【課題】低温条件下においても一酸化炭素の浄化性能に優れた排ガス浄化用触媒を提供する。
【解決手段】ここで開示される排ガス浄化用触媒は、基材５４と、該基材５４上に配置された下層５７と、該下層５７上に配置された上層５８を有する。上記上層５８は、第１触媒、及び第２触媒を備え、上記下層５７は、第１触媒を備える。上記第１触媒は、担体としてＡｌ_２Ｏ_３を有し、該Ａｌ_２Ｏ_３上に担持された貴金属としてＰｔ及びＰｄを有し、上記第２触媒は、担体として典型的にはＡｌ_２Ｏ_３−ＺｒＯ_２−ＴｉＯ_２複合酸化物を有し、該Ａｌ_２Ｏ_３−ＺｒＯ_２−ＴｉＯ_２複合酸化物上に担持された貴金属としてＰｄを有する。また、上記上層５８は炭化水素吸着材６８を有する。このような排ガス浄化用触媒では、触媒のＨＣ被毒及び硫黄被毒が抑制され、一酸化炭素の浄化性能が向上する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＮＯｘの浄化性能に優れ、ハニカムユニットに水が吸着又はハニカムユニットに吸着した水が脱離しても、ハニカムユニットが収縮又は膨張することによる破損を抑制することが可能なハニカム構造体及び該ハニカム構造体を有する排ガス浄化装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ハニカム構造体１０は、β型ゼオライト、リン酸塩系ゼオライト及び無機バインダを含み、複数の貫通孔が隔壁を隔てて長手方向に並設されているハニカムユニット１１を有し、β型ゼオライトは、二次粒子の平均粒径が０．５μｍ以上５μｍ以下であり、リン酸塩系ゼオライトは、一次粒子の平均粒径が０．５μｍ以上５μｍ以下であり、β型ゼオライト及びリン酸塩系ゼオライトの総質量に対するリン酸塩系ゼオライトの質量の比が５％以上３５％以下である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ろう材の塗布量を減らすことができる排気ガス浄化用ハニカム構造体の製造装置を提供することを課題とする。
【解決手段】ハニカム構造体製造装置２０は、平板に波板２２を重ね、渦巻き状に巻いてなる排気ガス浄化用ハニカム構造体を製造するものである。ハニカム構造体製造装置２０は、波板２２に噛み合うギヤ形状の送りギヤ４５と、この送りギヤ４５で送られる波板２２の移動方向に沿って上流側と下流側に送りギヤ４５が配置される転写ギヤ４０と、この転写ギヤ４０にスラリー状のろう材を供給するスラリー供給手段６１と、ろう材が塗布された波板２２に平板が重ねられたものを渦巻き状に巻く巻取手段とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ＮＯｘ等の浄化率が向上されたハニカム構造体の提供。
【解決手段】ゼオライトおよび無機バインダを含み、長手方向に沿って、第１の端面から第２の端面に延伸する複数のセルがセル壁により区画されたハニカムユニットを有するハニカム構造体であって、前記ハニカムユニットは、Ｄ５０が３．７μｍ以上のゼオライト粒子および無機バインダを含む原料ペーストを成形して、焼成することにより作製され、前記セル壁の平均気孔径は、０．１２μｍ以上０．５μｍ以下であり、前記セル壁の平均粒子径は、３．７μｍ以上７．０μｍ以下であることを特徴とするハニカム構造体。 （もっと読む）

【課題】４００〜５００ｎｍの波長を有する白色蛍光灯等の光照射下で優れた活性を有する光触媒を用いた光触媒コート剤や光触媒分散体を提供する。
【解決手段】酸化チタンの粒子表面にオキシ水酸化鉄が担持され、オキシ水酸化鉄が４００〜５００ｎｍの波長の光を吸収することによって酸化チタンが光触媒活性を発現する光触媒であり、４００〜５００ｎｍの波長の光を含む白色蛍光灯の光を照射した際のアセトアルデヒド分解反応速度定数が、同じ条件で測定した前記酸化チタンのアセトアルデヒド分解反応速度定数に対して、２倍以上となる光触媒を使用する。この光触媒をバインダーに配合することにより光触媒コート剤を得ることができ、分散媒に配合することにより光触媒分散体を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】室内空間のような微弱光下においても、高い防汚性と高い抗菌性及び抗ウイルス性とを両立させることができる撥水性光触媒組成物を提供する。
【解決手段】ポリシロキサン骨格を含む側鎖を有するあるいは、フルオロアルキル骨格を含む主鎖及び側鎖から選ばれるものを有するアクリル樹脂よりなる撥水性樹脂バインダーと、光触媒材料と、高い抗菌性及び抗ウイルス性とを発揮する亜酸化銅とを含有させる。光触媒材料と亜酸化銅とは複合化させる。 （もっと読む）

【課題】目的生成物を高収率で製造できる触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】触媒成分の原料化合物を含む混合溶液又はスラリーを乾燥して乾燥物を製造する工程と、前記乾燥物の一部又は全部と液体と有機バインダーとを混練りして混練り物Ａを製造する工程と、前記乾燥物の残り又は他の乾燥物と液体と有機バインダーと前記混練り物Ａとを混練りして混練り物Ｂを製造する工程と、前記混練り物Ｂを押出し成形して触媒成形体を製造する工程と、前記触媒成形体を乾燥する工程と、を含む触媒の製造方法。 （もっと読む）

【課題】バイオマスをガス化したガス中のタール分の分解、除去用として優れた触媒活性を有するタール分解触媒の製造方法を得る。
【解決手段】下記（１）〜（５）の工程を含むことを特徴とするタール分解触媒の製造方法。（１）素原料である酸化チタン（ＴｉＯ₃）と炭酸バリウム（ＢａＣＯ₃）をＢａ／Ｔｉ（原子比）＝０．９９〜１．０１になるように秤量、混合し、湿式分散により均一な混合物にした後、脱水乾燥し、（２）前記乾燥混合物を比表面積１０〜３０ｍ³／ｇとなるように仮焼し、（３）前記仮焼物にα−Ｆｅ₂Ｏ₃をＦｅとして０．１〜１０．０ｗｔ％、ＳｒＣＯ₃をＳｒとして０．１〜１０．０ｗｔ％の範囲で添加して、一諸に混合してスラリー化し、（４）前記スラリーにバインダーを１．０〜１０ｗｔ％添加し、（５）噴霧乾燥機にかけ、乾燥球状体すなわち顆粒とする。 （もっと読む）

【課題】経済的且つ迅速に、特に香料拡散装置のバーナー等に用いられる触媒の支持材料を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明にかかる触媒の支持材料の製造方法は、以下の順で、下記工程（ａ）〜（ｃ）；（ａ）焼結していない多孔質セラミックからなる基礎の支持材料の成形、（ｂ）焼結していない多孔質セラミックからなる基礎の支持材料の表面における少なくとも一部に、基礎の支持材料の表面積を広げることができる結合層を形成するための、溶剤又は混合溶剤におけるセラミックが懸濁した懸濁液の沈着、（ｃ）少なくとも懸濁液で被覆した部分を含む基礎の支持材料の焼結、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アイソスタティック破壊強度を向上させ、耐熱衝撃性を低下させるハニカム構造体を提供することにある。特に、本発明ハニカム構造体を、触媒付きハニカム構造体として使用する際には、触媒を均一に塗布することが出来、使用する触媒量を削減できる。そのため生産コスト削減効果を得ることができる。
【解決手段】二つの端面の間を連通する複数のセル３を区画形成する多孔質の隔壁１３と、隔壁１３と一体的に形成された外周壁１９とを有するハニカム構造体１であって、セル３が、六角形の完全なセル断面を有する完全セル５と、セルの最外周部に位置し、六角形を形成せずに不完全なセル断面を有するパーシャルセル７と、からなり、（１）〜（４）の関係の少なくとも１つを満たすハニカム構造体１。 （もっと読む）

【課題】低い光量の光の照射や、短時間の光の照射であっても優れた光触媒活性や超親水性を呈し、且つ基材との密着性が高く経年劣化の少ない被覆を形成できるコーティング材と、それを用いた被覆の形成方法を提供する。
【解決手段】コーティング材は、ナシコン型構造を有する結晶を少なくとも表面に含有する。また、被覆体の製造方法は、ナシコン型結晶を有する光触媒結晶を含有するコーティング材を基材の表面に被覆する被覆工程を有する。 （もっと読む）

【課題】ゼオライトとシリカを含む触媒を流動層で反応する際に発生する触媒粒子の帯電を軽減し、流動層反応器壁への触媒の帯電付着を軽減することができる流動層反応用触媒を提供する。
【解決手段】ゼオライトとシリカを含む触媒に、導電性を有する無機化合物を混合して触媒に導電性を付与することにより、触媒の帯電による流動層反応器内壁への付着を軽減することができる。この触媒は、流動層反応により、エチレンを含有する炭化水素原料からプロピレンを製造する触媒として、好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】排気ガス浄化装置に設置した場合にも、ハニカム構造体がズレることを防止することができるハニカム構造体を、容易にかつ効率良く製造することが可能な製造方法の提供。
【解決手段】場所によりその厚さが異なるコート層を形成可能な凹凸部を有する筒状体５０１を準備する工程と、多数の貫通孔が隔壁を隔てて長手方向に並設された１つのハニカム焼成体１００、縦横に並列されてなるハニカム並列体１８０、又は、接着剤層２１１を介して接合されたセラミックブロック２００を準備する工程と、前記１つのハニカム焼成体１００、並列体１８０又はセラミックブロック２００を、前記筒状体内５０１に、前記１つのハニカム焼成体１００、並列体１８０又はセラミックブロック２００の外周面と前記筒状体の内壁面とが所定間隔の空隙を有するように配置する工程と、前記空隙にシール材ペースト５２２を供給する工程とを含む、ハニカム構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】固定床反応器におけるＦＴ法においても、差圧の発生が無く、ＣＯ転化率が高く、ガス成分の生成が少なく、かつ安定してＦＴ合成反応を行うことができる、FT合成用触媒、及びその触媒の製造方法を提供すること。
【解決手段】炭酸マンガンに、シリカを酸化物換算及び触媒基準で１０〜２５質量％、有機バインダーを触媒基準で６質量％以下、ルテニウムを金属換算及び触媒基準で０．５〜５質量％含有させてなり、かつ表面積が１００〜２1０ｍ^２／ｇ、細孔容積が０．１〜０．６ｍｌ／ｇであることを特徴とするフィッシャー・トロプシュ合成用触媒。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、高活性、高性能を示すメタクリル酸製造用触媒を安定して製造する方法を提供するものである。
【解決手段】
Ｍｏ−Ｖ−Ｐ−Ｃｕ系ヘテロポリ酸を活性成分とし、水、あるいはアルコール及び／又はアルコールの水溶液をバインダーとして、コーティング法により成型を行う場合に、成型に用いる触媒粉末の含水率、成型工程の温度と湿度、焼成工程の湿度と湿度管理を行うことを特徴とするメタクリル酸製造用触媒の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
ペーパー中の金属触媒の分散状態が良好で、かつ金属触媒の保持率も高い、６００℃のような低温でも触媒活性の高いペーパー状触媒を提供する。
【解決手段】
金属触媒、無機繊維、無機結合剤、有機繊維と、ポリアミンエピハロヒドリン樹脂、カチオン性ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルアミン樹脂、ポリエチレンイミン樹脂、ポリアリルアミン樹脂から選ばれる少なくとも１種類からなるカチオン性高分子と、アニオン性高分子とを含有する水懸濁液を調製し、この懸濁液をろ過し、残渣を乾燥・焼成して得られるペーパー状触媒。 （もっと読む）

【課題】水道水や天然水に固形状触媒を浸漬しておくだけで水質が大きく変わり、脂質等の溶媒に対する溶解力が高くなり、さらに還元力、抗菌力を有する水に改質することが可能な改質水用固形状触媒を提供すること。
【解決手段】微粒子状の、アルミノケイ酸塩鉱物および／またはケイ酸塩鉱物、金属酸化物、および金属水酸化物の群から選ばれた少なくとも１種を焼成して得られる多孔質状成形物からなる無機質基材の表面を、下記（ａ）〜（ｄ）を主成分とするコーティング用組成物を塗布し、加熱硬化して得られる改質水用固形状触媒。
（ａ）一般式Ｒ^１Ｓｉ（ＯＲ^２）_３および／またはＳｉ（ＯＲ^２）_４（但し、式中Ｒ^１は炭素数１〜８の有機基、Ｒ^２は炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜４のアシル基を示す）で表わされるオルガノアルコキシシランおよび／またはテトラアルコキシシランの加水分解物および／またはその部分縮合物の群から選ばれた少なくとも1種を、固形分換算で１０〜１８重量％、
（ｂ）銀を３〜１０重量％担持した、アルミノケイ酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩、およびアルミニウム塩の群から選ばれた少なくとも１種の無機化合物を１５〜２５重量％、
（ｃ）コロイド状の白金および／または金を金属換算で０．００３〜０．０３重量％、
（ｄ）水および／または浸水性有機溶媒（ただし、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）＝１００重量％） （もっと読む）

【課題】ＳＣＲ触媒用セラミック担体の製造において、セラミック組成物の粘度変化による特定物性低下を補完できるＳＣＲ触媒のセラミック担体用有機バインダー組成物、および、当該有機バインダー組成物を含むＳＣＲ触媒用セラミック担体を提供する。
【解決手段】セルロースエーテルと、少なくとも１種の添加剤と、を含むＳＣＲ触媒のセラミック担体用有機バインダー組成物、および、この有機バインダー組成物を含むＳＣＲ触媒用セラミック担体。 （もっと読む）

【課題】ゼオライト骨格を構成する４配位Ａｌ以外に６配位Ａｌを多く含有する新規なフォージャサイト型ゼオライトおよびその製造方法およびその用途を提供する。
【解決手段】シリカとアルミナを含んでなり、ＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃モル比が４〜８の範囲にあり、
該アルミナの固体ＮＭＲで測定した４配位Ａｌのスペクトルのピーク面積（Ｐ_4Al）と６配位Ａｌのスペクトルのピーク面積（Ｐ_6Al）とのピーク面積比（Ｐ_6Al）／（Ｐ_4Al）が０．４〜１．０の範囲にあることを特徴とするフォージャサイト型ゼオライト。格子定数（ａ₀）が２４．４０〜２４．６５Åの範囲にある。 細孔径が５〜１００ｎｍの範囲にメソポアを有し、該メソポアの細孔容積が０．１〜０．４ｃｃ／ｇの範囲にある。 （もっと読む）

【課題】比表面積が比較的大きな無機粒子を含むハニカム成形体を、より適正に脱脂することが可能な脱脂工程を含む、ハニカム構造体の製造方法。
【解決手段】本発明のハニカム構造体の製造方法は、５０ｍ^２／ｇ以上の比表面積を有する無機粒子と、成形助剤および／または有機バインダとを含み、長手方向に沿って、第１の端面から第２の端面に延伸する複数のセルがセル壁により区画されたハニカム成形体を形成する工程と、前記ハニカム成形体を、前記第１の端面が下側となり、前記第２の端面が上側となるように、脱脂装置内に配置する工程と、前記脱脂装置内に導入ガスを供給する工程と、前記ハニカム成形体を２００℃〜４００℃の温度で脱脂する工程と、前記脱脂されたハニカム成形体を５００℃〜９００℃の温度で焼成して、ハニカムユニットを得る工程と、を含む。 （もっと読む）