本発明は、組成物の重量の２５％未満の水を含み、更に洗濯洗浄における使用に好適な界面活性剤、界面活性剤性能向上ポリマー、及び脂肪酸を含む、コンパクト液体洗剤組成物に関する。
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香質に優れ、ナチュラル感、フルーティー感があり、ムスク様香気を有する新規化合物を提供する。本発明は下記式（１）で表される化合物に関する。（式（１）中、波線は、Ｃ＝Ｃ二重結合のＥ配置およびＺ配置のうち少なくとも一つを示す）。
【化１】

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【課題】アルミナ等の研磨材に由来する微粒子汚れに対する洗浄性に優れるハードディスク基板用洗浄剤組成物、およびハードディスク基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：アルカリ金属の水酸化物を０．０１〜５．００質量％、（Ｂ）成分：１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸および／またはその塩を０．１０〜２０．００質量％、（Ｃ）成分：下記一般式（１）で表されるポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩を０．０５〜１０．００質量％含有し、界面活性剤の含有量が１．００質量％未満であることを特徴するハードディスク基板用洗浄剤組成物。
Ｃ_ｍＨ_２ｍ＋１Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎＳＯ_３Ｍ ・・・（１） （もっと読む）

【課題】泡立て時の水馴染みに優れるとともに、起泡力に優れ、洗い流し時のべたつきが低く、経時的な保存安定性に優れる洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）ヒドロキシアルキルエーテルカルボン酸型陰イオン性界面活性剤、（Ｂ）水膨潤性粘土鉱物、（Ｃ）アニオン性高分子並びに（Ｄ）長鎖脂肪酸アミド酢酸ベタイン及び／又は長鎖脂肪酸アミノ酢酸ベタインを含有してなる洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 シリコンインゴットのスライス後の洗浄において、シリコンウエハ表面の平坦性を損ねることなく、シリコンウエハ表面の汚れに対し優れた洗浄性を実現するシリコンウエハ製造工程用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 重量平均分子量６００〜２００,０００のアニオン性界面活性剤（Ａ）、高級アルコールのアルキレンオキサイド付加物（Ｂ１）およびシリコーン系界面活性剤（Ｂ２）からなる群より選ばれる１種以上の浸透剤（Ｂ）、並びにアルカリ（Ｃ）を必須成分とすることを特徴とするシリコンウエハ製造工程用洗浄剤を使用する。 （もっと読む）

【課題】貯蔵安定性があり、適用時に皮膚をケアする油脂を放出することができ、水で洗浄した際に、容易にきれいに洗い落とすことができ、かつ、しっとりとしてべたつきのない皮膚感触を残すことができるエマルジョンであって、パーソナルケア製品及び化粧品に幅広く使用することができる水中油型エマルジョンを得る。
【解決手段】本発明は、エマルジョンの全重量を基準として、油相４５〜９０重量％、水相５〜４５重量％、各単一乳化剤が８〜１８のＨＬＢ値を有し、かつ、全乳化剤成分の組合せによるＨＬＢ値が１０〜１５である乳化剤成分３〜１０重量％、１８超のＨＬＢ値を有する洗浄剤成分２〜２０重量％を含む、油相含有量が高くクレンジング効果のある水中油型エマルジョンに関する。さらに、本発明は又、上述した乳化剤を調製する方法及びそれらの使用にも関する。 （もっと読む）

本発明の組成物は、焦げ付いた、調理して付いた、焼け付いた、乾燥して付いた、および炭化した自然食品汚れや油汚れを、表面から除去するための可溶化剤を含み、この可溶化剤は、アルコール、カップリング剤、水、付着防止剤、ｐＨバッファ、および好ましくは発酵上澄みを含む界面活性剤系（上澄みは実質的にストレスタンパク質を含む）を含む。さらに、オーブン、工業的な調理設備などを洗浄する方法も含む。 （もっと読む）

本発明に従って、より長期にわたる物理的安定性と加工寿命とを備える無機真珠光沢剤スラリーと、洗濯組成物又は硬質表面洗浄組成物としての使用に好適な液状処理組成物の製造方法に好適なスラリーを製造する方法と、を提供する。 （もっと読む）

【課題】液晶汚れとポリイミド等の削りかす（端子上異物）の両方を同時に洗浄でき、かつ、液安定性の良好な洗浄剤組成物、及び当該洗浄剤組成物を用いた液晶パネルの洗浄方法の提供。
【解決手段】液晶パネルの洗浄に用いる洗浄剤組成物において、有機アルカリ（Ａ）と、炭化水素（Ｂ）と、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル及びスルホコハク酸型アニオン界面活性剤からなる群から選ばれる界面活性剤（Ｃ）とを含有し、かつ、ｐＨが８．５以上であることを特徴とする洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 洗浄性と再汚染防止性に優れ、洗濯物に帯電防止性を付与することができ、また洗濯物を消臭することのできるドライクリーニング用洗浄剤組成物及びそれを用いたドライクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 テルペン系溶剤を５容量％以上含む溶剤を洗浄用溶剤として用いるドライクリーニングにおいて、該洗浄用溶剤に添加されるドライクリーニング用洗浄剤組成物であって、リン酸エステル化合物及びアルカノールアミンを含有するドライクリーニング用洗浄剤組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】すすぎ性が良好で、環境性や安全性に優れ、かつ、洗浄性が良好で液安定性に優れた液晶パネル用水系洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】本発明の液晶パネル用水系洗浄剤組成物は、α-オレフィン系炭化水素（Ａ成分）と、ジアルキルスルホコハク酸塩（Ｂ成分）と、直鎖型及び分岐型アルキルベンゼンスルホン酸塩から選択される少なくとも１種のアニオン界面活性剤（Ｃ成分）と、ジメチルスルホキシド(Ｄ成分）と、式１で表される短鎖グリコールエーテル（Ｅ成分）と、水（Ｆ成分）とを含む液晶パネル用水系洗浄剤組成物であって、前記液晶パネル用水系洗浄剤組成物における、前記Ａ成分が２０質量％〜４０質量％であり、前記Ｂ成分が１０質量％〜３０質量％であり、前記Ｃ成分が１質量％〜５質量％であり、前記Ｄ成分が５質量％〜２０質量％であり、前記Ｅ成分が１０質量％〜３０質量％であり、前記Ｆ成分が１０質量％〜３０質量％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラスチックレンズ成形型に付着した樹脂汚れの除去を容易化可能とするプラスチックレンズ成形型用洗浄剤組成物、およびこれを用いたプラスチックレンズ成形型を構成するガラス型の清浄化方法、並びに、プラスチックレンズの製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示されるフェニルエーテルおよび一般式（２）で示されるフェニルエーテルから選ばれる少なくとも１種のフェニルエーテルを含有するプラスチックレンズ成形型用洗浄剤組成物。
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以下の構造を含む約１重量％〜約９０重量％の非対称ジヒドロカルビル第四級アンモニウム化合物を含む洗濯処理組成物であり、


式中、Ｒ_１はＣ_１２〜Ｃ_２２ヒドロカルビル鎖を含み、Ｒ_２は分枝状であり得るＣ_６〜Ｃ_１２ヒドロカルビル鎖を含み、Ｒ_１はヒドロカルビル鎖中にＲ_２よりも少なくとも２個多く炭素原子を有し、Ｒ_３及びＲ_４は各々Ｃ_１〜Ｃ_４ヒドロカルビル、Ｃ_１〜Ｃ_４ヒドロキシヒドロカルビル、ベンジル、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｘＨ（式中、ｘは約１〜約１０の値を有する）及びこれらの混合物からなる群から選択され、Ｘ⁻はアニオンであり、約１重量％〜９０重量％のアニオン性界面活性剤であり、洗濯処理組成物は、非水溶性凝集塊の最小限の形成もなしに、十分な柔軟化、静電気防止効果を提供する。
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以下の構造を含む約１重量％〜約９０重量％のモノヒドロカルビルアミド第四級アンモニウム化合物を含む洗濯処理組成物であり、


式中、Ｒ_１はＣ_１２〜Ｃ_２２ヒドロカルビルアミド鎖、好ましくはアルケニル鎖を含み、Ｒ_２、Ｒ_３及びＲ_４は各々Ｃ_１〜Ｃ_４ヒドロカルビル、Ｃ_１〜Ｃ_４ヒドロキシヒドロカルビル、ベンジル、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｘＨ（式中、ｘは約１〜約１０の値を有する）及びこれらの混合物からなる群から選択され、Ｘ⁻はアニオンであり、約１重量％〜約９０重量％のアニオン性界面活性剤であり、洗濯処理組成物は、非水溶性凝集塊の最小限の形成もなしに、十分な柔軟化、静電気防止効果を提供する。
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【課題】 低起泡性で泡切れ性にも優れ、かつ優れたパーティクルの除去性及びリンス性を実現する電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 特定の構造を有するアニオン成分と、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、炭素数０〜２５のアンモニウムカチオン、特定のアミン又はアミジン化合物にプロトンが付加したカチオンからなる群から選ばれる１種以上のカチオン成分からなるアニオン性界面活性剤（Ａ）を含有する電子材料用洗浄剤であって、（Ａ）の０．２重量％水溶液の２０℃におけるロス・マイルス試験により測定される起泡力が５０ｍｍ以下であり、泡の安定度が５ｍｍ以下であることを特徴とする電子材料用洗浄剤。 （もっと読む）

【解決手段】本発明の一つの実施形態は、集積回路の製造方法である。製造方法は、まず、金属-誘電体ダマシン・メタライゼーション（金属化）層を備える基板を準備し、金属上にキャップを析出させる。キャップの析出後、アミンを加えてｐＨを約７から１３に調節した洗浄溶液で基板を洗浄する。本発明の別の実施形態は、基板の洗浄方法である。本発明のさらに別の実施形態は、洗浄溶液の組成である。 （もっと読む）

本発明は、長鎖および短鎖脂肪酸／脂肪石鹸の特定の混合物を用いて、ならびに総線状脂肪酸／脂肪石鹸と総合成界面活性剤（総合成界面活性剤は、（１）（ａ）の脂肪アシル界面活性剤成分、即ち、脂肪アシル界面活性剤「製品」の遊離脂肪酸および／または脂肪酸石鹸を含まない「純粋な」脂肪アシルイセチオナート、ならびに（２）（ｂ）の合成共界面活性剤の合計である。）の適切な比を用いることによって安定化されている、５重量％を超える遊離脂肪酸／脂肪石鹸を有する脂肪アシルイセチオナート製品を含むパーソナルケアまたは毛髪液体洗浄組成物を提供する。
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【課題】油類によって汚染された土壌、特に重油等の石油系化合物、中でもＣ重油に汚染された土壌を効果的に洗浄することのできる、優れた土壌浄化剤組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ１）下記一般式（１）で表される化合物、及び、下記一般式（２）で表される化合物の少なくともいずれかと、（Ｂ）有機アミン化合物を含有することを特徴とする土壌浄化剤組成物である。
Ｒ^１−Ｏ−（ＡＯ）_ｎ−Ｈ （１）
Ｒ^２−ＣＯ−（ＡＯ）_ｎ−Ｏ−Ｒ^３ （２）
ただし、前記一般式（１）及び前記一般式（２）中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ炭素数８〜１６の直鎖又は分岐のアルキル基を示し、Ｒ^３は炭素数１〜８の直鎖又は分岐のアルキル基を示し、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基を示し、ｎはＡＯの平均付加モル数であって、２〜８の数を示す。 （もっと読む）

【課題】 洗浄力に加え、抱水性に優れたドライクリーニング用洗浄剤組成物の提供をする。
【解決手段】 スチレン化フェノール、スチレン化アルキルフェノール、スチレン化フェノールアルキレンオキサイド付加物、スチレン化アルキルフェノールアルキレンオキサイド付加物、スチレン化フェノールアルキレンオキサイド付加物の脂肪酸エステル及びスチレン化アルキルフェノールアルキレンオキサイド付加物の脂肪酸エステルからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】泡の持続性に優れ、連続的に形状の揃ったより多くの泡を発生することができ、また、大きなリングを使用しても割れにくいシャボン玉液組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるアニオン界面活性剤（Ａ）、下記一般式（２）で表される非イオン界面活性剤（Ｂ）、及び両性界面活性剤（Ｃ）を含有することを特徴とするシャボン玉組成物である。
Ｒ^１−Ｏ−（ＥＯ）_ｎ−Ｘ・・・・（１）
（式中、Ｒ^１は分岐型の炭素数８〜１５であるアルキル基を表し、ＥＯはオキシエチレン基を表し、ｎは０〜１０の整数であり、Ｘはアニオン性親水基を表す。）
Ｒ^２−Ｏ−（ＡＯ）_ｎ−Ｈ・・・・（２）
（式中、Ｒ^２は分岐型の炭素数８〜１５であるアルキル基を表し、ＡＯは炭素数が２〜４のオキシアルキレン基を表し、ｎは１〜２５の整数を表す。ＡＯの付加形態はランダム付加、ブロック付加又はこれらの混合付加である。） （もっと読む）