、平均二次粒子径が0.2〜5μmの第1複合酸化物と、平均二次粒子径が0.005〜0.1μmの第2複合酸化物と、その第1複合酸化物および/または第2複合酸化物に含まれる貴金属とを含有させる。この排ガス浄化用触媒によれば、第1複合酸化物および第2複合酸化物の表面における、貴金属の移動および粒成長を抑制できる。そのため、この排ガス浄化用触媒によれば、長期にわたって、優れた触媒活性を実現することができる。 (もっと読む)


【課題】プロピレン、イソブチレン、第三級ブチルアルコールまたはメチル第三級ブチルエーテルを分子状酸素で気相接触酸化して不飽和アルデヒドおよび不飽和カルボン酸を高収率で製造できる触媒、その触媒の製造方法、並びに不飽和アルデヒドおよび不飽和カルボン酸の製造方法を提供すること。
【解決手段】プロピレン、イソブチレン、第三級ブチルアルコールまたはメチル第三級ブチルエーテルを分子状酸素で気相接触酸化して不飽和アルデヒドおよび不飽和カルボン酸合成用触媒であって、モリブデン、ビスマスおよび鉄を含む触媒成分と、水銀圧入法によって測定される細孔分布のモード径が0.5μm〜50μmの範囲にあり、かつ細孔半径0.5μm〜50μmの範囲の細孔容積が無機質多孔体1g当たり0.1〜6cc/gの範囲である無機質多孔体とを含有する触媒。 (もっと読む)


【課題】プロパン若しくはイソブタンの気相接触酸化又は気相接触アンモ酸化反応用の触媒であって、プロパン若しくはイソブタンから対応する不飽和酸又は不飽和ニトリルを高収率で得ることのできる混合物触媒を提供すること、及びその混合物触媒を用いた不飽和酸又は不飽和ニトリルの製造方法を提供すること。
【解決手段】プロパン若しくはイソブタンの気相接触酸化反応又は気相接触アンモ酸化反応用の混合物触媒であって、
下記組成式(1)で表される複合酸化物と、タングステン化合物と、を下記式(2)の割合で含有した混合物触媒;
Mo1aNbbSbcden (1)
(式(1)中、XはW、Bi、Mnからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の元素、ZはLa、Ce、Pr、Yb、Y、Sc、Sr、Baからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の元素、a、b、c、d、e、nはMo1原子当たりの各元素の原子比を示し、aは0.01≦a≦1、bは0.01≦b≦1、cは0.01≦c≦1、dは0≦d≦1、eは0≦e≦1であり、nは構成金属の原子価によって決まる数を示す。)
0.01<w<0.08 (2)
(式(2)中、wはタングステン化合物中のタングステンの原子比を、複合酸化物中のMo1原子当たりの原子比として表したものである。)。 (もっと読む)


【課題】流体の温度を安定的にかつ短時間に上昇させることができる流体昇温用フィルターおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】シリコンおよび炭化ケイ素を含有しており、マイクロ波によって加熱されて用いられる。 (もっと読む)


【課題】高温に曝されることによって起こる排ガス浄化能力の低下を防ぐことができる排ガス浄化用触媒を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の排ガス浄化用触媒は、カルシウム含有物、ストロンチウム含有物、またはバリウム含有物を含み、前記カルシウム含有物、ストロンチウム含有物、またはバリウム含有物が、それぞれ、カルシウム化合物、ストロンチウム化合物、またはバリウム化合物と、硫酸との混合物を焼成することによって得られることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、複数のハニカムユニットに安定して通電すると共に、高容量バッテリーから端子を経て電極間に電圧を印加しても断線及び接触抵抗による発熱を抑制することが可能なハニカム構造体及び該ハニカム構造体を有する排ガス浄化装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ハニカム構造体10は、複数の貫通孔が長手方向に並設されていると共に、導電性セラミックスを含むハニカムユニット11が接着層12を介して4個接着されており、ハニカムユニット11の外周面には、一対の帯状電極13が形成されており、4個の一対の帯状電極13と電気的に接続されている一対の導電部材14が設置されている。 (もっと読む)


【課題】メタクリル酸を高選択率で製造できるメタクリル酸製造用触媒、その製造方法、およびこの触媒を用いたメタクリル酸の製造方法を提供する。
【解決手段】リン元素、モリブデン元素、X元素(ヒ素、ビスマス、テルル、ゲルマニウム、セレン、ケイ素、タングステンおよびホウ素からなる群より選ばれた少なくとも1種類の元素)およびアルカリ金属元素を含む触媒を製造するにあたり、水中に少なくともモリブデン原料およびリン原料を添加して、ヘテロポリ酸を含む水性スラリーまたは水溶液を調製し、その水性スラリーまたは水溶液にアルカリ金属化合物を添加して、ヘテロポリ酸の少なくとも一部がアルカリ金属塩になったヘテロポリ酸塩を析出させた後、X元素の原料を添加する。そして、この間の水性スラリーまたは水溶液のpHを3以下になるようにする。 (もっと読む)


【課題】繊維製品等を含む基材に、光触媒活性が十分に発揮され得るように光触媒体を担持させることのできる触媒体担持方法、当該担持方法により触媒体が担持されてなる触媒体担持基材及び当該担持方法に使用し得る触媒体担持液調製用キットを提供する。
【解決手段】触媒体担持方法は、光線の照射により光触媒活性を発揮し得る触媒体を基材に担持させる方法であって、触媒体及び酸若しくはその塩又は2〜10質量%の尿素と、基材とを接触させる担持工程を含む。 (もっと読む)


【課題】PM及びCOを浄化でき、低コストで製造できる排ガス浄化フィルタ及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】出ガス側セル236の上流端28とを栓部231によって閉塞してなるハニカム構造体2を備える排ガス浄化フィルタ1及びその製造方法である。入りガス側セル235の壁面237には、酸化触媒を担持することなくPM燃焼触媒3が担持され、出ガス側セル236の壁面238には少なくとも酸化触媒4が担持されている。排ガス浄化フィルタ1の製造にあたっては、PM燃焼触媒担持工程と酸化触媒担持工程とを行なう。PM燃焼触媒担持工程においては、PM燃焼触媒分散液をハニカム構造体2の少なくとも壁面237に含浸させ、乾燥後に焼成する。酸化触媒担持工程においては、酸化触媒分散液を、ハニカム構造体2の壁面237に含浸させることなく、壁面238に含浸させ、乾燥後に焼成する。 (もっと読む)


【課題】比較的低い温度でも効率よくNOx吸着活性を示す、内燃機関の排気浄化装置を提供する。
【解決手段】内燃機関に接続された排気流路を備える、内燃機関の排気浄化装置であって、前記排気流路内に排気浄化触媒が配置され、前記排気浄化触媒として、水分吸着能を有する基材に担持されたNOx吸着材を備えることを特徴とする、内燃機関の排気浄化装置。 (もっと読む)


【課題】PM及びCOを浄化でき、低コストで製造できる排ガス浄化フィルタ及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】排ガス浄化フィルタ1は、外周壁21と、セル壁22と、複数のセル23とを有するハニカム構造体2を備える。セル壁22にはPM燃焼触媒31と酸化触媒41とが担持されている。排ガス浄化フィルタ1は、酸化触媒41を担持することなくPM燃焼触媒31が担持されたPM燃焼領域3と酸化触媒41が担持された酸化領域4とを有する。PM燃焼領域3は排ガスの流れ方向100における上流側に配置され、酸化領域4は下流側に配置される。排ガス浄化フィルタの製造にあたっては、PM燃焼触媒担持工程と酸化触媒担持工程とを行なう。酸化触媒担持工程においては、ハニカム構造体2の端面(B)29から酸化領域4を形成する位置までを酸化触媒分散液に浸漬し、端面(A)28からPM燃焼領域3を形成する位置までは浸漬させない。 (もっと読む)


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