【課題】表面上もしくはコーティング中の有機汚染の除去を促進し、維持洗浄の必要性を最小にする新規な材料もしくはコーティングを提供する。
【解決手段】ベース、前記ベースと結合した酵素、及び前記ベースと結合した第一のポリオキシエチレンを含み、前記第一のポリオキシエチレンが前記酵素とは無関係であり、前記ベース、前記酵素、及び前記第一のポリオキシエチレンが水安定化活性コーティング組成物を形成する、水安定化活性コーティング組成物。 （もっと読む）

【課題】主成分として炭酸水素ナトリウム（重曹）を前提とし、併用する成分を食品系素材、数種のアルカリ塩とし、界面活性剤を含まず、既成製品と同等以上に安全安心な、洗濯性の向上を図る。
【解決手段】重曹を３０ｗ％以上含み（少なくとも４０〜５０ｗ％）、２種の有機酸塩（クエン酸とグルコン酸）を第２成分として重曹の１／２〜１／３含ませ、その他成分として本組成物を完成させるための条件として、食品系成分が８０ｗ％以上であって、５０００ｐｐｍの水溶液においてｐＨが８．５〜１１になるように、アルカリビルダー系分散剤（炭酸塩や珪酸塩など）を５〜６０ｗ％の範囲内で、適宜組成した事を特徴とし、安全安心な使いやすい粉状体に仕上げたもの。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の基板の表面のコーティング性を向上する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の親水性表面改質が可能な洗浄剤組成物は、組成物の総重量を基準にして、（ａ）０．０００１重量％以上且つ５重量％以下のポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、セルロース、ポリアクリル酸（ＰＡＡ）、ポリエチルオキサゾリン及びポリビニルピロリドンからなる群から選ばれる１種以上の水溶性高分子化合物と、（ｂ）０．０１重量％以上且つ５重量％以下の多価アルコール系化合物と、（ｃ）０．０５重量％以上且つ１０重量％以下の第４級アンモニウム水酸化物と、（ｄ）０．０５重量％以上且つ４０重量％以下の特定のグリコールエーテル系有機溶剤と、（ｅ）残量の水とを含む。 （もっと読む）

【課題】保存後も優れた溶解性を示すアルカリ金属珪酸塩を含有する複合粒子、及びこれを含有する洗剤組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ金属珪酸塩粒子（Ａ）及びアルドン酸塩（Ｂ）を含有する複合粒子。また、本発明の複合粒子と、（Ａ）及び（Ｂ）以外の洗剤成分とを含有する洗剤組成物に関する。保存後の水不溶分が低減され、保存後の溶解性に優れたアルカル金属珪酸塩粒子を含有する複合粒子、及びそれを含有する洗剤組成物が得られる。 （もっと読む）

【課題】６０℃のような低温でハンドリング又は製剤化が可能な界面活性剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）アルキルエーテル硫酸エステル塩を０〜５０質量％、（ｂ）アルキルエーテル硫酸エステル塩を５〜５０質量％、（ｃ）非イオン性界面活性剤を４０〜７０質量％、及び（ｄ）水を配合してなる界面活性剤組成物であって、水の量は、該界面活性剤組成物が６０℃にて構造体を形成しない量である界面活性剤組成物。 （もっと読む）

【課題】低温でも製剤化が可能な、アルキル硫酸塩を含有する界面活性剤組成物を提供すること、該界面活性剤組成物を粉体原料に含浸させて担持させることにより、低温溶解性及び低温分散性に優れる洗剤組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】（ａ）：アルキル硫酸塩を５〜５０質量％、（ｂ）：アルキルエーテル硫酸エステル塩を０〜５０質量％、（ｃ）：非イオン性界面活性剤を４０〜７０質量％、及び（ｄ）：水を含有してなる界面活性剤組成物であって、成分（ｄ）の量は、該界面活性剤組成物が６０℃にて構造体を形成しない量であり、６０℃における粘度が０．８Ｐａ・ｓ以下である界面活性剤組成物。 （もっと読む）

【課題】ゼオライト由来の溶け残りによる染みを低減でき、再汚染防止性に優れた粉末洗剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）陰イオン界面活性剤、（Ｂ）非イオン界面活性剤、（Ｃ）平均粒径が３〜５０μｍのゼオライト５〜６０質量％、（Ｄ）重量平均分子量２０万〜２００万、かつ、エーテル化度０．１８〜０．６５のカルボキシメチルセルロース又はその塩０．１〜１０質量％を含有し、（Ａ）と（Ｂ）の含有量の合計が５〜６０質量％であり、（Ａ）／（Ｂ）質量比が４／６〜６／４であり、平均粒径が１００〜１０００μｍである、粉末洗剤組成物。 （もっと読む）

【課題】噴霧乾燥を使用しない方法にて、陰イオン界面活性剤を含有する、中低嵩密度の洗剤粒子群を収率良く製造する方法を提供すること。
【解決手段】洗剤用粉体原料を容器回転型混合機を用いて造粒する工程を有する洗剤粒子群の製造方法であって、陰イオン界面活性剤組成物の発泡体を、多流体ノズルを用いて該容器回転型混合機内に噴霧して該洗剤用粉体原料の造粒を行う、洗剤粒子群の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は製剤の安定性、洗浄性の向上のみならず、泡のきめ細かさ、泡立ちのよさ、泡の持続性、弾力性等の改良された製剤を得ることにある。
【解決手段】
以下の成分を含むｐＨ５．５〜７．０である液体洗浄剤が、本発明の目的を達成することがわかった。
Ａ） Ｎ−長鎖アシルアミノ酸塩より選ばれる１種以上
Ｂ） ポリエチレングリコールエーテル系増粘剤
Ｃ） 糖およびその誘導体
Ｄ） カチオン性高分子、高重合ポリエチレングリコールより選ばれる１種以上
Ｅ） 水 （もっと読む）

【課題】研磨後の表面粗さの悪化を抑制し、かつ、洗浄性に優れる酸性洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】平均付加モル数が１０〜９０である炭素数２〜４のオキシアルキレン基と、アニオン性基（カルボン酸基を除く）又はその塩とを有する水溶性化合物、酸、及び水を含み、２５℃におけるｐＨが０．５を超え５．０未満である、シリカ研磨材及び／又はシリカ研磨屑が付着した電子材料基板を洗浄するための電子材料基板用酸性洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】化学系洗浄剤と、胞子、細菌、真菌又は酵素との両方を含む固体組成物が必要とされている。
【解決手段】本発明は、ボレート塩及び胞子（細菌又は真菌）、植物性細菌、真菌又は酵素を含む安定な固体クリーニング組成物と、当該組成物を用いる方法とに関する。 （もっと読む）

【課題】使用時の増泡性に優れ、すすぎ時のぬるつきが早く消え、ストップフィーリング性が強く、更に乾燥後の肌の感触にも優れる洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）アニオン性界面活性剤１〜２０質量％、（Ｂ）カチオン基含有ポリマー０．０２〜５質量％、（Ｃ）下記式で示されるカチオン化ヒドロキシプロピルセルロース０．０２〜１０質量％、


（Ｄ）水、を含有する洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】使用中の泡の増泡性に優れ、高い洗浄実感が得られ、ぬるつかずにさっと洗い流せ、繰り返し行われる洗浄にも十分なマイルド性を有する洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）アニオン界面活性剤３〜４０質量％、（Ｂ）炭素数４〜１２のアルキル基又はアルケニル基を有するグリセリルエーテル０．０２〜５質量％、（Ｃ）下記一般式（１）で示されるカチオン化ヒドロキシプロピルセルロース０．０２〜１０質量％、


（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立にカチオン化エチレンオキシ基とプロピレンオキシ基を有する置換基を示し、ｎはアンヒドログルコースの平均重合度を示す２０〜５０００の数である。カチオン化エチレンオキシ基の置換度は０．０１〜３であり、プロピレンオキシ基の置換度は０．０１〜５である。）（Ｄ）水を含有する洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】高温時及び低温時において粘度が安定な洗浄料であり、特に、一旦高温環境に置かれた後、低温環境に保管されても、適切な粘度状態を保つことの出来る洗浄料の提供。
【解決手段】（Ａ）高級脂肪酸塩から選ばれる一種又は二種以上、（Ｂ）ベタイン系両性界面活性剤、（Ｃ）平均重合度２００〜１５４０のポリエチレングリコール、（Ｄ）ＨＬＢ＝４以下のモノステアリン酸グリセリル、（Ｅ）脂肪酸塩を含有した自己乳化型モノステアリン酸グリセリルを配合した洗浄料。脂肪酸アルカリ塩を洗浄基剤とした洗浄料において、高温時、低温時は勿論、高温時から低温時等の過酷な温度変化下においても、適切な粘度が保たれた洗浄料。 （もっと読む）

【課題】セルラーゼ（Ａ）の活性の持続性が高いセルラーゼ組成物及びこれを含有する洗剤組成物を提供する。
【解決手段】下記セルラーゼ（Ａ）、下記セルラーゼ安定化剤（Ｂ）及び水を含有するセルラーゼ組成物（Ｃ）。セルラーゼ（Ａ）：特定のアミノ酸配列である、又はこのアミノ酸配列の１若しくは数個のアミノ酸が欠失、置換及び付加からなる群より選ばれる少なくとも１種により変質したアミノ酸配列有するセルラーゼ。セルラーゼ安定化剤（Ｂ）：マンニトール、トレハロース、セロビオース、グリコール酸、ピロガロール、Ｎ−α−アセチルアルギニン、ソルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート及びヤシ油脂肪酸ソルビタンモノエステルからなる群より選ばれる少なくとも１種であるセルラーゼ安定化剤。セルラーゼ組成物（Ｃ）及び界面活性剤（Ｄ）を含有する洗剤組成物。 （もっと読む）

【課題】繊維製品をより白く仕上げられる漂白性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：周期表の第４周期にある遷移元素の水溶性塩、亜鉛の水溶性塩又は銀の水溶性塩からなる群から選択される１種以上の水溶性金属塩と、（Ｂ）成分：長鎖アルキルアミン化合物と、（Ｃ）成分：過酸化水素又は水中で過酸化水素を生ずる過酸化物と、（Ｄ）成分：非石鹸系アニオン界面活性剤と、（Ｅ）成分：ビフェニル型蛍光剤と、を含有し、（Ｂ）成分／（Ｅ）成分で表される質量比が１．２以上であることよりなる。 （もっと読む）

【課題】リセス等の形成に伴う処理で生じる残渣を適切に除去することができる化合物半導体装置の製造方法及び洗浄剤を提供する。
【解決手段】化合物半導体積層構造１を形成し、化合物半導体積層構造１の一部を除去して凹部４を形成し、洗浄剤を用いて凹部４内の洗浄を行う。洗浄剤は、凹部４内に存在する残渣と相溶する基材樹脂と溶媒とを含む。 （もっと読む）

【課題】水との接触で生じるペースト状の溶け残り、特に洗濯機の洗剤トレイに残留するペースト状の溶け残りを低減できる粉末洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】水との接触で発泡する過炭酸ナトリウムを炭素数１２〜１６の脂肪酸で被覆してなる被覆発泡性過炭酸ナトリウムを３〜５０質量％含有する粉末洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、洗浄時のマッサージ性（洗浄時の滑り感）に優れ、泡立ちや泡持ちも良好である洗浄剤組成物を提供することである。
【解決手段】洗浄剤組成物にカチオン性ポリマーを配合し、且つ５ｍｍ／秒の速度における曳糸長を１０ｍｍ以上となるように処方設計することにより、洗浄時のマッサージ性（洗浄時の滑り感）が優れ、さらに泡立ちや泡持ちも良好になる。 （もっと読む）

【課題】身体清拭、特に顔や乳幼児のお尻の清拭に用いた場合の肌荒れの問題がなく、且つ金属、プラスチックス、塗膜等の硬質表面の清拭後に拭き残りが生じにくく清拭性良好な湿潤ワイパーを提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で示される化合物（例えば旭化成ケミカルズ社製ペリセア（登録商標））を含有することを特徴とする湿潤ワイパー。
【化１】


（上記一般式（１）において、Ｒ¹は炭素数１〜２３の炭化水素基を示し、Ｒ²は水素又は炭素数１〜３の炭化水素基を示し、Ｙはカルボキシル基、スルホン酸基、硫酸エステル基、リン酸エステル基又はそれらの塩を示し、Ｚは−ＮＲ'−（Ｒ'は水素又は炭素数１〜１０の炭化水素基）、−Ｏ−、又は−Ｓ−を示し、ｊ、ｋは０、１、２のいずれかであり、かつｊ、ｋは同時に０ではなく、ｎは２〜２０の整数を示す。Ｘは分子量１００万以下の炭化水素鎖を示す。） （もっと読む）